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Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法

文檔序號:5278375閱讀:289來源:國知局
專利名稱:Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的制備方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的鍍鉻技術(shù)采用的是六價鉻(鉻酸)作為主要的電鍍原料,其工藝簡單,維護方便,而且得到的六價鉻鍍層白亮、硬度高、耐磨性、耐腐蝕性能好,因此,六價鉻鍍層廣泛地應(yīng)用于裝飾性鍍層、功能性鍍層以及工件的修復(fù)等領(lǐng)域。六價鉻鍍層雖然性能良好,應(yīng)用廣泛,但是六價鉻對環(huán)境和人體的危害巨大,會直接破壞人體的消化道、呼吸道及鼻腔粘膜等,并易導(dǎo)致皮炎和濕疹的發(fā)生,六價鉻還有致癌作用,甚至可能造成遺傳基因的缺失,六價鉻鍍液也是污染最嚴(yán)重的、最難處理的電鍍污染源之一。為了降低六價鉻的污染,人們把目光投到三價鉻鍍鉻上,三價鉻鍍液電流效率高、分散能力好,但對雜質(zhì)的敏感程度比較高,三價鍍層的光澤性和耐蝕性略差、耐磨性較好、硬度較低、鍍層薄,通常只能用作裝飾性鍍層。因此,三價鉻電鍍還無法完全取代六價鉻電鍍,同時也不能完全避免Cr6+帶來的污染。所以,代鉻鍍層的研究開發(fā)顯得尤為迫切。目前,根據(jù)鍍層沉積特點,代硬鉻鍍層主要有電鍍Ni-Co、Ni-W、Ni-B等合金及其三(多)元合金,化學(xué)鍍Ni-P、Ni-B等合金及其三(多)元合金,另外還有復(fù)合鍍層代硬鉻鍍層,如Ni-P、Ni-B, Ni-W基復(fù)合鍍層。在這些鍍層中也不乏性能優(yōu)異的鍍層,但這些代鉻鍍層也都有其自身的缺陷,尤其是鍍層的硬度、耐磨性和耐腐蝕性方面,與六價鉻鍍層相比還有一定的差距,所以,還需要更多的研究者來參與代鉻鍍層的研究開發(fā),從而得到性能更優(yōu)的代鉻鍍層。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明目的是提供M-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法。Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取50 150g的鎳鹽、5 15g的鈷鹽、1 IOg的NiCl2 · 6H20、20 50g的硼酸、100 300g的檸檬酸銨、5 50g的含碳化合物、1 IOml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 15 1. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在30 60°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于400 600ml的水中,加入鎳鹽和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸和NiCl2 · BH2O并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為1 8A/dm2、溫度為30 60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30 60min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鎳鹽為硫酸鎳或氨基磺酸鎳;步驟一中鈷鹽為硫酸鈷、氯化鈷或氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸、草酸銨、抗壞血酸、檸檬酸、DL-蘋果酸、丙二酸、甲酸鈉中的一種或幾種的組合;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. 05 0. 5g的1,4_ 丁炔二醇和0. 1 1. Og的糖精組成。Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取50 150g 的NiCl2 ·6Η20、5 15g的鈷鹽、20 50g的硼酸、100 300g的檸檬酸銨、5 50g的含碳化合物、1 IOml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 15 1. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在 30 60°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于400 600ml的水中,加入NiCl2 ·6Η20和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入ΝΙ3# 快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為1 8A/dm2、溫度為30 60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30 60min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鈷鹽為硫酸鈷、氯化鈷或氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸、 草酸銨、抗壞血酸、檸檬酸、DL-蘋果酸、丙二酸、甲酸鈉中的一種或幾種的組合;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. 05 0. 5g的1,4- 丁炔二醇和0. 1 1. Og的糖精組成。本發(fā)明是可獲得外觀良好、耐磨耐蝕性好、硬度能與硬鉻鍍層相媲美的Ni-Co-C 合金鍍層的電沉積制備工藝,從而真正意義上實現(xiàn)代硬鉻電鍍,解決六價鉻重污染的問題。本發(fā)明可以以高于32μπιΛ的沉積速度獲得光亮均勻、硬度為690 770HV5(1、耐蝕性與結(jié)合力良好的Ni-Co-C合金鍍層,電鍍過程中陰極電流效率高于60% ;本發(fā)明所獲得的鍍層經(jīng)過150 400°C下熱處理1 3h后硬度可提高至1049 1100HV5(1。本發(fā)明采用電沉積制備Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層,所得到的鍍層為鎳、鈷、碳三元合金,其組成為鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為50 80 %、鈷的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為5 49 %、碳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為1 15%。三種元素在鍍層中的存在形式主要有Ni、NiaCob、C、NieCd等。Ni-Co-C代鉻鍍層為晶態(tài)與部分非晶態(tài)結(jié)構(gòu)。經(jīng)熱處理后彌散析出細(xì)小的金屬顆粒,使硬度顯著提高。


圖1為實施例1中所得鍍層的表面形貌圖;圖2為實施例1中所得鍍層經(jīng)過Ar+濺射IOmin后的XPS全掃描譜圖;圖3為實施例1中所得鍍層的XRD結(jié)構(gòu)分析圖;圖4為實施例1中所得鍍層腐蝕前的表面形貌圖;圖5為實施例1中所得鍍層腐蝕后的表面形貌圖。
具體實施例方式具體實施方式
一本實施方式Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取50 150g的鎳鹽、5 15g的鈷鹽、1 IOg的NiCl2 · 6H20、20 50g 的硼酸、100 300g的檸檬酸銨、5 50g的含碳化合物、1 IOml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 15 1. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在30 60°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于 400 600ml的水中,加入鎳鹽和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸和NiCl2 · 6H20并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為1 8A/dm2、溫度為30 60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30 60min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;
其中步驟一中鎳鹽為硫酸鎳或氨基磺酸鎳;步驟一中鈷鹽為硫酸鈷、氯化鈷或氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸、草酸銨、抗壞血酸、檸檬酸、DL-蘋果酸、丙二酸、甲酸鈉中的一種或幾種的組合;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. 05 0. 5g的1,4- 丁炔二醇和0. 1 1. Og的糖精組成。本實施方式中附3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑購買自江蘇夢得電鍍化學(xué)品有限公司。本實施方式中檸檬酸銨作為配位劑使用。本實施方式中含碳化合物兩種或兩種以上物質(zhì)時按任意比組成。實施例1 Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取IOOg的鎳鹽、IOg的鈷鹽、Ig的NiCl2 · 6H20、30g的硼酸、250g的檸檬酸銨、15g的含碳化合物、3ml的肌3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在40°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于600ml的水中,加入鎳鹽和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸和NiCl2 · 6H20并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后采用置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為5A/dm2、溫度為50°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍40min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鎳鹽為硫酸鎳;步驟一中鈷鹽為硫酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸銨;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. Ig的1,4_ 丁炔二醇和0. 3g的糖精組成。本實施方式所得鍍層表面硬度為770HV5(1,沉積速度為33. 6ym/h,陰極電流效率為68. 2% ;本實施方式所得鍍層經(jīng)過200°C熱處理池后表面硬度為1049HV5Q。本實施方式所得鍍層的表面形貌如圖1所示,可見鍍層結(jié)晶比較細(xì)致、平整,不存在任何裂紋、孔隙等缺陷;鍍層經(jīng)過Ar+濺射IOmin后的XPS全掃描譜圖如圖2所示,鍍層由鎳、鈷、碳三種元素組成,經(jīng)分峰處理后可知這三種元素在鍍層中主要以Ni、NiaCob、C、NicCd等形式存在;鍍層的XRD結(jié)構(gòu)分析圖如圖3所示,可見鍍層為晶態(tài)與部分非晶態(tài)結(jié)構(gòu);鍍層在3. 5%的NaCl溶液中浸泡腐蝕十天前、后的表面形貌,圖4為鍍層腐蝕前、圖5為鍍層腐蝕后的表面形貌,可見鍍層具有很好的耐蝕性。實施例2 Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取150g的鎳鹽、15g的鈷鹽、Ig的NiCl2 · 6H20、40g的硼酸、150g的檸檬酸銨、30g的含碳化合物、7ml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 4g的應(yīng)力消除劑;二、在50°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于400ml的水中,加入鎳鹽和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸和NiCl2 · 6H20并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得M-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為7A/dm2、溫度為35°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;
其中步驟一中鎳鹽為氨基磺酸鎳;步驟一中鈷鹽為氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為DL-蘋果酸;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. Ig的1,4_ 丁炔二醇和0. 3g的糖精組成。本實施方式所得鍍層表面硬度為694HV5(1,沉積速度為38. 4ym/h,陰極電流效率為69. 8% ;本實施方式所得鍍層經(jīng)過150°C熱處理池后表面硬度為1078HV5Q。
具體實施方式
二 本實施方式與具體實施方式
一不同的是步驟一中稱取IOOg的鎳鹽、IOg的鈷鹽、5g的NiCl2 · 6H20、30g的硼酸、150g的檸檬酸銨、25g的含碳化合物、5ml 的OT3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 5g的應(yīng)力消除劑。其它步驟及參數(shù)與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
三本實施方式與具體實施方式
一不同的是步驟二中在40°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于500ml的水中。其它步驟及參數(shù)與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
四本實施方式與具體實施方式
一不同的是步驟三中在電流密度為 4A/dm2、溫度為45°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍40min。其它步驟及參數(shù)與具體實施方式
一相同。
具體實施方式
五本實施方式Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取50 150g的NiCl2 ·6Η20、5 15g的鈷鹽、20 50g的硼酸、100 300g 的檸檬酸銨、5 50g的含碳化合物、1 IOml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 15 1. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在30 60°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于400 600ml的水中,加入NiCl2 ·6Η20和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入ΝΙ3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為1 8A/dm2、溫度為30 60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30 60min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鈷鹽為硫酸鈷、氯化鈷或氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸、 草酸銨、抗壞血酸、檸檬酸、DL-蘋果酸、丙二酸、甲酸鈉中的一種或幾種的組合;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. 05 0. 5g的1,4- 丁炔二醇和0. 1 1. Og的糖精組成。本實施方式中檸檬酸銨作為配位劑使用。本實施方式中含碳化合物兩種或兩種以上物質(zhì)時按任意比組成。實施例3 Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取120g的 NiCl2 -6H20U2g的鈷鹽、35g的硼酸、150g的檸檬酸銨、25g的含碳化合物、5ml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 6g的應(yīng)力消除劑;二、在50°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于 500ml的水中,加入NiCl2 ·6Η20和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入ΝΙ3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為2A/dm2、溫度為60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍50min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鈷鹽為氯化鈷;步驟一中含碳化合物為抗壞血酸;步驟一中應(yīng)力消
7除劑由0. Ig的1,4- 丁炔二醇和0. 5g的糖精組成。本實施方式所得鍍層表面硬度為690HV5(1,沉積速度為32. 1 μ m/h,陰極電流效率為61. 4% ;本實施方式所得鍍層經(jīng)過200°C熱處理池后表面硬度為1100HV5Q。
具體實施方式
六本實施方式與具體實施方式
五不同的是步驟一中稱取120g的NiCl2 · 6H20、8g的鈷鹽、40g的硼酸、200g的檸檬酸銨、30g的含碳化合物、2ml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 5g的應(yīng)力消除劑。其它步驟及參數(shù)與具體實施方式
五相同。
具體實施方式
七本實施方式與具體實施方式
五不同的是步驟二中在50°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于600ml的水中。其它步驟及參數(shù)與具體實施方式
五相同。
具體實施方式
八本實施方式與具體實施方式
五不同的是步驟三中在電流密度為6A/dm2、溫度為60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍50min。其它步驟及參數(shù)與具體實施方式
五相同。
權(quán)利要求
1.Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取50 150g的鎳鹽、5 15g的鈷鹽、1 IOg的NiCl2 ·6Η20、20 50g的硼酸、100 300g的檸檬酸銨、5 50g的含碳化合物、1 IOml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 15 1. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在30 60°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于400 600ml的水中,加入鎳鹽和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸和NiCl2 · 6H20并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為1 8A/dm2、溫度為30 60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30 60min,水洗后吹干,即完成Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鎳鹽為硫酸鎳或氨基磺酸鎳;步驟一中鈷鹽為硫酸鈷、氯化鈷或氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸、草酸銨、抗壞血酸、檸檬酸、DL-蘋果酸、丙二酸、甲酸鈉中的一種或幾種的組合;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. 05 0. 5g的1,4- 丁炔二醇和0. 1 1. Og的糖精組成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于步驟一中稱取IOOg的鎳鹽、IOg的鈷鹽、5g的NiCl2 · 6H20、30g的硼酸、150g的檸檬酸銨、25g的含碳化合物、5ml的肌3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 5g的應(yīng)力消除劑。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于步驟二中在40°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于500ml的水中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于步驟三中在電流密度為4A/dm2、溫度為45°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍40min。
5.Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法按以下步驟進行一、稱取50 150g的NiCl2 · 6H20、5 15g的鈷鹽、20 50g的硼酸、100 300g的檸檬酸銨、5 50g的含碳化合物、1 IOml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 15 1. 5g的應(yīng)力消除劑;二、在30 60°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于400 600ml的水中,加入NiCl2 · 6H20和鈷鹽并攪拌至溶解,然后加入硼酸并攪拌至溶解,再加入含碳化合物并攪拌至溶解,然后加入NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑和應(yīng)力消除劑并攪拌至溶解,再加水定容至1L,獲得Ni-Co-C合金鍍液;三、鍍件經(jīng)常規(guī)堿性除油或電化學(xué)除油后水洗,然后置于體積濃度為10 20%的鹽酸中活化,水洗后在電流密度為1 8A/dm2、溫度為30 60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍30 60min,水洗后吹干,即完成M-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備;其中步驟一中鈷鹽為硫酸鈷、氯化鈷或氨基磺酸鈷;步驟一中含碳化合物為草酸、草酸銨、抗壞血酸、檸檬酸、DL-蘋果酸、丙二酸、甲酸鈉中的一種或幾種的組合;步驟一中應(yīng)力消除劑由0. 05 0. 5g的1,4- 丁炔二醇和0. 1 1. Og的糖精組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于步驟一中稱取120g的NiCl2 · 6H20、8g的鈷鹽、40g的硼酸、200g的檸檬酸銨、30g的含碳化合物、2ml的NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、0. 5g的應(yīng)力消除劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于步驟二中在50°C的條件下將稱取的檸檬酸銨溶于600ml的水中。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,其特征在于步驟三中在電流密度為6A/dm2、溫度為60°C、攪拌方式為陰極移動的條件下電鍍50min。
全文摘要
Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的電沉積制備方法,它涉及Ni-Co-C合金代硬鉻鍍層的制備方法。方法1取鎳鹽、鈷鹽、NiCl2·6H2O、硼酸、檸檬酸銨、含碳化合物、NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、應(yīng)力消除劑;配置鍍液;鍍件進行電鍍。方法2取NiCl2·6H2O、鈷鹽、硼酸、檸檬酸銨、含碳化合物、NI3#快速高整平鍍鎳光澤劑A劑、應(yīng)力消除劑;配置鍍液;鍍件進行電鍍。本發(fā)明以高于32μm/h的沉積速度獲得光亮均勻、硬度為690~770HV50、耐蝕性良好的Ni-Co-C合金鍍層,電鍍過程中陰極電流效率高于60%,鍍層經(jīng)過150~400℃下熱處理1~3h后硬度可提高至1000~1100HV50。
文檔編號C25D3/56GK102392276SQ20111033808
公開日2012年3月28日 申請日期2011年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月31日
發(fā)明者任雪峰, 安茂忠, 曾鑫, 楊培霞, 郭偉榮, 項昕 申請人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)
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