專利名稱：用于替代硬鉻鍍層的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液及電鍍層生產(chǎn)工藝的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及用于替代硬鉻鍍層的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液及電鍍層生產(chǎn)エ藝，屬于電鍍液及電鍍層生產(chǎn)エ藝技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
目前，硬鉻鍍層(厚度30um 50um)因為其內(nèi)在的高硬度(600 1，000 VHN之間)和低的摩擦系數(shù)(低于O. 2)而廣泛應(yīng)用于傳動耐磨、耐沖刷組件、エ業(yè)以及軍事領(lǐng)域。目前最常用的鍍硬鉻手段是在含鉻酸的電鍍液中電鍍生成，其中產(chǎn)生的六價鉻對人體健康和環(huán)境所造成的危害從30年代初就已經(jīng)被確認(rèn)并限制使用。同吋，電鍍硬鉻涂層エ藝和性能還存在如電流效率低、深鍍能力差等固有缺點。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于解決上述已有技術(shù)存在的不足之處，提供ー種完全能夠超過現(xiàn)有硬鉻鍍層整體性能和生命周期，既環(huán)保又節(jié)能的用于替代硬鉻鍍層的，在電沉積過程中 生成IOnm以下單晶納米晶鈷磷合金鍍層，同時還提供了實現(xiàn)上述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)エ藝。本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的
電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液，其特殊之處在于溶劑為去離子水，溶質(zhì)的各組分及含量如下
鈷離子20 30g/l ；
硼酸30 40g/l ；
憐酸10 50g/l,
十_■燒基硫酸納 O. I O. 3g/l。所述鈷離子來源于硫酸鈷、氯化鈷等可溶性鈷鹽中的至少ー種。電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)エ藝，包括鍍件的預(yù)處理和脈沖電沉積處理過程，其特殊之處在于所述電沉積處理過程是將經(jīng)過預(yù)處理的鍍件作為陰極，將鈦金屬作為陽極，直接置入pH值為2 3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液中進(jìn)行單脈沖電沉積處理；電沉積エ藝參數(shù)包括電沉積時間30 60min，電沉積溫度30 60°C，單脈沖電流密度為3 5A/dm2，單脈沖頻率50 210Hz，占空比為30 60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層。具體エ藝過程如下
步驟I :配制電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
鈷離子20 30g/l ；
硼酸30 40g/l ；
憐酸10 50g/l,
十_■燒基硫酸納 O. I O. 3g/l。所述鈷離子來源于硫酸鈷、氯化鈷等可溶性鈷鹽中的至少ー種。 步驟2 :鍍件的預(yù)處理 將被鍍件表面經(jīng)除油、活化等預(yù)處理去除被鍍件表面的油、污垢層和氧化層；
上述除油過程包括除油、水洗兩個エ序，所述除油是指將通用的金屬清洗劑加熱，然后電化學(xué)陰極除油3分鐘，電化學(xué)陽極除油2分鐘；除油后經(jīng)過兩次水洗，一次水洗是采用20 80°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗采用常溫水噴淋水洗即可；
上述活化過程包括活化、水洗兩個エ序，所述活化是指將被鍍件浸入含有質(zhì)量濃度為5 10%的硝酸鈉水溶液的陽極活化槽內(nèi)，進(jìn)行電化學(xué)陽極活化2 6分鐘；活化后經(jīng)兩次水洗，一次水洗是采用20 80°C熱水進(jìn)行水洗，二次水洗則采用溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟3:電沉積過程
將作為陰極的鍍件和作為陽極的鈦金屬直接置入裝有PH值為2 3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的電鍍槽中，通入單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積，設(shè)定電流密度為3 5A/dm2，單脈沖頻率50 210Hz，保持電沉積溫度30 60°C，電沉積時間30 60min,占空比為30 60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層；
所述單脈沖方波大功率電鍍電源是指電壓為12V、電流500 10000A、波形為標(biāo)準(zhǔn)方波的單脈沖電源。步驟4:電沉積后處理
將電沉積后的鍍件進(jìn)行水洗，以清除鍍件表面雜質(zhì)；
所述水洗是先采用20 80°C熱水進(jìn)行，再使用常溫的溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟5 :干燥去氫
將水洗后的鍍件置入溫度條件為160 240°C的烘箱內(nèi)加熱保溫I 3小吋。本發(fā)明通過使用鈷及鈷化合物電鍍液，通過單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積作業(yè)，其中頻率和占空比連續(xù)可調(diào)，生成高性能的電沉積納米晶鈷磷合金鍍層。本發(fā)明用于替代鉻鍍層的電沉積納米晶鈷磷合金鍍層生產(chǎn)エ藝，既可以使用目前硬鉻電鍍所有的基礎(chǔ)設(shè)施，同時還有著卓越的完全可取代硬鉻涂層的性能。尤其重要的是，這是ー項完全環(huán)保型和低能耗新技術(shù)，不會對環(huán)境造成任何危害，節(jié)約大量的能源。本發(fā)明的目標(biāo)就是用先進(jìn)的納米鍍層技術(shù)來代替?zhèn)鹘y(tǒng)的鍍硬鉻技術(shù)，超過現(xiàn)有硬鉻的整體性能和生命周期，并達(dá)到環(huán)保，節(jié)能的目的。


圖Ia :納米晶體結(jié)構(gòu)顯微鏡示意圖；圖Ib :納米晶體結(jié)構(gòu)晶料尺寸不意 圖2 :本發(fā)明電沉積納米晶鈷磷合金鍍層與硬鉻鍍層鹽霧試驗性能對比示意 圖3 :本發(fā)明電沉積納米晶鈷磷合金鍍層與硬鉻鍍層耐磨損性能對比示意圖。
具體實施例方式以下參照附圖，給出本發(fā)明的具體實施方式
，用來對本發(fā)明的構(gòu)成進(jìn)行進(jìn)ー步說明。電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液，溶劑為去離子水，溶質(zhì)的各組分及含量如下 鈷離子20 30g/l ； 硼酸30 40g/l ；
憐酸10 50g/l,
十_■燒基硫酸納 O. I O. 3g/l。所述鈷離子來源于硫酸鈷、氯化鈷等可溶性鈷鹽中的至少ー種。電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)エ藝，包括鍍件的預(yù)處理和脈沖電沉積處理過程，所述電沉積處理過程是將經(jīng)過預(yù)處理的鍍件作為陰極，將鈦金屬作為陽極，直接置入PH值為2 3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液中進(jìn)行單脈沖電沉積處理；電沉積エ藝參數(shù)包括電沉積時間30 60min，電沉積溫度30 60°C，單脈沖電流密度為3 5A/dm2，單脈沖頻率50 210Hz，占空比為30 60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層。具體エ藝過程如下
步驟I :配制電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液 所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
硫酸鈷100 150g/l
或氯化鈷80 120g/l
硼酸30 40g/l ；
憐酸10 50g/l,
十_■燒基硫酸納 O. I O. 3g/l。步驟2 :鍍件的預(yù)處理
將被鍍件表面經(jīng)除油、活化等預(yù)處理去除被鍍件表面的油、污垢層和氧化層；
上述除油過程包括除油、水洗兩個エ序，所述除油是指將通用的金屬清洗劑加熱，然后電化學(xué)陰極除油3分鐘，電化學(xué)陽極除油2分鐘；除油后經(jīng)過兩次水洗，一次水洗是采用20 80°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗采用常溫水進(jìn)行噴淋水洗即可；
上述活化過程包括活化、水洗兩個エ序，所述活化是指將被鍍件浸入含有質(zhì)量濃度為5 10%的硝酸鈉水溶液的陽極活化槽內(nèi)，進(jìn)行電化學(xué)陽極活化2 6分鐘；活化后經(jīng)兩次水洗，一次水洗是采用20 80°C熱水進(jìn)行水洗，二次水洗則采用溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟3:電沉積過程
將作為陰極的鍍件和作為陽極的鈦金屬直接置入裝有PH值為2 3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的電鍍槽中，通入單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積，設(shè)定電流密度為3 5A/dm2，單脈沖頻率50 210Hz，保持電沉積溫度30 60°C，電沉積時間30 60min,占空比為30 60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層；
所述單脈沖方波大功率電鍍電源是指電壓為12V、電流500 10000A、波形為標(biāo)準(zhǔn)方波的單脈沖電源。步驟4 電沉積后處理
將電沉積后的鍍件進(jìn)行水洗，以清除鍍件表面雜質(zhì)；
所述水洗是先采用20 80°C熱水進(jìn)行，再使用常溫的溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟5 :干燥去氫
將水洗后的鍍件置入溫度條件為160 240°C的烘箱內(nèi)加熱保溫I 3小吋。對電沉積后的電鍍槽內(nèi)繼續(xù)添加消耗的溶質(zhì)，從而實現(xiàn)循環(huán)利用，達(dá)到節(jié)能減排的目的。實施例I
電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)エ藝，包括鍍件的預(yù)處理和脈沖電沉積處理過程，所述電沉積處理過程是將經(jīng)過預(yù)處理的鍍件作為陰極，將鈦金屬作為陽極，直接置入PH值為2的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液中進(jìn)行單脈沖電沉積處理；電沉積エ藝參數(shù)包括電沉積時間30min，電沉積溫度30°C，單脈沖電流密度為3A/dm2，單脈沖頻率50Hz，占空比為30% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層。具體エ藝過程如下
步驟I :配制電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液 所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
硫酸鈷100g/l
硼酸30g/l ；
磷酸10g/l，
十_■燒基硫酸納 O. lg/1。步驟2 :鍍件的預(yù)處理
將被鍍件表面經(jīng)除油、活化等預(yù)處理去除被鍍件表面的油、污垢層和氧化層；
上述除油過程包括除油、水洗兩個エ序，所述除油是指將市售通用的金屬清洗劑加熱，然后電化學(xué)陰極除油3分鐘，電化學(xué)陽極除油2分鐘；除油后經(jīng)過兩次水洗，一次水洗是采用20°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗采用常溫水進(jìn)行水洗即可；
上述活化過程包括活化、水洗兩個エ序，所述活化是指將被鍍件浸入含有質(zhì)量濃度為5%的硝酸鈉水溶液的陽極活化槽內(nèi)，進(jìn)行電化學(xué)陽極活化2分鐘；活化后經(jīng)兩次水洗，一次水洗是采用20°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗則采用溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟3:電沉積過程
將作為陰極的鍍件和作為陽極的鈦金屬直接置入裝有PH值為2的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的電鍍槽中，通入單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積，設(shè)定電流密度為3A/dm2,單脈沖頻率50Hz，保持電沉積溫度30°C，電沉積時間30min，占空比為30% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層；所述單脈沖方波大功率電鍍電源是指電壓為12V、電流500 10000A、波形為標(biāo)準(zhǔn)方波的單脈沖電源。步驟4 電沉積后處理
將電沉積后的鍍件進(jìn)行水洗，以清除鍍件表面雜質(zhì)；
所述水洗是先采用20°C熱水進(jìn)行，再使用常溫的溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟5 :干燥去氫
將水洗后的鍍件置入溫度條件為160°C的烘箱內(nèi)加熱保溫I小吋。
實施例2
電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)エ藝，具體エ藝過程如下
步驟I :配制電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液 所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
硫酸鈷150g/l ；
硼酸40g/l ；
磷酸50g/l,
十_■燒基硫酸納 O. 3g/l。步驟2:鍍件的預(yù)處理
將被鍍件表面經(jīng)除油、活化等預(yù)處理去除被鍍件表面的油、污垢層和氧化層；
上述除油過程包括除油、水洗兩個エ序，所述除油是指將通用的金屬清洗劑加熱，然后電化學(xué)陰極除油3分鐘，電化學(xué)陽極除油2分鐘；除油后經(jīng)過兩次水洗，一次水洗是采用80°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗采用常溫水進(jìn)行噴淋水洗即可；
上述活化過程包括活化、水洗兩個エ序，所述活化是指將被鍍件浸入含有質(zhì)量濃度為10%的硝酸鈉水溶液的陽極活化槽內(nèi)，進(jìn)行電化學(xué)陽極活化6分鐘；活化后經(jīng)兩次水洗，一次水洗是采用80°C熱水進(jìn)行水洗，二次水洗則采用溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟3:電沉積過程
將作為陰極的鍍件和作為陽極的鈦金屬直接置入裝有PH值為3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的電鍍槽中，通入單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積，設(shè)定電流密度為5A/dm2,單脈沖頻率210Hz，保持電沉積溫度60°C，電沉積時間60min，占空比為60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層；
所述單脈沖方波大功率電鍍電源是指電壓為12V、電流500 10000A、波形為標(biāo)準(zhǔn)方波的單脈沖電源。步驟4 電沉積后處理
將電沉積后的鍍件進(jìn)行水洗，以清除鍍件表面雜質(zhì)；
所述水洗是先采用80°C熱水進(jìn)行，再使用常溫的溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟5 :干燥去氫
將水洗后的鍍件置入溫度條件為240°C的烘箱內(nèi)加熱保溫3小吋。實施例3電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)エ藝，具體エ藝過程如下
步驟I :配制電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液 所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
氯化鈷80g/l ；
硼酸35g/l ；
磷酸30g/l,
十_■燒基硫酸納 O. 2g/l。步驟2 :鍍件的預(yù)處理
將被鍍件表面經(jīng)除油、活化等預(yù)處理去除被鍍件表面的油、污垢層和氧化層；
上述除油過程包括除油、水洗兩個エ序，所述除油是指將市售通用的金屬清洗劑加熱，然后電化學(xué)陰極除油3分鐘，電化學(xué)陽極除油2分鐘；除油后經(jīng)過兩次水洗，一次水洗是采用50°C熱水進(jìn)行水洗，二次水洗采用常溫水進(jìn)行噴淋水洗即可；
上述活化過程包括活化、水洗兩個エ序，所述活化是指將被鍍件浸入含有質(zhì)量濃度為8%的硝酸鈉水溶液的陽極活化槽內(nèi)，進(jìn)行電化學(xué)陽極活化4分鐘；活化后經(jīng)兩次水洗，一次水洗是采用50°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗則采用溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟3:電沉積過程
將作為陰極的鍍件和作為陽極的鈦金屬直接置入裝有PH值為3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的電鍍槽中，通入單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積，設(shè)定電流密度為4A/dm2,單脈沖頻率130Hz，保持電沉積溫度45°C，電沉積時間45min，占空比為50% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層；
所述單脈沖方波大功率電鍍電源是指電壓為12V、電流500 10000A、波形為標(biāo)準(zhǔn)方波的單脈沖電源。步驟4 電沉積后處理
將電沉積后的鍍件進(jìn)行水洗，以清除鍍件表面雜質(zhì)；
所述水洗采用50°C熱水進(jìn)行，再使用常溫的溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗；
步驟5 :干燥去氫
將水洗后的鍍件置入溫度條件為200°C的烘箱內(nèi)加熱保溫2小吋。實施例4
本實施例與實施例3的不同之處在于，所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
氯化鈷120g/l ；
硼酸35g/l ；
磷酸30g/l,
十_■燒基硫酸納 O. 2g/l。實施例5
本實施例與實施例3的不同之處在于，所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下氯化鈷100g/l ；
硼酸35g/l ；
磷酸30g/l,
十_■燒基硫酸納 O. 2g/l。實施例6 本實施例與實施例2的不同之處在于，所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下
硫酸鈷125g/l ；
硼酸35g/l ；
磷酸30g/l,
十_■燒基硫酸納 O. 2g/l。本發(fā)明技術(shù)方案與現(xiàn)有同類產(chǎn)品或方法比較具有的優(yōu)點或能夠達(dá)到的有益技術(shù)效果
I、電流效率高，沉積速度快，最高可達(dá)60um/h，鍍同等厚度能耗只有鍍硬鉻的1/3。2、深鍍能力好，一次鍍厚可達(dá)2000um以后，深鍍能力是鍍硬鉻的10 18倍。3、環(huán)保效果好，廢液中不含六價鉻，金屬離子全部可以回收，而且回收簡單容易，排放完全達(dá)標(biāo)。4、耐腐蝕效果好，中性鹽霧試驗最高可以達(dá)到1000小時，遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過鍍硬鉻的最高200小時。5、摩擦系數(shù)比鍍硬鉻的低，從而使得同等條件下磨損量也只有鍍硬鉻的1/2。
權(quán)利要求
1.電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液，其特征在于溶劑為去離子水，溶質(zhì)的各組分及含量如下 鈷離子20 30g/l ； 硼酸30 40g/l ； 憐酸10 50g/l, 十_■燒基硫酸納 O. I O. 3g/l。
2.如權(quán)利要求I所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液，其特征在于所述鈷離子來源于硫酸鈷、氯化鈷中的至少一種。
3.電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，包括鍍件的預(yù)處理和脈沖電沉積處理過程，其特征在于所述電沉積處理過程是將經(jīng)過預(yù)處理的鍍件作為陰極，將鈦金屬作為陽極，直接置入pH值為2 3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液中進(jìn)行單脈沖電沉積處理；電沉積工藝參數(shù)包括電沉積時間30 60min，電沉積溫度30 60°C，單脈沖電流密度為3 5A/dm2,單脈沖頻率50 210Hz，占空比為30 60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層。
4.如權(quán)利要求3所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于具體工藝過程如下 步驟I :配制電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液 所述電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的組分及含量如下 鈷離子20 30g/l ； 硼酸30 40g/l ； 憐酸10 50g/l, 十二烷基硫酸鈉 O. I O. 3g/l ； 步驟2 :鍍件的預(yù)處理 將被鍍件表面經(jīng)除油、活化等預(yù)處理去除被鍍件表面的油、污垢層和氧化層； 步驟3:電沉積過程 將作為陰極的鍍件和作為陽極的鈦金屬直接置入裝有PH值為2 3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液的電鍍槽中，通入單脈沖方波大功率電鍍電源進(jìn)行電沉積，設(shè)定電流密度為3 5A/dm2，單脈沖頻率50 210Hz，保持電沉積溫度30 60°C，電沉積時間30 60min,占空比為30 60% ;最終獲得粒徑小于IOnm的納米晶鈷磷合金鍍層。
5.如權(quán)利要求4所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于，所述步驟3電沉積過程之后還包括有 步驟4:電沉積后處理 將電沉積后的鍍件進(jìn)行水洗，以清除鍍件表面雜質(zhì)； 步驟5 :干燥去氫 將水洗后的鍍件置入溫度條件為160 240°C的烘箱內(nèi)加熱保溫I 3小時。
6.如權(quán)利要求4所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于所述鈷離子來源于硫酸鈷、氯化鈷中的至少一種。
7.如權(quán)利要求4所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于步驟2鍍件預(yù)處理中，所述除油過程包括除油、水洗兩個工序，所述除油是指將通用的金屬清洗劑加熱，然后電化學(xué)陰極除油3分鐘，電化學(xué)陽極除油2分鐘；除油后經(jīng)過兩次水洗，一次水洗是采用20 80°C熱水進(jìn)行水洗,二次水洗采用常溫水進(jìn)行噴淋水洗即可。
8.如權(quán)利要求4所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于步驟2鍍件預(yù)處理中，所述活化過程包括活化、水洗兩個工序，所述活化是指將被鍍件浸入含有質(zhì)量濃度為5 10%的硝酸鈉水溶液的陽極活化槽內(nèi)，進(jìn)行電化學(xué)陽極活化2 6分鐘；活化后經(jīng)兩次水洗，一次水洗是采用20 80°C熱水進(jìn)行水洗，二次水洗則采用溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗。
9.如權(quán)利要求5所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于所述的步驟4電沉積后處理中，所述水洗是先采用20 80°C熱水進(jìn)行，再使用常溫的溶解性固體總含量少于50ppm的純水進(jìn)行噴淋水洗。
10.如權(quán)利要求4所述電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，其特征在于所述的步驟4電沉積后處理中，所述單脈沖方波大功率電鍍電源是指電壓為12V、電流500 10000A、波形為標(biāo)準(zhǔn)方波的單脈沖電源。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于替代硬鉻鍍層的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液及電鍍層生產(chǎn)工藝，屬于電鍍液及電鍍層生產(chǎn)工藝技術(shù)領(lǐng)域。電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液，其特征在于溶劑為去離子水，溶質(zhì)的各組分及含量如下鈷離子20～30g/l；硼酸30～40g/l；磷酸10～50g/l，十二烷基硫酸鈉0.1～0.3g/l。電沉積納米晶鈷磷合金鍍層的生產(chǎn)工藝，包括鍍件的預(yù)處理和脈沖電沉積處理過程，其特征在于所述電沉積處理過程是將經(jīng)過預(yù)處理的鍍件作為陰極，將鈦金屬作為陽極，直接置入pH值為2～3的電沉積納米晶鈷磷合金電鍍液中進(jìn)行單脈沖電沉積處理；電沉積工藝參數(shù)包括電沉積時間30～60min，電沉積溫度30～60℃，單脈沖電流密度為3～5A/dm2,單脈沖頻率50～210Hz，占空比為30～60%；最終獲得粒徑小于10nm的納米晶鈷磷合金鍍層。
文檔編號C25D3/56GK102732919SQ20121025020
公開日2012年10月17日 申請日期2012年7月19日 優(yōu)先權(quán)日2012年7月19日
發(fā)明者王經(jīng)國 申請人:煙臺星輝航空液壓有限公司