專利名稱：可控降解的微弧氧化金屬支架及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于植入醫(yī)療器械領(lǐng)域，涉及一種經(jīng)過防腐膜層處理的、 可以延緩鎂合金的降解速率、延長支架的使用壽命的可控降解的微弧 氧化金屬支架及其制備方法。
背景技術(shù)：
鎂是地球上儲(chǔ)量最豐富的元素之一，也是人體內(nèi)第四位、細(xì)胞內(nèi) 第二位最豐富的陽離子，是人體中不可缺少的重要營養(yǎng)元素，在人體中總量約20多克。鎂在生命過程中可以促進(jìn)骨及細(xì)胞的形成，催化 或激活機(jī)體300多種酶系，參與體內(nèi)能量代謝，并且在能量的輸送、 貯存和利用中起關(guān)鍵作用。鎂在體內(nèi)三大代謝中通過調(diào)節(jié)核糖體 DNA和RNA的結(jié)構(gòu)來影響蛋白質(zhì)的合成。鎂在水介質(zhì)中發(fā)生化學(xué)反 應(yīng)轉(zhuǎn)變?yōu)殒V離子，鎂離子通過體內(nèi)的吸收和腎臟的代謝來調(diào)節(jié)平衡， 從而使鎂合金材料在體內(nèi)逐漸被降解吸收。鎂合金因具有良好的力學(xué) 性能和降解產(chǎn)物的最小副作用等優(yōu)點(diǎn)而成為支架的優(yōu)選材料。鎂作為 生物醫(yī)用材料具有良好的醫(yī)學(xué)安全性，尤其適用于心血管疾病的治 療。鎂合金支架具有良好的磁共振MRI ( magnetic resonance imaging) 相容性，但在"x光"下不能顯示，置入時(shí)必須釆用血管內(nèi)超聲引導(dǎo)。 現(xiàn)有技術(shù)中鎂合金支架普遍存在的問題是降解速率過快，在大約2個(gè) 月內(nèi)已完全降解。因此，由于鎂的化學(xué)性質(zhì)活潑，鎂支架必需進(jìn)行適當(dāng)?shù)谋砻姹Ｗo(hù) 處理方能使用。常用的鎂合金表面處理有化學(xué)氧化和陽極氧化。鎂合 金陽極氧化膜比化學(xué)氧化膜具有更好的保護(hù)性，鎂合金經(jīng)陽極氧化處 理后具有較好的耐蝕性?？山到飧叻肿硬牧暇哂袩o毒、無刺激性，易加工成型，載藥量大等優(yōu)點(diǎn)。這種高分子材料可以通過調(diào)節(jié)分子量和聚合物層的厚度來固 定不同的藥物和藥量，載藥量一般大于30%。將可降解高分子材料 涂敷于經(jīng)氧化處理的鎂合金支架上，用以攜帶各種治療性藥物。但目前現(xiàn)有技術(shù)中釆用陽極氧化處理鎂合金表面的耐腐蝕性還 不夠高，使用壽命短且陽極氧化工藝過程復(fù)雜。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種可控降解的微弧氧化金屬支架及其制 備方法，使用該支架既可保證降解過程中材料的力學(xué)性能，又能延長 鎂合金支架的降解時(shí)間，同時(shí)還可以攜帶所需的治療藥物，滿足臨床 治療需要。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供一種可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法，該方法包括以下步驟Sl:選用可降解的金屬加工成支架；S2:對(duì)所述支架進(jìn)行預(yù)處理，去除支架表面的氧化物；S3:將所述支架放入微弧氧化電解液中，所述支架作為電解槽的陽極，通入直流或交流電進(jìn)行微弧氧化處理，使所述支架的表面具有微弧氧化膜層；S4:將微弧氧化處理后的支架依次用去離子水、超聲波清洗機(jī)進(jìn)行清洗；S5:在清洗后的支架表面噴涂可降解高分子材料。 其中，所述步驟S1中可降解的金屬為鎂或鎂合金。 其中，在步驟S5之后，還包括下述步驟使支架勻速旋轉(zhuǎn)；用 含有1% ~15%雷帕霉素或紫杉醇的溶液對(duì)支架進(jìn)行定向噴涂1~15次。其中，在步驟S2中，所述預(yù)處理包括對(duì)所述支架進(jìn)行拋光的 機(jī)械處理步驟；對(duì)拋光處理后的支架用酸液清洗步驟；對(duì)用酸液清洗 后的支架用超聲波清洗步驟。其中，在步驟S3中，通入直流電進(jìn)行微弧氧化處理時(shí)，將不繡鋼絲作為電解槽的陰極，先釆用20-40V陽極電壓氧化IO分鐘，再 用50-200V的陽極電壓氧化10-60分鐘。其中，在步驟S3中，通入交流電進(jìn)行微弧氧化處理時(shí)，將另一 個(gè)同樣的支架作為電解槽的陰極，所述交流電壓的范圍為20-200V, 交流頻率為20~200Hz，占空比為0.1-0.9,通入時(shí)間為10~60分鐘。其中，在步驟S3中，所述電解液的組成為硅酸鈉5 50g/L,氫氧化鉀或氫氧化鈉5~ 100g/L，氟化鈉或氟 化鉀10 40g/L，磷酸鹽、硼酸鹽、硅酸鹽、每酸鹽、氟化物中任一 種l 10g/L,梓檬酸鹽、草酸鹽、醋酸鹽中任一種1 ~ 10g/L,甘醇、 丙三醇中任一種1 ~ 10mL。其中，所述電解液的pH值在10-13之間。本發(fā)明還提供了 一種利用上述方法制備的可控降解的微弧氧化 金屬支架，所述支架以鎂或鎂合金為基體，所述支架的表面具有經(jīng)過 微弧氧化處理后形成的微弧氧化膜層，在所述微弧氧化膜層表面噴涂 有可降解高分子材料，所述可降解高分子材料攜帶有治療性藥物。使用本發(fā)明的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法及其制備 方法具有以下優(yōu)點(diǎn)1. 優(yōu)異的機(jī)械和藥物學(xué)性能經(jīng)過表面涂覆處理的可控降解的血 管支架，以純鎂及鎂合金為材料，保持了金屬材料所具備的優(yōu)異的機(jī) 械性能，使鎂材料植入器件在服役期間能夠有效保持良好的力學(xué)性 能；同時(shí)表面可降解高分子層的使用，極大提高了支架所需攜帶藥物 的種類和數(shù)量，提高了藥物固定的穩(wěn)定性；這種高分子材料可以通過 調(diào)節(jié)分子量和聚合物層的厚度來固定不同的藥物和藥量，載藥量一般 大于30%;2. 鎂材料降解速率降低，支架使用壽命延長由于高分子材料 的不致密性，不論其厚度如何，高分子材料都難以阻止水分子，特別是氯離子到達(dá)鎂合金表面，因此鎂合金會(huì)與高分子材料同時(shí)開始降 解；微弧氧化技術(shù)利用高壓高電流的作用在陽極區(qū)產(chǎn)生等離子體微弧 放電，使陽極區(qū)局部產(chǎn)生高溫，熔化鎂材料表面的氧化物，生成一種氧化鎂陶瓷膜層覆蓋于金屬表面，稱為微弧氧化膜層；該膜層硬度、 致密度、耐磨性、耐蝕性都優(yōu)于陽極氧化膜，鎂合金表面微弧氧化防 腐涂層的制備，極大地降低了鎂合金的降解速率，延長了支架的使用 壽命，避免了因支架降解而導(dǎo)致的功能降低的問題。


圖l為本發(fā)明可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
以下實(shí)施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。本發(fā)明中的可控降解的微弧氧化金屬支架的基體為純鎂或鎂合 金材料，鎂或鎂合金支架的陽極氧化處理過程中，在較高的陽極氧化 電位下，陽極化過程中常會(huì)發(fā)生火花放電的現(xiàn)象，這樣的陽極氧化稱 為微弧氧化。微弧氧化技術(shù)以其工藝簡單、效率高、無污染、處理工 件能力強(qiáng)等特點(diǎn)，得以迅速發(fā)展，使鎂或鎂合金支架的各項(xiàng)性能有了 很大的改善。鎂或鎂合金支架微弧氧化后形成的微弧氧化膜層，基本 能夠滿足鎂合金支架的耐蝕性要求，達(dá)到其設(shè)計(jì)使用壽命。本發(fā)明提供的一種可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法，支架 上的微弧氧化膜層可以明顯降低支架的腐蝕速率，延長支架的使用壽 命。支架上的可降解高分子材料涂層用以攜帶各種治療性藥物。如圖l為本發(fā)明可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法的流程 圖，該制備方法主要包括以下步驟(1) 選用可降解的鎂或鎂合金作支架的基體，將其機(jī)械加工為支架；(2) 對(duì)所述支架進(jìn)行預(yù)處理，去除支架表面的氧化物；(3) 將所述支架放入微弧氧化電解液中，所述支架作為電解槽的陽極，通入直流或交流電進(jìn)行微弧氧化處理，使所述支架的表面具 有微弧氧化膜層；(4) 將微弧氧化處理后的支架依次用去離子水、超聲波清洗機(jī)進(jìn)行清洗；(5) 在清洗后的支架表面噴涂可降解高分子材料，所述可降解 高分子材料攜帶治療性藥物。本發(fā)明的可降解支架以純鎂或鎂合金材料為基體，其表面首先進(jìn) 行微弧氧化處理，然后涂覆一層可降解的高分子材料。這種結(jié)構(gòu)既可 保證降解過程中材料的力學(xué)性能，又延長了鎂合金支架的降解時(shí)間， 同時(shí)還可以攜帶所需的治療藥物，滿足臨床治療需要。所述純鎂為醫(yī)用純鎂或高純鎂;鎂合金為鎂鋁系列合金、鎂錳系 列合金、鎂鋅系列合金、鎂鋯系列合金、鎂稀土系列合金、鎂鋰系列 合金、鎂鉤系列合金、或鎂銀系列合金等不同的合金體系的一種或由 這些體系組合而成的三元系和多元系鎂合金。所述鎂合金中合金元素的含量基本上應(yīng)滿足生物醫(yī)用的要求，使 其在降解過程中的降解量應(yīng)在不引起組織毒性反應(yīng)的劑量范圍內(nèi)。純鎂或鎂合金材料的預(yù)處理本發(fā)明中純鎂或鎂合金材料的預(yù)處理包括機(jī)械預(yù)處理和化學(xué)預(yù) 處理?；瘜W(xué)預(yù)處理又包括酸性溶液清洗和超聲波清洗。鎂金屬表面首 先經(jīng)逐級(jí)變細(xì)的砂紙打磨，機(jī)械去除表面的氧化物。然后立即浸入質(zhì)量濃度為80~260g/L的鉻酸溶液中1~15分鐘，操作溫度為80 ~ IO(TC。最后將鎂金屬支架放在型號(hào)為KQ- 700DA的超聲波清洗機(jī) 中以40 ~ 100kHz的頻率清洗5 ~ 20分鐘。 鎂金屬支架微弧氧化電解液的組成本發(fā)明中.電解液的組成為硅酸鈉5 50g/L，氫氧化鉀(或氫氧 化鈉)5~100g/L,氟化鈉(或氟化鉀)10~40g/L。還有磷酸鹽、硼 酸鹽、硅酸鹽、鋁酸鹽、氟化物等無機(jī)物l~10g/L。檸檬酸鹽、草酸鹽、醋酸鹽等有機(jī)酸鹽l~10g/L。甘醇、丙三醇等穩(wěn)定劑l~10mL。 溶液的pH值在10-13之間。 鎂金屬支架微弧氧化工藝條件 鎂材料的微弧氧化處理釆用交流電源或直流電源。 交流電源的工藝參數(shù)電解槽的陰、陽極均釆用鎂金屬支架，釆用對(duì)稱交流脈沖電壓對(duì) 鎂支架表面進(jìn)行微弧電沉積。在微弧氧化過程中，不斷調(diào)節(jié)電源的輸 出電壓，維持支架表面的微弧放電，但槽壓應(yīng)低于650V，使鎂支架 表面獲得均勻的陶瓷涂層。電壓20 — 200V,頻率20~200Hz，占空比0.1 — 0.9,時(shí)間 10 60min。溶液溫度30~60°C。溶液的pH值在10 ~ 13之間。直流電源的工藝參數(shù)將鎂材料支架作陽極，不銹鋼絲作陰極。在電解液中，對(duì)鎂材料 支架表面進(jìn)行微弧氧化處理。陽極電壓先釆用20 40V氧化10min， 再用50-200V的電壓氧化10 60min。溶液溫度30~60°C。溶液 的pH值在10~ 13之間。微弧氧化完成后，取出鎂支架進(jìn)行超聲波沖洗、烘干。 本發(fā)明所涉及的可降解高分子材料主要包括聚乳酸(PLA)、聚 左旋乳酸(PLLA)、聚乙交酯(聚羥基乙酸，PGA )、聚氰基丙烯酸酯 (PACA),聚己酸內(nèi)酯(PCL)、聚酸酐(包括脂肪族聚酸酐，芳香族聚 酸酐，雜環(huán)族聚酸酐，聚酰酸酐及可交聯(lián)聚酸酐等)、聚乳酸共聚物 (PLGA)、聚羥基丁酸戊酯(PHBV)、聚乙酰谷氨酸(PAGA)、聚正 酯(POE)、聚氧化乙烯/聚丁烯共聚物(PEO/PBTP),聚原酸酯、聚己內(nèi) 酯、聚羥基乙酸.、聚氧化乙烯/聚對(duì)苯二甲酸丁二酯共聚物、異丁烯 酸鹽[酯](甲基丙烯酸鹽[酯])、聚亞安酯、硅樹脂、聚乙烯乙醇、乙 烯基乙醇、聚羥基乙酸、聚磷酸酯酶等，以及上述聚合物之間的共聚 物等。此外還有膠原蛋白、明膠、甲殼素等天然可降解高分子材料。上述材料除可制成血管支架外，還可制成骨縫合線、骨釘、骨連 接件，脊椎骨盤，縫合用錨，止血鉗、止血螺絲、止血板、止血夾， 以及組織粘合劑、密封劑，人造骨等醫(yī)療設(shè)施。其在體液及模擬體液 中的降解速率己經(jīng)可以根據(jù)治療需要進(jìn)行調(diào)整和控制。本發(fā)明所涉及的表面涂覆工藝可采用浸涂、熱噴涂、靜電涂敷、 溶膠凝膠、超臨界液態(tài)涂敷等方法。鎂合金支架被固定后勻速旋轉(zhuǎn)，含有1% ~15%雷帕霉素或紫杉醇的溶液對(duì)支架進(jìn)行定向噴涂。根據(jù)支架表面藥物含量要求噴涂1~15次。本發(fā)明可降解高分子材料涂層所載藥物主要包括抗增殖試劑、抗 有絲分裂試劑、抗生素、蒽環(huán)類抗生素、博來霉素、光輝霉素、酶等， 還有抗血小板試劑、抗代謝藥物、激素類藥物、抗凝藥物、溶解纖維 蛋白藥物、抑制分泌藥物、消炎藥物、非類固醇類藥物等。本發(fā)明可降解支架的特點(diǎn)為支架以鎂或鎂合金為基體，所述支 架的表面具有經(jīng)過微弧氧化處理后形成的微弧氧化膜層，在所述微弧 氧化膜層表面噴涂有可降解高分子材料，所述可降解高分子材料攜帶 有治療性藥物。下面給出本發(fā)明可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法兩個(gè)優(yōu) 選的實(shí)施例。 實(shí)施例l本實(shí)施例中選用高純鎂材料為基體，高純鎂經(jīng)拋光后，用激光雕刻成血管支架；先用逐級(jí)變細(xì)的砂紙打磨，機(jī)械去除表面的氧化物；然后立即浸入質(zhì)量濃度80g/L的鉻酸溶液中，在8(TC條件下酸洗10 分鐘；再將鎂金屬支架放在型號(hào)為KQ-700DA臺(tái)式數(shù)控超聲波清洗 機(jī)中，以60kHz的頻率清洗15分鐘。利用超聲波對(duì)支架表面進(jìn)行清洗應(yīng)包括步驟(1)使用濃度為 75%的醫(yī)用乙醇溶劑清洗5分鐘；(2)使用濃度為99.5%的丙酮分析純?nèi)芤呵逑?分鐘；(3)使用去離子水清洗5分鐘。最后將清洗后的鎂合金支架放置在干燥機(jī)中干燥。然后將支架放在電解液中，高純鎂材料作陽極，不銹鋼絲作陰極。通直流電對(duì)該支架進(jìn)行微弧氧化防腐處理。陽極電壓先釆用20V氧 化10分鐘，再用50V的電壓氧化20分鐘。電解液放在4(TC的恒溫 水域中。溶液的pH值保持在10~13之間。本實(shí)施例中電解液組成為硅酸鈉15g/L，氫氧化鉀20g/L，氟化鈉10g/L,磷酸鈉3g/L,醋 酸鈉2g/L,丙三醇2mL。將經(jīng)微弧氧化防腐處理的高純鎂支架放入聚乳酸(PLA)溶液(濃 度為1.0g/mL)中浸泡15分鐘，在飛鴿TGL-16G離心機(jī)上，以1000 轉(zhuǎn)/分鐘的速度離心處理3分鐘，然后將支架放入真空干燥箱內(nèi)干燥。 以甲醇作溶劑，以10ug/ml的雷帕霉素噴涂支架，重復(fù)噴涂10次。 實(shí)施例2將AZ91D鎂合金經(jīng)拋光后，激光雕刻成血管支架。先用逐級(jí)變 細(xì)的砂紙打磨，去除表面的氧化物。然后立即浸入質(zhì)量濃度為100g/L 的鉻酸溶液中，在IO(TC條件下酸洗IO分鐘。再將鎂金屬支架放在 KQ- 700DA的超聲波清洗池中以80kHz的頻率清洗15分鐘。利用 超聲波對(duì)支架表面進(jìn)行清洗應(yīng)包括(1)使用濃度為75%的醫(yī)用乙醇 溶劑清洗5分鐘；(2)使用濃度為99.5%的丙酮分析純?nèi)芤呵逑?分 鐘；(3)使用去離子水清洗5分鐘。最后將清洗后的支架放置在千燥 機(jī)中干燥。然后將支架放在電解液中，取兩只相同的鎂合金支架作電解槽的 陰、陽極，采用對(duì)稱交流脈沖電壓對(duì)鎂合金支架表面進(jìn)行微弧電沉積。 在微弧氧化過程中，不斷調(diào)節(jié)電源的輸出電壓，維持支架表面的微弧 放電，但槽壓應(yīng)低于650V。所用交流電壓為40V,交流電頻率為80Hz, 占空比為0.7,氧化時(shí)間40min。電解液放在40°C的恒溫水域中。溶液的pH值保持在10~13之間。 電解液組成為硅酸鈉25g/L,氫氧化鉀20g/L,氟化鈉20g/L，醋酸鈉和檸檬酸 鈉各2g/L,甘醇3mL。再將支架放入1.0 mg/mL聚己內(nèi)酯(PCL)溶液中浸泡30分鐘，在 飛鴿TGL-16G離心機(jī)上，以1000轉(zhuǎn)/分鐘的速度離心處理3分鐘，然后將支架放入真空干燥箱內(nèi)干燥。以四氫呋喃作有機(jī)溶劑，紫杉醇 濃度是10ug/ml,重復(fù)浸涂四次。雖然本發(fā)明是結(jié)合以上優(yōu)選實(shí)施例示出和說明的，但是熟悉該技 術(shù)領(lǐng)域的人員可以理解，其中無論在形式上還是在細(xì)節(jié)上都可以做出 各種改變，這并不背離本發(fā)明的精神實(shí)質(zhì)和專利保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1、一種可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法，其特征在于，該方法包括以下步驟S1選用可降解的金屬加工成支架；S2對(duì)所述支架進(jìn)行預(yù)處理，去除支架表面的氧化物；S3將所述支架放入微弧氧化電解液中，所述支架作為電解槽的陽極，通入直流或交流電進(jìn)行微弧氧化處理，使所述支架的表面具有微弧氧化膜層；S4將微弧氧化處理后的支架依次用去離子水、超聲波清洗機(jī)進(jìn)行清洗；S5在清洗后的支架表面噴涂可降解高分子材料。
2、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法， 其特征在于，所述步驟S1中可降解的金屬為鎂或鎂合金。
3、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法， 其特征在于，在步驟S5之后還包括步驟使支架句速旋轉(zhuǎn)；用含有 1% ~ 15%雷帕霉素或紫杉醇的溶液對(duì)支架進(jìn)行定向噴涂1 ~ 15次。
4、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法， 其特征在于，在步驟S2中，所述預(yù)處理包括對(duì)所述支架進(jìn)行拋光 的機(jī)械處理步驟；對(duì)拋光處理后的支架用酸液清洗步驟；對(duì)用酸液清 洗后的支架用超聲波清洗步驟。
5、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法， 其特征在于，在步驟S3中，通入直流電進(jìn)行微弧氧化處理時(shí)，將不 繡鋼絲作為電解槽的陰極。
6、 如權(quán)利要求5所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法， 其特征在于，先釆用20-40V陽極電壓氧化IO分鐘，再用50-200V 的陽極電壓氧化10~60分鐘。
7、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法，其特征在于，在步驟S3中，通入交流電進(jìn)行微弧氧化處理時(shí)，將另 一個(gè)同樣的支架作為電解槽的陰極。
8、 如權(quán)利要求7所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法,其特征在于，所述交流電壓的范圍為20-200V,交流頻率為20~ 200Hz，占空比為0.1~0.9，通入時(shí)間為10~60分鐘。
9、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方法， 其特征在于，在步驟S3中，所述電解液的組成為硅酸鈉5 50g/L,氫氧化鉀或氫氧化鈉5~ 100g/L，氟化鈉或氟 化鉀10 40g/L,磷酸鹽、硼酸鹽、硅酸鹽、鋁酸鹽、氟化物中任一 種l 10g/L,檸檬酸鹽、草酸鹽、醋酸鹽中任一種l~10g/L，甘醇、 丙三醇中任一種1 ~ 10mL。
10、 如權(quán)利要求1所述的可控降解的微弧氧化金屬支架制備方 法，其特征在于，所述電解液的pH值在10~13之間。
11、 一種由權(quán)利要求l-9之任一所述的方法制備的可控降解的微 弧氧化金屬支架，其特征在于，所述支架以鎂或鎂合金為基體，所述 支架的表面具有經(jīng)過微弧氧化處理后形成的微弧氧化膜層，在所述微 弧氧化膜層表面噴涂有可降解高分子材料，所述可降解高分子材料攜 帶有治療性藥物。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種可控降解的微弧氧化金屬支架及其制備方法，該支架具有微弧氧化膜層和可降解高分子涂層，該方法包括步驟將可降解的金屬加工成支架；對(duì)支架進(jìn)行預(yù)處理，去除支架表面的氧化物；將支架放入微弧氧化電解液中，支架作為電解槽的陽極，通入直流或交流電進(jìn)行微弧氧化處理，使支架的表面具有微弧氧化膜層；將微弧氧化處理后的支架進(jìn)行清洗；在清洗后的支架表面噴涂可降解高分子材料，該可降解高分子材料攜帶治療性藥物。本發(fā)明支架上的微弧氧化膜層可以明顯降低支架的腐蝕速率，延長支架的使用壽命，同時(shí)也保證了降解過程中材料的力學(xué)性能。
文檔編號(hào)C25D11/18GK101239009SQ200810057118
公開日2008年8月13日 申請(qǐng)日期2008年1月29日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月29日
發(fā)明者張正才, 毅 徐, 董颯英, 蒲忠杰 申請(qǐng)人:樂普(北京)醫(yī)療器械股份有限公司