本技術(shù)涉及半導(dǎo)體加工,尤其涉及一種真空生成裝置和加工設(shè)備。
背景技術(shù):
1、普通干式真空生成裝置無(wú)法抽吸含大量水蒸氣或水滴的氣體,液環(huán)式真空泵本身就是以液體作為密封環(huán),最適合排出含水蒸氣或水滴的氣體。使用液環(huán)式真空泵作為真空生成裝置的吸引源,不僅可以抽吸氣體,還可以抽吸含水蒸氣或水滴的氣體,另也可耐受一定的顆粒物。但液環(huán)真空泵需適當(dāng)從外部追加水,以補(bǔ)充密封水循環(huán)中的液體的蒸發(fā)量,如采用直接補(bǔ)水,則消耗的水量較大,不節(jié)能減排。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本實(shí)用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問(wèn)題之一。為此,本實(shí)用新型提出一種真空生成裝置,所述真空生成裝置使得從出口出來(lái)的氣液混合物可以進(jìn)行氣液分離,分離出來(lái)的液體可以被回收利用減少了外部的供水量,提高了節(jié)水效果。
2、本實(shí)用新型還提出了一種加工設(shè)備,包括上述的真空生成裝置。
3、根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的真空生成裝置,包括:氣液分離箱,所述氣液分離箱包括:箱體和第一隔板,所述箱體上具有進(jìn)口、排氣口和排水口,所述第一隔板設(shè)于所述箱體內(nèi)且與所述進(jìn)口相對(duì)設(shè)置;真空泵,所述真空泵具有出口、液體進(jìn)口和負(fù)壓口,所述出口與所述進(jìn)口連通,所述液體進(jìn)口與所述排水口連通。
4、根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的真空生成裝置,設(shè)置氣液分離箱,氣液分離箱具有進(jìn)口、排氣口和排水口,真空泵具有出口、液體進(jìn)口和負(fù)壓口,出口與進(jìn)口連通,液體進(jìn)口與排水口連通,氣液分離箱可以對(duì)從出口而來(lái)的氣液混合物進(jìn)行分離,分離出來(lái)的液體會(huì)從排水口流向液體進(jìn)口從而重新回到真空泵,從而使得分離出來(lái)的液體可以被回收利用,從而減少了外部的供水量,提高了節(jié)水效果。
5、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述進(jìn)口設(shè)于所述箱體的側(cè)壁上,所述第一隔板包括:第一板體,所述第一板體水平設(shè)置且位于所述進(jìn)口下方,所述第一板體與所述箱體設(shè)有所述進(jìn)口的內(nèi)壁連接,所述第一板體上具有沿上下方向貫穿所述第一板體的出水孔;第二板體,所述第二板體豎直設(shè)置,所述第二板體的下端與所述第一板體遠(yuǎn)離所述箱體內(nèi)壁的一端連接,所述第二板體與所述進(jìn)口相對(duì)設(shè)置且與所述進(jìn)口的軸線垂直。
6、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述第二板體的上端與所述箱體的頂壁間隔設(shè)置。
7、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述箱體的底壁上具有第二隔板,所述第二隔板豎直設(shè)置,用于將所述箱體的底部空間分割成間隔開(kāi)的第一盛水空間和第二盛水空間,在水平方向上,所述第一盛水空間相對(duì)所述第二盛水空間靠近所述進(jìn)口設(shè)置,且所述第二隔板在所述箱體底壁上的投影位于所述第一盛水空間內(nèi),所述排水口與所述第二盛水空間連通。
8、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述第一盛水空間內(nèi)具有第三隔板,所述第三隔板豎直設(shè)置,所述第三隔板的上端高于所述第二隔板的上端且下端與所述箱體的內(nèi)底壁間隔開(kāi),所述第三隔板的朝向所述第二隔板的表面與所述第一隔板的背離所述進(jìn)口的表面平齊,或,在水平方向上,所述第一隔板背離所述進(jìn)口的表面相對(duì)所述第三隔板背離所述第二隔板的表面更靠近所述進(jìn)口設(shè)置。
9、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述箱體的側(cè)壁上具有溢水口,所述溢水口與所述第二盛水空間連通;和/或,所述第一盛水空間和所述第二盛水空間的底部均具有排放口。
10、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述氣液分離箱具有用于與水源連接的補(bǔ)水口。
11、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述水源和所述補(bǔ)水口之間設(shè)有過(guò)濾器、電磁閥和流量計(jì)中的至少一個(gè)。
12、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述水源和所述補(bǔ)水口之間設(shè)有電磁閥和流量計(jì),所述電磁閥為多個(gè)且包括第一電磁閥和第二電磁閥,所述流量計(jì)為多個(gè)且包括第一流量計(jì)和第二流量計(jì),在水源至所述補(bǔ)水口的方向上,所述第一電磁閥、所述第二電磁閥和所述第一流量計(jì)依次串聯(lián),所述第二流量計(jì)與所述第二電磁閥并聯(lián)連接后與所述第一電磁閥和所述第一流量計(jì)串聯(lián)。
13、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述排氣口設(shè)于所述氣液分離箱的頂壁上;和/或,所述排水口設(shè)于所述氣液分離箱的底壁上。
14、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述液體進(jìn)口和所述排水口之間設(shè)有流量溫度傳感器。
15、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述負(fù)壓口連接有真空管道,所述真空管道上設(shè)有單向閥,所述單向閥僅允許氣體和/或液體流向所述真空泵,所述真空管道的背離所述真空泵的一端適于與待抽真空設(shè)備連接。
16、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述負(fù)壓口連接有防汽蝕管道,所述防汽蝕管道背離所述真空泵的一端與所述氣液分離箱連通。
17、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述真空生成裝置還包括:外罩,所述真空泵和所述氣液分離箱設(shè)于所述外罩內(nèi)。
18、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述外罩的底部設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)輪。
19、根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的加工設(shè)備,包括:工作臺(tái),所述工作臺(tái)的上表面具有安裝槽,所述工作臺(tái)上具有連通所述安裝槽的抽氣通道;多孔臺(tái)面,所述多孔臺(tái)面嵌設(shè)在所述安裝槽內(nèi),所述抽氣通道的開(kāi)口位于所述多孔臺(tái)面的下方;上述的真空生成裝置,所述負(fù)壓口與所述抽氣通道背離所述安裝槽的一端連通;加工裝置,所述加工裝置適于對(duì)所述多孔臺(tái)面上的產(chǎn)品進(jìn)行加工。
20、根據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例的加工設(shè)備,通過(guò)設(shè)置上述的真空生成裝置,設(shè)置氣液分離箱,氣液分離箱具有進(jìn)口、排氣口和排水口,真空泵具有出口、液體進(jìn)口和負(fù)壓口,出口與進(jìn)口連通,液體進(jìn)口與排水口連通,氣液分離箱可以對(duì)從出口而來(lái)的氣液混合物進(jìn)行分離,分離出來(lái)的液體會(huì)從排水口流向液體進(jìn)口從而重新回到真空泵,從而使得分離出來(lái)的液體可以被回收利用,從而減少了外部的供水量,提高了節(jié)水效果。
21、在本實(shí)用新型的一些實(shí)施例中,所述加工裝置為磨輪裝置,所述加工設(shè)備還包括:冷卻管,所述冷卻管用于向所述多孔臺(tái)面上的所述產(chǎn)品噴射冷卻液。
22、本實(shí)用新型的附加方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出,部分將從下面的描述中變得明顯,或通過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。
1.一種真空生成裝置,其特征在于,包括:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述進(jìn)口設(shè)于所述箱體的側(cè)壁上,所述第一隔板包括:
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的真空生成裝置,其特征在于,所述第二板體的上端與所述箱體的頂壁間隔設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述箱體的底壁上具有第二隔板,所述第二隔板豎直設(shè)置,用于將所述箱體的底部空間分割成間隔開(kāi)的第一盛水空間和第二盛水空間,
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空生成裝置,其特征在于,所述第一盛水空間內(nèi)具有第三隔板,所述第三隔板豎直設(shè)置,所述第三隔板的上端高于所述第二隔板的上端且下端與所述箱體的內(nèi)底壁間隔開(kāi),
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的真空生成裝置,其特征在于,所述箱體的側(cè)壁上具有溢水口,所述溢水口與所述第二盛水空間連通;
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述氣液分離箱具有用于與水源連接的補(bǔ)水口。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的真空生成裝置,其特征在于,所述水源和所述補(bǔ)水口之間設(shè)有過(guò)濾器、電磁閥和流量計(jì)中的至少一個(gè)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的真空生成裝置,其特征在于,所述水源和所述補(bǔ)水口之間設(shè)有電磁閥和流量計(jì),所述電磁閥為多個(gè)且包括第一電磁閥和第二電磁閥,所述流量計(jì)為多個(gè)且包括第一流量計(jì)和第二流量計(jì),
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述排氣口設(shè)于所述氣液分離箱的頂壁上;
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述液體進(jìn)口和所述排水口之間設(shè)有流量溫度傳感器。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述負(fù)壓口連接有真空管道,所述真空管道上設(shè)有單向閥,所述單向閥僅允許氣體和/或液體流向所述真空泵,所述真空管道的背離所述真空泵的一端適于與待抽真空設(shè)備連接。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,所述負(fù)壓口連接有防汽蝕管道,所述防汽蝕管道背離所述真空泵的一端與所述氣液分離箱連通。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空生成裝置,其特征在于,還包括:
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的真空生成裝置,其特征在于,所述外罩的底部設(shè)有轉(zhuǎn)動(dòng)輪。
16.一種加工設(shè)備,其特征在于,包括:
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的加工設(shè)備,其特征在于,所述加工裝置為磨輪裝置,所述加工設(shè)備還包括: