技術(shù)編號：40435939
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本技術(shù)涉及半導(dǎo)體加工，尤其涉及一種真空生成裝置和加工設(shè)備。背景技術(shù)、普通干式真空生成裝置無法抽吸含大量水蒸氣或水滴的氣體，液環(huán)式真空泵本身就是以液體作為密封環(huán)，最適合排出含水蒸氣或水滴的氣體。使用液環(huán)式真空泵作為真空生成裝置的吸引源，不僅可以抽吸氣體，還可以抽吸含水蒸氣或水滴的氣體，另也可耐受一定的顆粒物。但液環(huán)真空泵需適當(dāng)從外部追加水，以補充密封水循環(huán)中的液體的蒸發(fā)量，如采用直接補水，則消耗的水量較大，不節(jié)能減排。技術(shù)實現(xiàn)思路、本實用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本實...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。