本發(fā)明涉及一種將作為原料的氣體與水進(jìn)行混合來制造氣體溶解水的氣體溶解水制造裝置。

背景技術(shù)：

近年來，半導(dǎo)體裝置工廠、液晶等的電子組件制造工廠中的產(chǎn)品的清洗，是隨著制造程序的復(fù)雜化、電路圖案的微細(xì)化而越來越高度化。例如，將高純度的氣體或使高純度氣體與藥品溶解而得的特殊液體(被稱為清洗液)使用在機(jī)能水(超純水等)，來去除附著在硅晶片的微粒、金屬、有機(jī)物等。

就清洗處理方式而言，除了對多個硅晶片同時反復(fù)地進(jìn)行浸漬及清洗操作的“批處理方式”以外，也采用對應(yīng)于多品種少量生產(chǎn)的產(chǎn)品而依每1片晶片進(jìn)行藥品清洗及超純水清洗的“單片處理方式”。單片處理方式與批處理方式相比較，由于每一片晶片的清洗工序時間(產(chǎn)距時間)較長，且清洗液的使用量會變多，因此要求產(chǎn)距時間的縮短及清洗液使用量的降低。目前，為了在短時間進(jìn)行有效的清洗及降低清洗液使用量，單獨或同時地使用多個機(jī)能水及藥品，以進(jìn)行在短時間切換清洗工序的高度的清洗程序。

就機(jī)能水而言，采用將臭氧氣體溶解于超純水的臭氧水。臭氧水一般由臭氧水制造裝置制造。隨著清洗程序的高度化及復(fù)雜化，雖要求在短時間內(nèi)進(jìn)行對清洗裝置的臭氧水的供給及停止，但以往的裝置一旦暫時停止臭氧水的制造時，則至可再次進(jìn)行要求臭氧濃度及要求流量的臭氧水的供給之前需要一定的時間(啟動時間)。因此，為了應(yīng)對臭氧水的向清洗裝置的供給要求，由臭氧水制造裝置一直制造臭氧水，以對清洗裝置連續(xù)地供給。結(jié)果，會供給過度的臭氧水至清洗裝置，且在硅晶片的清洗中未使用的未使用臭氧水作為排水從清洗裝置排出。

因此，以往提出有一種循環(huán)式的臭氧水供給裝置(參照專利文獻(xiàn)1)，不論使用點的臭氧水的使用量如何，均可供給恒定濃度及恒定壓力的臭氧水，且可再利用未使用的臭氧水。

在以往的循環(huán)式的臭氧水供給裝置中，如圖4所示，將水與臭氧氣體供給至臭氧溶解槽12來產(chǎn)生臭氧水，且將臭氧水從臭氧溶解槽12供給至循環(huán)槽21，經(jīng)由臭氧水送水配管22從循環(huán)槽21供給至使用點，并經(jīng)由臭氧水回流配管23使在使用點未消耗的臭氧水回流至循環(huán)槽21，再將臭氧水從循環(huán)槽21供給至使用點。并且，將臭氧溶解槽12槽內(nèi)壓力、循環(huán)槽21內(nèi)壓力、臭氧水回流配管23內(nèi)壓力分別維持為恒定，而循環(huán)槽內(nèi)壓力被控制成比臭氧溶解槽內(nèi)及臭氧水回流配管內(nèi)的各壓力低的壓力。

然而，在以往的臭氧水供給裝置中，由于是使再利用的臭氧水(未使用的臭氧水)循環(huán)的循環(huán)式，因此需要對臭氧水(未使用的臭氧水)的循環(huán)所造成的臭氧水的溫度上升、污染的發(fā)生尋求對策。因此，期待開發(fā)一種制造與使用點所需的量對應(yīng)的臭氧水的技術(shù)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：日本特開2014-117628號公報

技術(shù)實現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的課題

本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的。本發(fā)明的目的在于提供一種氣體溶解水制造裝置，無需對循環(huán)所造成的臭氧水的溫度上升、污染的發(fā)生尋求對策，即可制造與使用點所需的量對應(yīng)的臭氧水。

解決課題的手段

本發(fā)明的一方式是一種氣體溶解水制造裝置，該氣體溶解水制造裝置具備：氣體流量控制部，該氣體流量控制部控制作為原料的氣體的流量；水流量測定部，該水流量測定部測定作為原料的水的流量；水壓力控制部，該水壓力控制部控制所述水的壓力；氣體溶解水生成部，該氣體溶解水生成部將所述氣體與所述水進(jìn)行混合而生成氣體溶解水；以及壓力測定部，該壓力測定部測定供給至使用點的所述氣體溶解水的壓力，所述水壓力控制部控制所述水的壓力，以使由所述壓力測定部測定的所述氣體溶解水的壓力成為恒定，所述氣體流量控制部根據(jù)由所述水流量測定部測定的所述水的流量來控制所述氣體的流量。

本發(fā)明的其他方式是一種氣體溶解水制造方法，該氣體溶解水制造方法包含如下工序：氣體流量控制工序，該氣體流量控制工序控制作為原料的氣體的流量；水流量測定工序，該水流量測定工序測定作為原料的水的流量；水壓力控制工序，該水壓力控制工序控制所述水的壓力；氣體溶解水生成工序，該氣體溶解水生成工序?qū)⑺鰵怏w與所述水進(jìn)行混合而生成氣體溶解水；以及壓力測定工序，該壓力測定工序測定供給至使用點的所述氣體溶解水的壓力，在所述水壓力控制工序中，控制所述水的壓力，以使在所述壓力測定工序中測定的所述氣體溶解水的壓力成為恒定，在所述氣體流量控制工序中，根據(jù)在所述水流量測定工序中測定的所述水的流量來控制所述氣體的流量。

如以下說明，在本發(fā)明中存在有其他方式。因此，本發(fā)明的公開旨在提供本發(fā)明的一部分的方式，并不旨在限制在此記載并請求的發(fā)明范圍。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明的第一實施方式的臭氧水制造裝置的結(jié)構(gòu)的說明圖。

圖2是本發(fā)明的第一實施方式的放電體的俯視圖。

圖3是本發(fā)明的第一實施方式的放電體的剖視圖。

圖4是表示以往的臭氧水制造裝置的結(jié)構(gòu)的說明圖。

圖5是表示本發(fā)明的第二實施方式的臭氧水制造裝置的結(jié)構(gòu)的說明圖。

圖6是本發(fā)明的第二實施方式的氣體量反饋控制的說明圖。

具體實施方式

以下陳述本發(fā)明的詳細(xì)說明。然而，以下的詳細(xì)說明及附圖并不限定本發(fā)明。

本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置具備：氣體流量控制部，控制作為原料的氣體的流量；水流量測定部，測定作為原料的水的流量；水壓力控制部，控制水的壓力；氣體溶解水生成部，將氣體與水進(jìn)行混合而生成氣體溶解水；以及壓力測定部，測定供給至使用點的氣體溶解水的壓力；水壓力控制部控制水的壓力，以使由壓力測定部所測定的氣體溶解水的壓力成為恒定，氣體流量控制部依據(jù)由水流量測定部所測定的水的流量來控制氣體的流量。

通過該構(gòu)成，由于控制水的壓力，以使供給至使用點的氣體溶解水的壓力成為恒定，并且依據(jù)供給至氣體溶解水生成部的水的流量來控制氣體的流量，因此，可制造與使用點所需的量對應(yīng)的氣體溶解水。例如，在使用點需要大量的氣體溶解水時，由于供給至使用點的氣體溶解水的壓力會成為恒定，因此大量的水會供給至氣體溶解水生成部，且依據(jù)該水的量將大量的氣體供給至氣體溶解水生成部。結(jié)果，制造大量的氣體溶解水。再者，在使用點僅需要少量的氣體溶解水時，由于供給至使用點的氣體溶解水的壓力成為恒定，因此少量的水被供給至氣體溶解水生成部，且依據(jù)該水的量對氣體溶解水生成部供給少量的氣體。結(jié)果，制造少量的氣體溶解水。由此，可制造與使用點所需的量對應(yīng)的氣體溶解水。此外，無需如以往技術(shù)般對循環(huán)所造成的氣體溶解水的溫度上升、污染發(fā)生尋求對策。

此外，本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置也可具備：濃度測定部，測定氣體溶解水的濃度；以及控制部，依據(jù)由濃度測定部所測定的氣體溶解水的濃度，來控制氣體的流量，以使氣體溶解水的濃度的實測值與目標(biāo)值的偏差減小。

通過該構(gòu)成，可依據(jù)氣體溶解水的濃度來控制氣體的流量，且使氣體溶解水的濃度的實測值與目標(biāo)值的偏差減小(消除偏差)。因此，在一定期間(例如數(shù)日)未運轉(zhuǎn)后再次進(jìn)行運轉(zhuǎn)時等，即使在氣體溶解水的濃度的實測值與目標(biāo)值容易產(chǎn)生偏差時，也可制造接近目標(biāo)值的濃度的氣體溶解水。

再者，在本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置中，水壓力控制部也可在0.1MPa至1MPa的壓力范圍內(nèi)控制水的壓力。

通過該構(gòu)成，由于在升壓至高壓力(0.1MPa至1MPa)的狀態(tài)下將水與氣體進(jìn)行混合，因此可制造高濃度的氣體溶解水。

此外，在本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置中，氣體溶解水生成部也可具備利用文丘里效應(yīng)(Venturi effect)來混合氣體與水的混合器。

通過該構(gòu)成，可利用文丘里效應(yīng)將氣體與水有效率地進(jìn)行混合。

此外，在本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置中，也可具備將供給至氣體溶解水生成部的水進(jìn)行脫氣處理的脫氣處理部。

通過該構(gòu)成，可通過脫氣處理來去除水中的剩余氣體，且可容易地將氣體溶解于水。

此外，在本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置中，作為原料的氣體也可以為臭氧氣體，而氣體溶解水為臭氧水。

通過該構(gòu)成，可制造與使用點所需的量對應(yīng)的臭氧水。此外，無需如以往技術(shù)般對循環(huán)所造成的臭氧水的溫度上升、污染發(fā)生尋求對策。

再者，在本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置中，也可以是，具備生成臭氧氣體的臭氧氣體生成部，臭氧氣體生成部具備用于生成臭氧氣體的放電用電極，保持電極的保持構(gòu)件是以不銹鋼為材料，且具有10mm以上的厚度。

通過該構(gòu)成，可將用于生成臭氧氣體的放電用的電極的保持構(gòu)件的強(qiáng)度充分地提高，且可生成高壓力(0.1MPa至1MPa)的臭氧氣體。

本發(fā)明的氣體溶解水制造方法包含如下工序：氣體流量控制工序，控制作為原料的氣體的流量；水流量測定工序，測定作為原料的水的流量；水壓力控制工序，控制水的壓力；氣體溶解水生成工序，將氣體與水進(jìn)行混合而生成氣體溶解水；以及壓力測定工序，測定供給至使用點的氣體溶解水的壓力，在水壓力控制工序中，控制水的壓力，以使由在壓力測定工序中所測定的氣體溶解水的壓力成為恒定，在氣體流量控制工序中，依據(jù)由在水流量測定工序中所測定的水的流量來控制氣體的流量。

通過該制造方法，也可與上述的制造裝置同樣地，控制水的壓力，以使供給至使用點的氣體溶解水的壓力成為恒定，并且依據(jù)供給至氣體溶解水生成部的水的流量來控制氣體的流量，因此，可制造與使用點所需的量對應(yīng)的氣體溶解水。例如，在使用點需要大量的氣體溶解水時，由于供給至使用點的氣體溶解水的壓力成為恒定，因此大量的水會供給至氣體溶解水生成部，且依據(jù)該水的量將大量的氣體供給至氣體溶解水生成部。結(jié)果，制造大量的氣體溶解水。再者，在使用點僅需要少量的氣體溶解水時，由于供給至使用點的氣體溶解水的壓力成為恒定，因此少量的水被供給至氣體溶解水生成部，且依據(jù)該水的量對氣體溶解水生成部供給少量的氣體。結(jié)果，制造少量的氣體溶解水。如此，可制造與使用點所需的量對應(yīng)的氣體溶解水。此外，無需如以往技術(shù)般對循環(huán)所造成的氣體溶解水的溫度上升、污染發(fā)生尋求對策。

依據(jù)本發(fā)明，無需對循環(huán)所造成的氣體溶解水的溫度上升、污染發(fā)生尋求對策，即可制造與使用點所需的量對應(yīng)的氣體溶解水。

以下，對于本發(fā)明實施方式的氣體溶解水制造裝置，利用附圖加以說明。在本實施方式中，例示用于半導(dǎo)體裝置、液晶等電子組件的清洗的臭氧水制造裝置的情況。

(第一實施方式)

參照附圖說明本發(fā)明第一實施方式的氣體溶解水制造裝置的構(gòu)成。圖1是表示第一實施方式的臭氧水制造裝置的構(gòu)成的說明圖。如圖1所示，臭氧水制造裝置1具備：作為原料的第一氣體(O₂氣體)與第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)的供給源2、3；及控制各氣體(第一氣體與第二氣體)的流量的流量控制器4、5。此外，第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)并非必需，也可僅使用第一氣體(O₂氣體)。第一氣體與第二氣體在以壓力傳感器6測定壓力后，被送至臭氧氣體生成部7。臭氧氣體生成部7具備放電體70(參照圖2及圖3)，該放電體70用于通過放電而從第一氣體(O₂氣體)與第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)生成臭氧氣體的。由臭氧氣體生成部7所生成的臭氧氣體被送至臭氧水生成部8。

再者，臭氧水制造裝置1具備作為原料的水(超純水)的供給源9。該臭氧水制造裝置1中，為了去除作為原料的水中的剩余氣體(氧、氮、碳酸氣體等)，具備進(jìn)行脫氣處理的脫氣處理部10。此外，脫氣處理例如可利用經(jīng)由脫氣處理膜進(jìn)行真空抽吸等的公知方法。再者，在臭氧水制造裝置1中，設(shè)置有用于調(diào)整水的流量的閥11以及用于測定水的流量的流量計12。作為原料的水在由流量計12測定流量后，被送至升壓泵13，且在由升壓泵13調(diào)整壓力后，被送至臭氧水生成部8。送往臭氧水生成部8的水的壓力設(shè)定為例如0.1至1.0MPa。

臭氧水生成部8具備將臭氧氣體與水進(jìn)行混合而生成臭氧水的混合器14?；旌掀?4優(yōu)選利用文丘里效應(yīng)來混合氣體與水。就這種混合器14而言，采用例如吸氣器、噴射器等。所生成的臭氧水被送至氣液分離槽15。在氣液分離槽15中，將臭氧水與氣體(排氣)分離。也可在該氣液分離槽15中設(shè)置用于測定臭氧水的水位的水位傳感器16。經(jīng)氣液分離的臭氧水由壓力傳感器17測定壓力，并經(jīng)由閥18被送至使用點19(例如、多腔式的單片型清洗裝置等)。此外，經(jīng)氣液分離的臭氧水在由臭氧水濃度計20測定濃度后，被排出至排水管21。另一方面，排氣在經(jīng)由閥22送至排氣分解觸媒23而進(jìn)行分解處理后，利用釋壓閥24回復(fù)為大氣壓而從排氣口25排出。

在釋壓閥24中，在防止急劇的壓力變動而將壓力保持為恒定這方面，優(yōu)選采用空氣控制式的釋放閥。此外，在沒有發(fā)生急劇的壓力變動的擔(dān)憂的情況下，也可采用彈簧式的釋放閥。彈簧式的釋放閥是比空氣控制式的釋放閥更廉價，在謀求低成本化的方面較為有利。

在此，參照附圖，對臭氧氣體生成部7的放電體70的構(gòu)成進(jìn)行說明。圖2是放電體70的俯視圖，圖3是放電體70的剖視圖。如圖2及圖3所示，臭氧氣體生成部7的放電體70具有：具有彼此相對的圓形電極面的一對低壓電極71及高壓電極72；以及配置于兩電極的相對的電極面之間的介電質(zhì)73及圓板形空間74。圓板形空間74是位于相對的電極面之間且產(chǎn)生穩(wěn)定的放電的空間，當(dāng)使包含氧的原料氣體(第一氣體與第二氣體)流動至該空間時，即通過放電將氧轉(zhuǎn)換成臭氧。

高壓電極72連接于高壓交流電源的高壓側(cè)，低壓電極71連接于交流電源的低壓側(cè)(接地)。如圖2及圖3所示，低壓電極71的電極面具有多個彼此大致平行地伸長的渠溝(配置成同心狀的溝)。渠溝的構(gòu)造能夠與公知的構(gòu)造相同。

高壓電極72由支承于保持構(gòu)件75的絕緣體76與介電質(zhì)73之間的金屬層形成。該保持構(gòu)件75以不銹鋼(SUS)為材料，具有10mm以上(優(yōu)選為16mm以上)的厚度。介電質(zhì)73由圓板狀的單結(jié)晶藍(lán)寶石所形成，高壓電極72由施加于藍(lán)寶石的背面的銀的金屬化層而形成。此時，渠溝的山部與介電板表面之間的空間成為放電空間。例如，渠溝的山部與介電板表面之間的距離為0.01mm至0.3mm(優(yōu)選為0.03mm至0.05mm)。當(dāng)需要在半導(dǎo)體制造中使用的潔凈的臭氧氣體時，介電質(zhì)73的材料雖以作為潔凈材質(zhì)的藍(lán)寶石為佳，但在未要求高純度時，可通過氧化鋁陶瓷等陶瓷材料來形成介電質(zhì)73。

原料氣體經(jīng)由入口通路77、外周空間78而導(dǎo)入圓板形空間74，在圓板形空間74內(nèi)朝大致半徑方向內(nèi)側(cè)流動，且向設(shè)置于低壓電極71的中心部的中心空間79集中，經(jīng)由引導(dǎo)通路80而被引導(dǎo)向電極的半徑方向外側(cè)。此外，原料氣體也可在圓板形空間74內(nèi)朝半徑方向外側(cè)流動，以取代朝大致半徑方向內(nèi)側(cè)流動。此時，原料氣體首先經(jīng)由引導(dǎo)通路80供給向中心空間79，且在圓板形空間74內(nèi)朝大致半徑方向外側(cè)流動，經(jīng)由外周空間78而被引導(dǎo)向入口通路77。

高壓電極72連結(jié)向高頻高壓交流電源的高壓側(cè)，低壓電極71連結(jié)向高頻高壓交流電源的低壓側(cè)，在兩電極之間的圓板形空間74施加有高壓交流電壓，而在兩電極之間的圓板形空間74產(chǎn)生溫和的放電。包含氧的原料氣體(第一氣體與第二氣體)流動通過該圓板形空間74，而其一部分被轉(zhuǎn)換為臭氧。在圖2及圖3的放電體70中，原料氣體朝向橫穿多個渠溝的方向流動，且必定通過放電密度高的溝的頂部，因此可生成高濃度的臭氧。

對如上構(gòu)成的臭氧水制造裝置1的動作進(jìn)行說明。

利用本發(fā)明實施方式的臭氧水制造裝置1來制造臭氧水時，首先，從供給源2、3供給作為原料的第一氣體(O₂氣體)及第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)。氣體(第一氣體與第二氣體)的流量由流量控制器4、5控制。另一方面，從供給源9供給作為原料的水(超純水)。水的流量由流量計12測定。在本實施方式中，如在圖1中的虛線箭頭所示，流量控制器4、5依據(jù)由流量計12測定的水的流量，來控制氣體的流量。

第一氣體與第二氣體在由壓力傳感器6測定壓力后，被送至臭氧氣體生成部7。在臭氧氣體生成部7中，通過放電而從第一氣體(O₂氣體)與第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)生成臭氧氣體。所生成的臭氧氣體被送至臭氧水生成部8。另一方面，作為原料的水在由流量計12測定流量后，送至升壓泵13，且在由升壓泵13調(diào)整壓力后，被送至臭氧水生成部8。升壓泵13具備在0.1MPa至1MPa的壓力范圍內(nèi)控制被送至臭氧水生成部8的水的壓力的功能。就該升壓泵13而言，例如使用離心泵。在本實施方式中，升壓泵13控制水的壓力，以使由壓力傳感器17所測定的臭氧水的壓力成為恒定。此時，水的壓力與臭氧氣體的壓力的差壓優(yōu)選為150KPa以內(nèi)。

在臭氧水生成部8的混合器14中，將臭氧氣體與水進(jìn)行混合而生成臭氧水，所生成的臭氧水送至氣液分離槽15。在氣液分離槽15中，將臭氧水與氣體(排氣)進(jìn)行分離，經(jīng)氣液分離的臭氧水由壓力傳感器17測定壓力，經(jīng)由閥18送至使用點19(例如多腔式的單片型清洗裝置等)。

依據(jù)這種本實施方式的臭氧水制造裝置1，由于控制水的壓力，以使供給至使用點19的臭氧水的壓力成為恒定，并且依據(jù)供給至臭氧水生成部8的水的流量來控制氣體的流量，因此可制造與使用點19所需的量對應(yīng)的臭氧水。

例如，在使用點19需要大量的臭氧水時，由于供給至使用點19的臭氧水的壓力成為恒定，因此大量的水會供給至臭氧水生成部8，且依據(jù)該水的量將大量的氣體供給至臭氧水生成部8。結(jié)果，制造大量的臭氧水。

另一方面，在使用點19僅需要少量的臭氧水時，由于供給至使用點19的臭氧水的壓力成為恒定，因此少量的水會供給至臭氧水生成部8，且依據(jù)該水的量將少量的氣體供給至臭氧水生成部8。結(jié)果，制造少量的臭氧水。由此，與以往技術(shù)相比較，可減少使用氣體量。并且，與以往技術(shù)相比較，也可減少排水量。

如此，在本實施方式的臭氧水制造裝置1中，即便在使用點19所需的臭氧水的流量變動時，也可供給與使用點19所需的量對應(yīng)的恒定濃度(恒定壓力)的臭氧水。因此，適合于多腔式單片型清洗裝置。再者，在本實施方式的臭氧水制造裝置1中，由于不需要使臭氧水循環(huán)，因此無需如以往技術(shù)般對因循環(huán)所造成的臭氧水的溫度上升或污染的發(fā)生尋求對策。

再者，在本實施方式的臭氧水制造裝置1中，由于在升壓至高壓力(0.1MPa至1MPa)的狀態(tài)下將水與氣體進(jìn)行混合，因此可制造高濃度的臭氧水。

再者，在本實施方式的臭氧水制造裝置1中，通過利用文丘里效應(yīng)，從而能夠?qū)怏w與水有效率地進(jìn)行混合。

再者，在本實施方式的臭氧水制造裝置1中，由于可通過脫氣處理來去除水中的剩余氣體，因此可容易地將臭氧氣體溶解于水。

此外，在本實施方式的臭氧水制造裝置1中，由于將用于生成臭氧氣體的放電用的電極的保持構(gòu)件75的強(qiáng)度充分地提高，因此可生成高壓力(0.1MPa至1MPa)的臭氧氣體。

(第二實施方式)

接著，說明本發(fā)明第二實施方式的臭氧水制造裝置。在此，對第二實施方式的臭氧水制造裝置與第一實施方式不同的點為中心進(jìn)行說明。在此只要未特別說明，則本實施方式的構(gòu)成及動作與第一實施方式相同。

圖5是表示第二實施方式的臭氧水制造裝置的構(gòu)成的說明圖。如圖5所示，本實施方式的臭氧水制造裝置1具備：用于進(jìn)行作為臭氧水的原料的第一氣體(O₂氣體)與第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)的流量控制的控制部26。

該控制部26依據(jù)由臭氧水濃度計20測定的臭氧水濃度(實測值)與作為目標(biāo)的臭氧水濃度(目標(biāo)值)的偏差，來控制作為臭氧水的原料的第一氣體(O₂氣體)與第二氣體(CO₂氣體或N₂氣體)的流量。此時，控制部26對第一氣體與第二氣體的總流量進(jìn)行反饋控制，以使臭氧水濃度的實測值與目標(biāo)值的偏差減小(消除偏差)。

具體而言，如圖6所示，在臭氧水濃度的實測值比目標(biāo)值大時，以減少氣體(第一氣體與第二氣體)的總流量的方式進(jìn)行流量補(bǔ)正，當(dāng)臭氧水濃度的實測值比目標(biāo)值更小時，以增加氣體(第一氣體與第二氣體)的總流量的方式進(jìn)行流量補(bǔ)正。

通過這樣的第二實施方式的臭氧水制造裝置1，也可發(fā)揮與第一實施方式相同的作用效果。

此外，在本實施方式中，由于通過控制部26對第一氣體與第二氣體的總流量進(jìn)行反饋控制，因此可使臭氧水濃度的實測值與目標(biāo)值的偏差減小(消除偏差)。因此，例如在一定期間(例如數(shù)日)未運轉(zhuǎn)后再次進(jìn)行運轉(zhuǎn)的情況等，即使臭氧水濃度的實測值與目標(biāo)值容易產(chǎn)生偏差時，也可制造接近目標(biāo)值的濃度的臭氧水。

以上，雖通過例示說明了本發(fā)明的實施方式，但本發(fā)明的范圍并未限定于此，也可在權(quán)利要求范圍記載的范圍內(nèi)，依目的來進(jìn)行變更、變形。

例如，在以上的說明中，對將臭氧氣體與水進(jìn)行混合來制造臭氧水的臭氧水制造裝置1進(jìn)行了說明，但也可制造將臭氧氣體以外的氣體(例如H₂、CO₂、O₂、N₂、Ar、Xe等氣體)與水進(jìn)行混合的氣體溶解水。

以上說明了在目前所考慮的本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，但能理解為可對本實施方式進(jìn)行各式各樣變形，而且，所附的權(quán)利要求范圍包含本發(fā)明的真實精神及范圍內(nèi)的所有變形。

產(chǎn)業(yè)上的可利用性

如上所述，本發(fā)明的氣體溶解水制造裝置具有無需對循環(huán)所造成的氣體溶解水的溫度上升、污染的發(fā)生尋求對策，且可制造與使用點所需的量對應(yīng)的氣體溶解水的效果，且適用于在例如半導(dǎo)體裝置及液晶等電子組件的清洗所使用的臭氧水制造裝置等。

符號說明

1 臭氧水制造裝置(氣體溶解水制造裝置)

2 供給源

3 供給源

4 流量控制器(氣體流量控制部)

5 流量控制器(氣體流量控制部)

6 壓力傳感器

7 臭氧氣體生成部

8 臭氧水生成部(氣體溶解水生成部)

9 供給源

10 脫氣處理部

11 閥

12 流量計(水流量測定部)

13 升壓泵(水壓力控制部)

14 混合器

15 氣液分離槽

16 水位傳感器

17 壓力傳感器(壓力測定部)

18 閥

19 使用點20

70 放電體71

72 高壓電極(電極)

75 保持構(gòu)件