1.一種超聲波去污裝置，其特征在于：包括箱體(2)、超聲波振盒(8)和托架(9)；超聲波振盒(8)設(shè)置在所述箱體(2)的底板(7)上，所述托架(9)設(shè)置在所述超聲波振盒(8)上方；所述箱體(2)內(nèi)還設(shè)置加熱裝置(6)。
2.如權(quán)利要求1所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述箱體(2)還設(shè)置有鼓泡裝置(10)。
3.如權(quán)利要求2所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述鼓泡裝置(10)包括帶有氣孔的管路，所述管路與壓縮空氣源導(dǎo)通且利用支撐結(jié)構(gòu)支撐在箱室底板(7)上。
4.如權(quán)利要求3所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述管路為不少于兩條，所述管路均與設(shè)置在所述箱體(2)上的壓縮空氣入口導(dǎo)通。
5.如權(quán)利要求1-4任一所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述箱體(2)的底部或下部設(shè)置有疏水管。
6.如權(quán)利要求5所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述箱體(2)內(nèi)疏水管入口處設(shè)置有過(guò)濾裝置(3)。
7.如權(quán)利要求1-4任一所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述箱體(2)上還設(shè)有溢流口；所述溢流口的標(biāo)高高于所述托架(9)。
8.如權(quán)利要求7所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述箱體(2)上還設(shè)有通風(fēng)口；所述通風(fēng)口的標(biāo)高高于所述溢流口。
9.如權(quán)利要求1-4任一所述的超聲波去污裝置，其特征在于，所述底板(7)下方設(shè)置有支撐框架(5)，所述支撐框架(5)設(shè)有容納空間。