專利名稱：一種氣體冷卻裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及冷卻裝置，尤其涉及高溫高壓反應(yīng)釜的氣體冷卻裝置。
背景技術(shù)：
反應(yīng)釜是一種進(jìn)行物理或化學(xué)反應(yīng)的容器，通過對(duì)容器的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與參數(shù)配置，實(shí)現(xiàn)エ藝要求的加熱、蒸發(fā)、冷卻及低高速的混配功能。實(shí)驗(yàn)式專用反應(yīng)釜是在一定溫度、一定壓カ條件下合成化學(xué)物質(zhì)提供的耐高溫耐高壓防腐高純反應(yīng)器，應(yīng)用于新材料、能源、環(huán)境工程等領(lǐng)域的有機(jī)合成、水熱合成、晶體生長(zhǎng)或樣品消解萃取等方面，是高校教學(xué)、科研單位進(jìn)行科學(xué)研究的常用小型反應(yīng)器。從反應(yīng)釜中排出的高溫氣體若不處理可能會(huì)傷害人體或破壞設(shè)備，造成很大的安全隱患。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種能夠冷卻從反應(yīng)釜中排出的高溫氣體的氣體冷卻裝置。本實(shí)用新型的技術(shù)方案是一種氣體冷卻裝置，它包括密封容器，密封容器內(nèi)置有盤管，所述盤管一端伸出密封容器的一端連通進(jìn)料ロ，盤管另一端伸出密封容器的另一端連接有排空閥，在密封容器的兩側(cè)分別開有進(jìn)水口和出水ロ，且進(jìn)水ロ的高度低于出水ロ。上述盤管是紫銅管。本實(shí)用新型的有益效果是從反應(yīng)釜中排出的高溫氣體經(jīng)過氣體冷卻裝置后冷卻至常溫排出，不會(huì)對(duì)人或設(shè)備造成傷害，保證了生產(chǎn)的安全性。

圖I是本實(shí)用新型示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖I所示，一種氣體冷卻裝置，其特征是它包括密封容器1，密封容器I內(nèi)置有盤管2，所述盤管2 —端伸出密封容器I的一端連通進(jìn)料ロ 3，盤管2另一端伸出密封容器I的另一端連接有排空閥4，在密封容器I的兩側(cè)分別開有進(jìn)水口 5和出水ロ 6，且進(jìn)水口 5的高度低于出水ロ 6。從反應(yīng)釜中排出的高溫氣體經(jīng)過進(jìn)料ロ 3進(jìn)入密封容器I內(nèi)的盤管2，盤管2在密封容器I內(nèi)盤旋延伸，這樣可以延長(zhǎng)高溫氣體與冷卻水的接觸時(shí)間，使冷卻效果更好，冷卻水從進(jìn)水口 5進(jìn)入密封容器，從出水口 6排出，進(jìn)水口 5與出水ロ 6在垂直面上要盡量遠(yuǎn)離，這樣盤管2浸在冷卻水中的面積越大，保證了冷卻效果，在不斷的輸入冷卻水后，盤管2內(nèi)的氣體被冷卻至安全范圍，這時(shí)打開排空閥4讓冷卻后的氣體排出。本實(shí)用新型中盤管2采用耐高溫高壓的材料，如紫銅，避免盤管受熱損壞。
權(quán)利要求1.一種氣體冷卻裝置，其特征是它包括密封容器(I )，密封容器(I)內(nèi)置有盤管(2)，所述盤管(2 ) —端伸出密封容器(I)的一端連通有進(jìn)料ロ( 3 )，盤管(2 )另一端伸出密封容器(I)的另一端連接有排空閥(4)，在密封容器(I)的兩側(cè)分別開有進(jìn)水ロ(5)和出水ロ(6)，且進(jìn)水口(5)的高度低于出水ロ(6)。
2.如權(quán)利要求I所述的ー種氣體冷卻裝置，其特征是所述的盤管(2)是紫銅管。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種氣體冷卻裝置，它包括密封容器1，密封容器1內(nèi)置有盤管2，所述盤管2一端伸出密封容器1的一端連通有進(jìn)料口3，盤管2另一端伸出密封容器1的另一端連接有排空閥4，在密封容器1的兩側(cè)分別開有進(jìn)水口5和出水口6，且進(jìn)水口5的高度低于出水口6。本實(shí)用新型使反應(yīng)釜中排出的高溫氣體經(jīng)過冷卻后排出，不會(huì)對(duì)人或設(shè)備造成傷害，保證了生產(chǎn)的安全性。
文檔編號(hào)F28D7/04GK202582282SQ201220157318
公開日2012年12月5日 申請(qǐng)日期2012年4月13日 優(yōu)先權(quán)日2012年4月13日
發(fā)明者趙堅(jiān)強(qiáng) 申請(qǐng)人:銅陵市恒興化工有限責(zé)任公司