技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型涉及磁控濺射鍍膜領(lǐng)域，提供一種磁控濺射鍍膜基帶卷繞糾偏裝置，用于柔性、卷繞式、連續(xù)型磁控濺射鍍膜作業(yè)過程中抽真空時(shí)阻止原膜基帶卷層之間的微量滑動(dòng)偏移；一種磁控濺射鍍膜基帶卷繞糾偏裝置，包括設(shè)置在放卷機(jī)架上、位于原膜基帶卷兩端的擋板，由硬質(zhì)材料制成的擋板緊貼原膜基帶卷端面。

技術(shù)研發(fā)人員：王魯南;杜杰;李鍾允;樸勝一;全武賢;樸翰鎮(zhèn);王建華;竇立峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：南京匯金錦元光電材料有限公司
文檔號(hào)碼：201620526319
技術(shù)研發(fā)日：2016.06.02
技術(shù)公布日：2016.12.07