本發(fā)明涉及一種吸著裝置、吸著系統(tǒng)及其應(yīng)用，特別是涉及一種可避免被吸著物下垂變形的吸著裝置、吸著系統(tǒng)及其應(yīng)用。

背景技術(shù)：

隨著電子用品輕薄化的發(fā)展趨勢，所使用的基板(例如玻璃基板)的厚度漸趨薄化。

其次，在制造流程中，基材通常是利用吸著裝置來輸送，其中吸著裝置是利用真空所產(chǎn)生的吸引力吸著基材，而可將基材輸送至各個處理工作站，進而被進行相關(guān)的處理步驟，因此使基材滿足不同的應(yīng)用需求。

然而，現(xiàn)有的吸著裝置雖可吸住薄化基材，但薄化基材因厚度較薄，被吸著時的下垂變形量會變大。且隨著基材厚度越薄，下垂程度會越來越嚴(yán)重。如此，不但會造成工藝上準(zhǔn)確度問題，過大的下垂變形量甚至?xí)?dǎo)致基材破裂。

有鑒于此，亟須提供一種吸著裝置、吸著系統(tǒng)及其應(yīng)用，以改進現(xiàn)有吸著裝置、吸著系統(tǒng)及其應(yīng)用的缺陷。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

因此，本發(fā)明的目的在于提供一種吸著裝置、吸著系統(tǒng)及其應(yīng)用，可避免被吸著物因吸著不均所產(chǎn)生的下垂變形。

本發(fā)明的一實施例提供一種吸著裝置，其借由吸著單元的連接關(guān)系抑制被吸著物因現(xiàn)有吸著不均所產(chǎn)生下垂變形的缺陷。

本發(fā)明的另一實施例提供一種吸著裝置，其結(jié)合吸著單元與靜電盤，以抑制被吸著物因吸著不均所產(chǎn)生下垂變形的缺陷。

本發(fā)明的又一實施例提供一種吸著裝置，其調(diào)整吸著單元與靜電盤的相對關(guān)系，以進一步抑制被吸著物因吸著不均所產(chǎn)生的下垂變形。

本發(fā)明的再一實施例提供一種吸著系統(tǒng)，其包含前述的吸著裝置。

本發(fā)明的另一實施例提供一種吸著系統(tǒng)，其包含前述另一實施例的吸著裝置。

本發(fā)明的再一實施例提供一種貼合基板的方法，其利用前述再一實施例的吸著系統(tǒng)吸著基板，而可抑制基板因吸著不均所產(chǎn)生的下垂變形。

本發(fā)明的另一實施例提供一種貼合基板的方法，其利用前述又另一實施例的吸著系統(tǒng)吸著基板，而可抑制基板因吸著不均所產(chǎn)生的下垂變形。

根據(jù)本發(fā)明的一實施例，提出一種吸著裝置。此吸著裝置包含多個第一吸著單元及多個第二吸著單元。多個第一吸著單元間隔設(shè)置，并定義出至少一個間隔區(qū)域。多個第二吸著單元設(shè)置于多個第一吸著單元的至少一個上，且延伸至前述至少一個間隔區(qū)域的至少一個上。

根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，提出一種吸著裝置。此吸著裝置包含多個第一吸著單元、多個第二吸著單元及多個靜電盤。多個第一吸著單元間隔設(shè)置，并定義出至少一個間隔區(qū)域。多個第二吸著單元設(shè)置于第一吸著單元的至少一個上，且多個第二吸著單元延伸至至少一個間隔區(qū)域的至少一個中。前述的靜電盤分別設(shè)置于間隔區(qū)域中，且每個靜電盤具有對應(yīng)第二吸著單元的多個凹陷部。其中，每個第二吸著單元可移動地通過所對應(yīng)的凹陷部。

依據(jù)本發(fā)明的一實施例，前述第二吸著單元的其中至少兩個互相平行。

依據(jù)本發(fā)明的另一實施例，此吸著裝置還包含至少一個連接件，且此連接件與第一吸著單元連接。

依據(jù)本發(fā)明的又一實施例，前述第二吸著單元的至少一個垂直于第一吸 著單元。

依據(jù)本發(fā)明的另一實施例，前述多個第一吸著單元互相平行。

依據(jù)本發(fā)明的另一實施例，前述第一吸著單元及第二吸著單元的至少一個具有連接元件及設(shè)置于連接元件上的吸著元件。

依據(jù)本發(fā)明的另一實施例，前述吸著裝置還包含至少一個連接件，且至少一個連接件與第一吸著單元連接。

根據(jù)本發(fā)明的又一實施例，提出一種吸著裝置。此吸著裝置包含多個第一吸著單元、多個第二吸著單元及多個靜電盤。多個第一吸著單元分開設(shè)置。多個第二吸著單元的至少一個連接前述第一吸著單元的至少兩個。多個靜電盤分別設(shè)置于第一吸著單元與第二吸著單元之間，而使每個第一吸著單元和每個第二吸著單元可移動地通過多個靜電盤。

依據(jù)本發(fā)明的一實施例，前述每個第二吸著單元分別垂直于第一吸著單元。

依據(jù)本發(fā)明的另一實施例，前述的多個第一吸著單元互相平行。

根據(jù)本發(fā)明的又一實施例，提出一種吸著系統(tǒng)。此吸著系統(tǒng)設(shè)置于本體上，且吸著系統(tǒng)包含動作機構(gòu)及前述的吸著裝置。此吸著裝置中的每個第一吸著單元連接動作機構(gòu)。

根據(jù)本發(fā)明的再一實施例，提出一種吸著系統(tǒng)。此吸著系統(tǒng)包含動作機構(gòu)及吸著裝置。每個第一吸著單元連接動作機構(gòu)，且靜電盤設(shè)置于本體的底部上。

根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，提出一種貼合基板的方法。此方法先提供第一基板與第二基板，以及前述的吸著系統(tǒng)。然后，借由吸著系統(tǒng)的吸著裝置吸著第一基板，并以動作機構(gòu)上提吸著裝置。接著，移動吸著基板，以對準(zhǔn)第一基板與第二基板。之后，下移吸著裝置，以貼合第一基板與第二基板。

根據(jù)本發(fā)明的再一實施例，提出一種貼合基板的方法。此方法先提供第 一基板與第二基板，以及前述的吸著系統(tǒng)。然后，借由第一吸著單元與第二吸著單元吸著第一基板。接著，以第一吸著單元及第二吸著單元上提第一基板。當(dāng)?shù)谝晃鴨卧暗诙鴨卧c靜電盤共平面時，以前述的靜電盤吸著第一基板。其中，第一吸著單元及第二吸著單元可移動地通過靜電盤，并移動至本體的容置部中。之后，移動靜電盤，以對準(zhǔn)第一基板與第二基板。而后，下移靜電盤，以貼合第一基板及第二基板。

應(yīng)用本發(fā)明的吸著裝置、吸著系統(tǒng)及其應(yīng)用，其是借由設(shè)計吸著裝置的吸著單元間的連接關(guān)系，以避免被吸著物下垂變形，而可提升吸著裝置的吸著功效。

附圖說明

為了對本發(fā)明的實施例及其優(yōu)點有更完整的理解，現(xiàn)請參照以下的說明并配合相應(yīng)的圖式。必須強調(diào)的是，各種特征并非依比例描繪且僅是為了圖解目的。相關(guān)圖式內(nèi)容說明如下：

圖1是繪示依照本發(fā)明的一實施例的吸著系統(tǒng)的仰視立體圖。

圖1a是繪示沿著圖1的c-c’剖切線剖切的本發(fā)明的一實施例的吸著系統(tǒng)的側(cè)視圖。

圖1b是繪示依照本發(fā)明的一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖1c是繪示依照本發(fā)明的一實施例的貼合基板的方法的流程圖。

圖2是繪示依照本發(fā)明的另一實施例的吸著系統(tǒng)的仰視立體圖。

圖2a是繪示沿著圖2的d-d’剖切線剖切的本發(fā)明的另一實施例的吸著系統(tǒng)的側(cè)視圖。

圖2b是繪示依照本發(fā)明的另一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖2c是繪示依照圖2b的a部分放大的本發(fā)明的另一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖2d是繪示依照本發(fā)明的另一實施例的貼合基板的方法的流程圖。

圖3a是繪示依照本發(fā)明的又一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖3b是繪示依照本發(fā)明的再一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖4是繪示依照本發(fā)明的又另一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖5是繪示依照本發(fā)明的再另一實施例的吸著裝置的仰視圖。

圖5a是繪示依照圖5的b部分放大的本發(fā)明的再另一實施例的吸著裝置的仰視圖。

具體實施方式

以下仔細(xì)討論本發(fā)明實施例的制造和使用。然而，可以理解的是，實施例提供許多可應(yīng)用的發(fā)明概念，其可實施于各式各樣的特定內(nèi)容中。所討論的特定實施例僅供說明，并非用以限定本發(fā)明的范圍。

請同時參照圖1、圖1a及圖1b，其中圖1是繪示依照本發(fā)明的一實施例的吸著系統(tǒng)的仰視立體圖，圖1a是繪示沿著圖1的c-c’剖切線剖切的本發(fā)明的一實施例的吸著系統(tǒng)的側(cè)視圖，且圖1b是繪示依照本發(fā)明的一實施例的吸著裝置的仰視圖。在一實施例中，吸著系統(tǒng)100設(shè)置于本體101上，且吸著系統(tǒng)100包含動作機構(gòu)130a及吸著裝置100a。其中，本體101可進行水平移動，以調(diào)整位置，而可達(dá)到水平移動物體的功效。

請參照圖1b。吸著裝置100a包含多個第一吸著單元110及多個第二吸著單元120，以及至少一個連接件130，其中至少一個連接件130分別連接于多個第一吸著單元110的兩端。多個第一吸著單元110與多個第二吸著單元120至少一個分別具有連接元件110a與120a及多個分別設(shè)置于連接元件110a與120a上的吸著元件110b與120b，且吸著元件110b與120b具有氣體流入口。其中，第一吸著單元110的連接元件110a連接對應(yīng)的第二吸著單元120的連接元件120a。

多個第一吸著單元110彼此間隔設(shè)置，并定義出至少一個間隔區(qū)域140。換言之，兩個間隔設(shè)置的第一吸著單元110可定義出一個間隔區(qū)域140。

第一吸著單元110與第二吸著單元120的連接元件110a與120a分別具有管路(圖未示)，可供氣體流動。每個吸著元件110b與120b分別連接對應(yīng)的管路，管路可直接或間接連接負(fù)壓裝置，例如第一連接元件110a的管路可直接連接負(fù)壓裝置，第二連接元件120a的管路再和第一連接元件110a的管路相連接，以間接連接負(fù)壓裝置。第一吸著單元110及第二吸著單元120的吸著元件110b及120b即可借由管路連結(jié)負(fù)壓裝置，而使氣體經(jīng)由氣體流入口被抽入管路中，使吸著元件110b與120b和欲吸著物件間的氣壓成為負(fù)壓，進而使吸著元件110b與120b具有吸著功效。

在一實施例中，也可于連接件130設(shè)置管路及吸著元件，讓連接件也有吸著的能力。

第一吸著單元110與第二吸著單元120的吸著元件110b與120b可均勻地或不均勻地分別分布于第一吸著單元110與第二吸著單元120的連接元件110a與120a上。在此實施例中，第一吸著單元110還可包含多個遮蓋，以調(diào)整并封閉部分的吸著元件110b與120b，而符合欲吸著物件的形狀或面積，并調(diào)整各個吸著元件110b與120b的吸著力。進一步而言，當(dāng)所述負(fù)壓裝置連結(jié)多個吸著裝置時，依據(jù)操作的需求，前述的遮蓋也可封閉至少一個吸著裝置中全部的吸著元件，而借由其余的吸著裝置吸著物體。

在一實施例中，多個第一吸著單元110可彼此平行或不平行。

前述的第二吸著單元120設(shè)置于第一吸著單元110的至少一個上，并延伸至間隔區(qū)域140的至少一個中。如圖1b所示，第二吸著單元120的至少一個垂直于第一吸著單元110，第二吸著單元120的至少兩個是互相平行，且第二吸著單元120的至少兩個于第一吸著單元110的至少一個上等距分布。

在一實施例中，第一吸著單元110與第二吸著單元120可為一體成型。在另一實施例中，第一吸著單元110與第二吸著單元120是組裝而成。在此 實施例中，第二吸著單元120可借由卡固、鎖固、緊配合、螺設(shè)、其他適當(dāng)?shù)姆椒ɑ蚯笆龇椒ǖ娜我饨M合與第一吸著單元110結(jié)合。須特別說明的是，當(dāng)?shù)诙鴨卧?20與第一吸著單元110結(jié)合時，第一吸著單元110與第二吸著單元120之間可具有密合元件，以防止吸著裝置100a吸著物體時，外界氣體由第一吸著單元110與第二吸著單元120的結(jié)合處被吸入，而降低吸著效果，甚至使吸著裝置100a失去吸著效果。

在前述的實施例中，當(dāng)?shù)诙鴨卧?20與第一吸著單元110結(jié)合時，倘若第一吸著單元110與第二吸著單元120之間已具有良好的氣密效果，第一吸著單元110與第二吸著單元120之間即不須具有密合元件。

在又一實施例中，第二吸著單元120可樞設(shè)于第一吸著單元110上，而使第二吸著單元120以設(shè)置于第一吸著單元110上的軸心為中心來進行旋轉(zhuǎn)，進而可改變第二吸著單元120的吸著位置，以配合欲吸著物件的形狀。

請參照圖1、圖1a及圖1b。前述的動作機構(gòu)130a通過與該吸著裝置100a的連接件130連接，而可帶動吸著裝置100a移動。在一實施例中，動作機構(gòu)130a可帶動吸著裝置100a上下移動(以圖1b仰視圖而言，動作機構(gòu)130a為沿著垂直于圖式頁面的方向移動)，并借此調(diào)整吸著裝置100a的高度，而使吸著裝置100a可吸著物體，進而提升物體的高度。接著，借由本體101的水平移動，物體即可被移動至另一位置。在一實施例中，動作機構(gòu)130a為可伸縮的桿件結(jié)構(gòu)，但并不限于此。

在一實施例中，吸著裝置100a也可容置于本體101的容置部101b中。在此實施例中，第一吸著單元110的底面(也即吸著裝置100a的底面)與本體101的底部101a共平面。

請同時參照圖1a、圖1b及圖1c，其中圖1c是繪示依照本發(fā)明的一實施例的貼合基板的方法的流程圖。在一實施例中，方法600是先提供第一基板(未繪示)、第二基板(未繪示)及前述的吸著系統(tǒng)100，并借由吸著系統(tǒng)100的吸著裝置100a吸著第一基板，如步驟601及602所示。其中，吸著裝置100a借由 第一吸著單元110與第二吸著單元120吸著第一基板。

然后，利用吸著系統(tǒng)100的動作機構(gòu)130a上提吸著裝置100a，并移動本體101的水平位置，以對準(zhǔn)被吸著的第一基板與第二基板，如步驟603及604所示。

在一實施例中，前述的動作機構(gòu)130a是可任意活動的動作機構(gòu)。因此，前述的本體101可固定不動，而借由任意活動的動作機構(gòu)130a來調(diào)整第一基板的水平位置及/或水平高度。

接著，借由前述的動作機構(gòu)130a下移吸著裝置100a，以貼合第一基板及第二基板，如步驟605及606所示。

請同時參照圖2、圖2a及圖2b，其中圖2是繪示依照本發(fā)明的另一實施例的吸著系統(tǒng)的仰視立體圖，圖2a是繪示沿著圖2的d-d’剖切線剖切的本發(fā)明的另一實施例的吸著系統(tǒng)的側(cè)視圖，且圖2b是繪示依照本發(fā)明的另一實施例的吸著裝置的仰視圖。吸著系統(tǒng)200的配置及其結(jié)構(gòu)大致上與吸著系統(tǒng)100的配置及其結(jié)構(gòu)相同，兩者的差異在于吸著系統(tǒng)200的吸著裝置200a還包含靜電盤250，且靜電盤250設(shè)置于本體201的底部201a上。

請參照圖2b及圖2c，圖2c是繪示依照圖2b的a部分放大的本發(fā)明的另一實施例的吸著裝置的仰視圖。如前所述，吸著裝置200a還包含多個靜電盤250。多個靜電盤250分別設(shè)置于第一吸著單元210所定義的間隔區(qū)域240中，且每個靜電盤250具有對應(yīng)第二吸著單元220的凹陷部250a，而使每個第二吸著單元220可移動地通過所對應(yīng)的凹陷部250a。

請參照圖2c，靜電盤250與第一吸著單元210及第二吸著單元220之間分別具有距離d1及d2，借此可讓第一吸著單元210及第二吸著單元220可沿垂直于圖式頁面之方向移動，通過多個靜電盤250。

請參照圖2、圖2a及圖2b。動作機構(gòu)230a分別連接吸著裝置200a的該些連接件230。在一實施例中，動作機構(gòu)230a可調(diào)整吸著裝置200a的高度，而調(diào)整被吸著裝置吸著的物體的高度。接著，借由本體201的移動，物體即 可被移動至另一位置。在一實施例中，動作機構(gòu)230a也可選擇性地連接吸著裝置200a的每個第一吸著單元210。

在一實施例中，吸著裝置200a也可容置于本體201的容置部201b中。在此實施例中，第一吸著單元210的底面(也即吸著裝置200a的底面)與本體201的底部201a共平面。

請參照圖2b及前述的說明，吸著裝置200a除可利用第一吸著單元210與第二吸著單元220同時吸著物體之外，吸著裝置200a還可借由靜電盤250來吸著物體。

前述的動作機構(gòu)230a可調(diào)整吸著裝置200a的高度，而使吸著裝置200a可吸著物體，進而提升物體的高度。接著，借由本體201的移動，物體即可被移動至另一位置。

吸著裝置200a也可容置于本體201的容置部201b中。因此，當(dāng)吸著裝置200a容置于容置部201b時，如圖2a所示，第一吸著單元210及第二吸著單元220的吸著元件210b及220b的水平高度是高于靜電盤250的底面的水平高度。

所以，當(dāng)動作機構(gòu)230a提升吸著裝置200a時，吸著裝置200a的底面會先與靜電盤250的底面共平面，而使得被吸著的物體同時被吸著裝置200a及靜電盤250吸著。然后，動作機構(gòu)230a持續(xù)提升吸著裝置200a，而使得吸著裝置200a容置于本體201的容置部201b中。此時，被吸著的物體僅被靜電盤250吸著。

請參照圖2a、圖2b及圖2d，其中圖2d是繪示依照本發(fā)明的另一實施例的貼合基板的方法的流程圖。方法700的流程步驟大致上與方法600的流程步驟相同，兩者的差異在于方法700是利用包含靜電盤250的吸著系統(tǒng)200來吸著基板。

相同地，方法700先提供第一基板(未繪示)、第二基板(未繪示)及前述包含靜電盤250的吸著系統(tǒng)200，并利用吸著裝置200a的第一吸著單元210及 第二吸著單元220吸著第一基板，如步驟701及702所示。

然后，利用動作機構(gòu)230a上提第一吸著單元210及第二吸著單元220，并利用靜電盤250吸著第一基板，如步驟703所示。

在步驟703中，當(dāng)?shù)谝晃鴨卧?10及第二吸著單元220的底面與靜電盤250的底面共平面時，第一基板同時被第一吸著單元210、第二吸著單元220及靜電盤250吸著。接著，動作機構(gòu)230a持續(xù)上提第一吸著單元210及第二吸著單元220，且第一吸著單元210及第二吸著單元220可移動地通過靜電盤250，并移動至本體201的容置部201b中，而使第一基板僅被靜電盤250吸著。

進行步驟703后，移動本體201，以移動靜電盤250，而可對準(zhǔn)第一基板及第二基板，如步驟704所示。接著，下移本體201，以下移靜電盤250，而可貼合被靜電盤250吸著的第一基板及第二基板，如步驟705及706所示。

請參照圖3a及圖3b，其分別繪示依照本發(fā)明的又一實施例與再一實施例的吸著裝置的仰視圖。吸著裝置300a及300b的配置及其結(jié)構(gòu)大致上與吸著裝置200a的配置及其結(jié)構(gòu)相同，其間的差異在于吸著裝置300a及300b的第二吸著單元320分別具有不同的排列方式。

在吸著裝置300a中，每個第二吸著單元320是互相平行，且第二吸著單元320不垂直于第一吸著單元310；在吸著裝置300b中，部分的第二吸著單元320是互相不平行，且第二吸著單元320可垂直或不垂直于第一吸著單元310。在一實施例中，第二吸著單元320與第一吸著單元310可根據(jù)被吸著物的形狀、面積或重量，調(diào)整第一吸著單元310及第二吸著單元320的配置，以及其各自的吸著力，而滿足不同被吸著物的需求。

請參照圖4，其是繪示依照本發(fā)明的又另一實施例的吸著裝置的仰視圖。在一實施例中，吸著裝置400a的配置及其結(jié)構(gòu)大致上與吸著裝置100a的配置及其結(jié)構(gòu)相同，第二吸著單元420分別垂直于每一個第一吸著單元410，且第一吸著單元410互相平行。兩者的差異在于吸著裝置400a中的第二吸著單元 420連接第一吸著單元410的每一個。在另一實施例中，第二吸著單元420也可連接第一吸著單元410的其中二個或更多個，但并未連接第一吸著單元410的每一個。

請參照圖5及圖5a，其中圖5是繪示依照本發(fā)明的再另一實施例的吸著裝置的仰視圖，且圖5a是繪示依照圖5的b部分放大的本發(fā)明的再另一實施例的吸著裝置的仰視圖。在一實施例中，吸著裝置500a的配置及其結(jié)構(gòu)大致上與吸著裝置400a的配置及其結(jié)構(gòu)相同，兩者的差異在于吸著裝置500a還包含靜電盤550，且靜電盤550設(shè)置于第一吸著單元510及第二吸著單元520之間，而使每個第一吸著單元510及每個第二吸著單元520可移動地通過靜電盤550。

由本發(fā)明前述的實施例可知，本發(fā)明所載吸著裝置的第一吸著單元及第二吸著單元可用以吸著被吸著物，且由第一吸著單元所延伸的第二吸著單元可有效解決現(xiàn)有因吸著不均所產(chǎn)生被吸著物下垂變形的缺陷。

其次，依據(jù)被吸著物的形狀及面積，第二吸著元件的設(shè)置位置，以及吸著元件的數(shù)量及其排列位置可被調(diào)整設(shè)計，以提升吸著裝置對于被吸著物的吸著效果。

再者，本發(fā)明的吸著裝置利用第二吸著單元及靜電盤可有效避免現(xiàn)有被吸著物下垂變形的缺陷。

雖然本發(fā)明已經(jīng)以實施方式公開如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作各種變動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當(dāng)視權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。