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用于有機膜的CMP漿料組合物及使用其的拋光方法與流程

文檔序號:11934208閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及用于拋光有機膜的用于有機膜的CMP漿料組合物以及使用其的有機膜拋光方法,所述CMP漿料組合物包含:極性溶劑和/或非極性溶劑;金屬氧化物研磨劑;氧化劑;和雜環(huán)化合物,其中作為雜原子的雜環(huán)化合物包含氧(O)原子、硫(S)原子和氮(N)原子中的一種或兩種并且具有50?95原子%的碳含量。

技術(shù)研發(fā)人員:俞龍植;崔正敏;姜東憲;金泰完;金古恩;金容國
受保護的技術(shù)使用者:三星SDI株式會社
文檔號碼:201580049063
技術(shù)研發(fā)日:2015.06.10
技術(shù)公布日:2017.05.17

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