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干燥方法以及干燥裝置制造方法

文檔序號:3796049閱讀:147來源:國知局
干燥方法以及干燥裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種干燥方法以及干燥裝置。在使涂敷液供給部與基板相對移動并在基板上涂敷涂敷液的涂敷工序中,會產(chǎn)生涂敷引起的條紋不均,成為外觀檢查不良的原因。因此,為了解決該課題,本發(fā)明提供一種干燥方法以及干燥裝置。在使涂敷液供給部與基板相對移動而在基板上涂敷涂敷液的涂敷工序和通過對該已涂敷的膜進行干燥來形成涂敷膜的干燥工序中,有意地在干燥工序中產(chǎn)生干燥不均,由此,緩和在涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋不均,使其不明顯,從而防止產(chǎn)生外觀不良。
【專利說明】干燥方法以及干燥裝置

【技術領域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種干燥方法以及干燥裝置。

【背景技術】
[0002] 近年來,開發(fā)了一種以太陽電池或顯示面板、照明裝置等為對象,大面積涂敷防反 射膜或遮擋特定波長光的波長調(diào)整膜等功能性膜的涂敷技術。
[0003] 然而,若使用模涂法來涂敷功能性膜,則存在在涂敷膜面上產(chǎn)生條紋狀的不均的 課題。因此,如圖13 (a)?圖13 (e)所示的裝置(參照專利文獻1)廣為人知,即在將涂敷 了涂敷液111的基板112輸送至干燥爐113并使其干燥時,銷114不與同一位置接觸,從而 避免產(chǎn)生涂敷膜的不均。
[0004] 現(xiàn)有技術文獻
[0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1 :日本特開2006-061755號公報
[0007] 然而,用上述專利文獻1的方法干燥的涂敷膜會反映出在涂敷工序中產(chǎn)生的條紋 不均。
[0008] 詳細而言,在涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋不均是指產(chǎn)生剛涂敷后的涂敷膜的膜厚呈 條紋狀的或厚或薄的這種偏差。因此,若直接使其干燥,則將維持上述膜厚偏差來進行干 燥,所以在干燥后的涂敷膜上會產(chǎn)生條紋狀的不均,并無法抑制。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0009] 本發(fā)明是用于解決上述以往課題的,其目的在于提供一種干燥方法以及干燥裝 置,其能夠在干燥工序中緩和涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋不均,并使其不明顯,由此來防止產(chǎn) 生外觀不良。
[0010] 為達成上述目的,本發(fā)明的干燥方法,使供給涂敷液并在涂敷對象物上涂敷所述 涂敷液的涂敷液供給部和所述涂敷對象物在與所述涂敷對象物的涂敷面平行的方向上相 對移動,而在所述涂敷對象物上涂敷所述涂敷液。接著,輸送涂敷了所述涂敷液的所述涂敷 對象物,并送往干燥工序。
[0011] 在干燥工序中,有意地在所述涂敷對象物的表面產(chǎn)生局部的干燥不均,由此,能夠 使在上述涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋不均不明顯。
[0012] 在此,剛涂敷后向干燥裝置輸送的過程也確定為干燥工序。
[0013] 發(fā)明效果
[0014] 如以上所述,本發(fā)明能夠在干燥工序中緩和涂敷工序中所涂敷的涂敷膜的條紋不 均,能夠使其不明顯,從而能夠防止產(chǎn)生外觀不良。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0015] 圖1為表示本發(fā)明的涂敷-干燥工序的示意圖。
[0016] 圖2 (a)?圖2 (b)為表示本發(fā)明的涂敷膜的不均的圖。
[0017] 圖3為表示實施例1中的干燥工序的基板保持的方法的圖。
[0018] 圖4為表示實施例1中的干燥不均評價結果的圖。
[0019] 圖5 (a)?圖5 (b)為表示實施例1中的干燥工序的基板保持配置的圖。
[0020] 圖6 (a)?圖6 (b)為表示實施例2中的干燥工序的基板保持的方法的圖。
[0021] 圖7 (a)?圖7 (b)為表示實施例2中的干燥工序的基板保持的其他方法的圖。
[0022] 圖8 (a)?圖8 (b)為表示實施例3中的干燥工序的基板保持的方法的圖。
[0023] 圖9 (a)?圖9 (b)為表示實施例3中的干燥工序的基板保持的其他方法的圖。
[0024] 圖10 (a)?圖10 (b)為表示實施例3中的干燥工序的方法的圖。
[0025] 圖11為表示實施例4中的干燥工序的方法的圖。
[0026] 圖12為表示實施例5中的干燥工序的方法的圖。
[0027] 圖13 (a)?圖13 (e)為表示專利文獻1的干燥工序中的基板保持的方法的圖。
[0028] 圖中:
[0029] 1涂敷液供給機構
[0030] 2多孔質(zhì)材料
[0031] 3、112 基板
[0032] 4涂敷膜
[0033] 5、15 載置臺
[0034] 6基板輸送機構
[0035] 7、113 干燥爐
[0036] 8基板保持機構
[0037] 9接觸部

【具體實施方式】
[0038] 使用圖1,對本發(fā)明的涂敷-干燥工序加以說明。圖1為表示本發(fā)明的涂敷-干燥 工序的流程的圖。本發(fā)明的實施工序由涂敷工序(1)與干燥工序(2 )兩個工序組成。
[0039] 作為本實施方式,涂敷工序(1)表示使用多孔質(zhì)涂敷法來進行涂敷的情況。
[0040] 在圖1中,使用涂敷液供給機構1將涂敷液高精度地向多孔質(zhì)材料2定量供給,使 保持于載置臺5上的基板3與多孔質(zhì)材料2在規(guī)定的位置接觸,之后,使多孔質(zhì)材料2與基 板3相對移動,由此,在基板3上將涂敷液涂敷成面狀。
[0041] 在此,涂敷方法并不限于前述的多孔質(zhì)涂敷,也適用于狹縫涂敷、簾式涂敷、噴霧 涂敷、噴墨涂敷、輥涂敷等。
[0042] 接著,對干燥工序(2 )加以說明。
[0043] 在此,使在涂敷工序(1)中形成于基板3上的涂敷液在干燥爐7內(nèi)干燥。在此,干 燥方式并不受限制。例如,可以想到通過對基板進行加熱來使涂敷液的溶劑成分揮發(fā)而進 行干燥的加熱干燥方法、或者通過在負壓狀態(tài)的氣氛中保持基板來使涂敷液的溶劑成分揮 發(fā)的減壓干燥方法等。
[0044] 使用圖2 (a)?圖2 (b),對本發(fā)明的特征加以說明。圖2 (a)?圖2 (b)為表示 形成于基板3上的涂敷膜4的不均的圖。
[0045] 在本發(fā)明中,對在涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋不均(圖2 (a)),在干燥工序中有意地 遍及基板3的整個面內(nèi)產(chǎn)生點狀的干燥不均,或者在與涂敷方向垂直的方向上產(chǎn)生干燥不 均,由此,使在涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋狀的不均如圖2 (b)所示那樣并不明顯。
[0046] 在此,所謂干燥工序,即使在從涂敷工序(1)向干燥工序(2)移動的過程中,涂敷 液的溶劑成分也會氣化,所以認為是干燥工序。此外,根據(jù)需要,也可以在同一地點實施涂 敷工序和干燥工序。
[0047] 接著,以下,對產(chǎn)生上述干燥工序中的干燥不均的具體實施例進行說明。
[0048] (實施例1)
[0049] 作為產(chǎn)生干燥工序中的干燥不均的實施例之一,使用圖1進行詳細說明。
[0050] 使用規(guī)定的涂敷方法,在保持于載置臺5上的基板3上涂敷涂敷液(圖1- (1))。 其后,通過基板輸送機構6,將基板3向被設定為規(guī)定溫度的干燥爐7的內(nèi)部輸送后,使金屬 銷(作為一個例子,將基板保持機構8作為金屬銷)接觸基板3的背面(未涂敷涂敷液的面), 同時使基板3上的涂敷液干燥(圖1-(2))。再者,在圖1中,雖然示出基板輸送機構6通過 旋轉(zhuǎn)輥進行輸送,但并不限于此。
[0051] 在此,從被加熱至規(guī)定溫度的金屬銷(基板保持機構8),通過基板3背面的金屬銷 的接觸部9而傳遞熱量,此位置周邊的基板3的溫度升高。此外,相反地,在金屬銷(基板保 持機構8)未接觸的位置,由于通過涂敷液的溶劑成分的氣化所產(chǎn)生的氣化熱,熱量被奪走, 所以溫度比金屬銷所接觸的接觸部9低。
[0052] 因此,從溫度高的部分開始容易干燥,溫度低的部分干燥緩慢,所以,干燥過程中, 能夠在基板面內(nèi)產(chǎn)生干燥緩慢部分與干燥迅速部分的不均。此時,干燥迅速的位置的溶劑 成分少,干燥緩慢位置的溶劑成分殘留較多,所以,溶劑成分從多的位置向少的位置流動。
[0053] 由于上述原理而產(chǎn)生涂敷液的流動,與此相伴,涂敷液內(nèi)部的固體成分(形成膜的 成分)的量產(chǎn)生不均,所以在存在溫度不均的位置產(chǎn)生膜厚的不均。也就是說,在金屬銷的 接觸位置周邊能夠產(chǎn)生干燥不均。
[0054] 由此,能夠得到在涂敷工序中所產(chǎn)生的條紋狀的不均被點狀的干燥不均完全消除 的效果。人眼非常容易看到條紋不均,因此即使很細微的膜厚變化也很容易造成外觀不良, 但即使存在點狀不均,目視上也不明顯。因此,能夠使人感覺條紋狀的不均被完全消除了。
[0055] 在此,作為金屬銷的材質(zhì),根據(jù)上述目的,采用熱傳導性良好的金屬較為理想。此 夕卜,金屬銷的頂端形狀并不受特別限定,但從防止劃傷基板或防止金屬銷頂端磨損的觀點 出發(fā),對頂端形狀進行R加工是較為理想的。
[0056] 進而,金屬銷的接觸位置需要在基板面內(nèi)存在多個,并且需要一定與基板背面接 觸的機構,例如,使用獨立彈簧,使各金屬銷具有彈力也是有效的。
[0057] 接著,對接觸部9的詳細內(nèi)容加以說明。為了在該接觸部9產(chǎn)生溫度不均,從而產(chǎn) 生干燥不均并使涂敷工序的條紋不均不明顯,使條紋不均不明顯的銷配置很重要。
[0058] 本發(fā)明中,在將防反射膜形成于太陽電池的防護玻璃基板上的探討中,對涉及上 述接觸部9的排列的詳細內(nèi)容進行了探討。使用圖3來加以說明。圖3為表示在干燥工序 中使用金屬銷10保持涂敷了涂敷液的基板3的狀態(tài)的剖面圖。
[0059] 具體來說,在厚度約為3mm的玻璃基板3上,使用多孔質(zhì)涂敷法涂敷能夠在干燥后 形成防反射膜的數(shù)mPa · s的涂敷液4。之后,投入已加熱到50?300°C左右的干燥爐內(nèi), 并使涂敷液的溶劑成分蒸發(fā)來形成涂敷膜。
[0060] 在此,使金屬銷10的間隔X變化為100、50、30、20、10、5謹,并進行最終的涂敷膜的 目視評價。其結果示于圖4中。目視評價從相隔50?100cm的距離目視確認干燥后的膜, 確認有無可能形成特別的外觀不良的不均。
[0061] 結果,在金屬銷10的間隔在20mm以下的情況下,通過目視評價能夠確認涂敷不 均變得不明顯。可認為這是由于從使金屬銷10接觸的點起產(chǎn)生大約Φ10?15rnm左右的 球狀的干燥不均,所以,在觀察整個涂敷面的情況下,在基板的整個面上產(chǎn)生球狀的干燥不 均,由此,通過涂敷工序,條紋不均變得不明顯。因此,理想的是:將金屬銷10的間隔設定在 20mm以下。
[0062] 此外,金屬銷10并不是有規(guī)則地排列的,隨機配置更能夠得到通過目視評價不易 觀察到不均的效果。具體地使用圖5 (a)?圖5 (b)加以說明。圖5 (a)為表示干燥工序 中的基板保持方法的圖,圖5 (b)為表示基板保持機構(此處為金屬銷)接觸基板的配置的 圖。
[0063] 如圖5 (a)?圖5 (b)的金屬銷11那樣,在將由相鄰的金屬銷構成的間隔保持在 20_以下的狀態(tài)下,隨機配置圖3中所配置的金屬銷10,則能夠進一步使條紋不均不明顯。 此外,可推測,若不足5_,則不容易產(chǎn)生溫度不均,不易得到使條紋不均不明顯的效果。此 夕卜,在物理上,以不足5mm的間隔設置金屬銷,恐怕會產(chǎn)生裝置的復雜化和成本增加。因此, 將金屬銷的間隔設為5?20mm較為理想。
[0064] 此外,在構成涂敷液的溶劑成分為揮發(fā)性高的溶劑的情況下,在由干燥工序中的 溫度差引起的流動發(fā)生以前,溶劑成分氣化而失去液體的流動性,很難產(chǎn)生前述的干燥不 均。因此,理想的是,對于溶劑成分之一,使用沸點至少在l〇〇°C以上的高沸點溶劑。
[0065] (實施例2)
[0066] 接下來,使用圖6 (a)?圖6 (b),對在干燥工序中產(chǎn)生溫度不均的機構的其他方 法加以說明。圖6 (a)為表示干燥工序中的基板保持方法的圖,圖6 (b)為表示基板保持 機構(此處為金屬銷)接觸基板的配置的圖。
[0067] 接觸基板背面同時保持基板的機構也可使用隨機開有沖孔12的金屬板13。
[0068] 可是,在此,需要使金屬板13接觸基板3的整個背面,在使用起伏或者翹曲大的基 板3的情況下,為了使追隨性良好,需要對厚度和材質(zhì)進行選定。但是,只要滿足與該基板 3的背面接觸,則并不特別限定。此外,根據(jù)需要,在裝置中具有將金屬板13向基板3的背 面推抵的機構也是有效的。在此,代替金屬板13,也可使用金屬制的絲網(wǎng)或者金屬棉等。
[0069] 進而,使用圖7 (a)?圖7 (b),對在干燥工序中產(chǎn)生溫度不均的其他機構加以說 明。圖7 (a)為表示干燥工序中的基板保持方法的圖,圖7 (b)為表示基板保持機構(此處 為金屬銷)接觸基板的配置的圖。與基板3的背面接觸同時保持基板3的機構也可使用鋪 滿金屬球14的載置臺15。在此,為了使金屬球14與基板3的整個背面接觸,進而為了保持 隨機性,也可以將直徑不同的金屬球組合使用。此外,若為直徑不同的金屬球14鋪滿了載 置臺15上的狀態(tài),則能夠期待由于基板3的重量,金屬球14自由地移動,而容易追隨基板 3的背面的效果。
[0070] (實施例3)
[0071] 進而,對干燥工序中的基板保持機構的其他方法加以說明。實施例1、2說明了為 了點狀地保持基板而采用通過金屬銷實現(xiàn)的方法作為基板保持方法,但在本實施例中,對 在與涂敷方向垂直的方向上進行保持的方法加以說明。圖8 (a)、圖9 (a)為表示干燥工序 中的基板保持方法的圖,圖8 (b)以及圖9 (b)為表示基板保持機構接觸基板的配置的圖。
[0072] 圖8 (a)?圖8 (b)表示一種使保持機構16與基板的背面接觸來進行干燥的方 法,其中該保持機構16由金屬或者石墨等熱傳導性優(yōu)良的材質(zhì)構成,并在表面具有以隨機 間隔形成的槽形狀。
[0073] 圖9 (a)?圖9 (b)表示使用由金屬等熱傳導性優(yōu)良的材質(zhì)構成的多條繩索17 來保持基板的方法。
[0074] 無論上述哪種方法,都能夠通過在與涂敷方向垂直的方向上使基板保持機構與基 板接觸,而在干燥工序中有意地在其接觸方向上產(chǎn)生干燥不均,從而能夠得到使由涂敷工 序所產(chǎn)生的條紋不均不明顯的效果。
[0075] (實施例4)
[0076] 接著,使用圖10 (a)?圖10 (b),對其他的干燥方法加以說明。圖10 (a)?圖 10 (b)為表示此干燥方法的圖。
[0077] 實施例1?3為在干燥工序中,通過使基板保持機構接觸基板背面來產(chǎn)生溫度不 均,從而有意地產(chǎn)生干燥不均的方法。在本實施例中,作為產(chǎn)生上述溫度不均的方法,為通 過燈的照射來進行的加熱干燥方法。
[0078] 具體來說,如圖10 (a)所示那樣,是一種用加熱燈18來照射涂敷于基板3上的涂 敷液4并進行加熱干燥的方法。在此,為了在基板3的面內(nèi)產(chǎn)生不均,例如,在基板3的背 面配置開有多個孔19的金屬板20,由此,從燈18照射并透過涂敷膜4以及基板3的光在金 屬板20反射,并再次照射基板3以及涂敷膜4。也就是說,在具有金屬板20的部分和孔19 的部分有無光反射的情況不同。結果,能夠在基板上產(chǎn)生局部的溫度不均,從而能夠產(chǎn)生干 燥不均。
[0079] 此外,如圖10 (b)所示,在基板3和燈18之間配置金屬板20也能夠得到同樣的 效果。通過了金屬板20的孔19的燈光對基板3以及涂敷膜4進行加熱,沒有孔19的部分 不會產(chǎn)生由直接照射引起的過熱。因此,能夠在基板3的面內(nèi)產(chǎn)生溫度不均,從而引起干燥 不均。
[0080] (實施例5)
[0081] 使用圖11,對產(chǎn)生干燥工序中的干燥不均的其他的實施例加以說明。圖11為表示 在干燥工序中有意地產(chǎn)生干燥不均的其他方法的圖。
[0082] 此處為如下方法:在干燥工序中,對于涂敷了涂敷液4的基板3,將局部具有微小 的孔的配管21配置于涂敷面上,供給設定為規(guī)定溫度的空氣22,同時在干燥爐內(nèi)進行干 燥。在此,理想的是,將所噴吹的空氣的溫度設定為與基板3的氣氛溫度即干燥爐的溫度不 同。由此,由于噴吹的空氣壓以及局部的溫度差,而在基板上的涂敷液的厚度上局部地產(chǎn)生 不均,結果,能夠產(chǎn)生干燥不均。
[0083] 在此,由于上述實施例1中所述的理由,理想的是:將噴射空氣22的間隔設定為 20mm以下。此外,若配管21與基板3之間的間隔大,則不容易得到噴吹空氣22的效果,若 過窄,則會有攪亂涂敷液而在涂敷膜上產(chǎn)生不均的擔憂,所以,理想的是:在裝置中附有能 夠自由調(diào)整配管21與基板3之間的間隔的機構。
[0084] (實施例6)
[0085] 使用圖12,對產(chǎn)生干燥工序中的干燥不均的其他的實施例加以說明。本實施例為 一種在干燥工序中,將溶劑成分使用噴射器23等對涂敷了涂敷液4的基板3噴射溶劑的方 法。若所噴吹的溶劑成分24與基板3上的涂敷膜4接觸,則此部分中的溶液內(nèi)的固體成分 比例減少,因此,結果是干燥后的膜厚變薄。這是一種利用這一特征來產(chǎn)生干燥不均的方 法。
[0086] 在此,作為噴吹溶劑成分的機構,若液滴大,則所形成的不均較明顯,因此,需要向 基板噴吹微小的液滴。作為此機構,理想的是使用超聲波式噴射器、噴霧器等。
[0087] 產(chǎn)業(yè)上的可利用性
[0088] 本發(fā)明的涂敷干燥方法能夠利用于向太陽電池、建材用途等的基板涂敷防反射 膜、波長調(diào)整膜等功能性膜。
【權利要求】
1. 一種干燥方法,包括:涂敷工序,通過在一定方向上對基材涂敷涂敷液,而在所述基 材的表面形成涂敷膜;和干燥工序,對所述涂敷膜進行干燥,其中, 所述干燥工序為在基材的面內(nèi)產(chǎn)生點狀的溫度不均來進行干燥的工序。
2. 根據(jù)權利要求1所述的干燥方法,其中, 所述干燥工序是使多個銷與在所述基材上涂敷涂敷液的面的相反面接觸來進行的。
3. 根據(jù)權利要求2所述的干燥方法,其中, 所述多個銷的間隔為5?20mm。
4. 根據(jù)權利要求2或者3所述的干燥方法,其中, 所述多個銷中,相鄰銷之間的間隔為隨機設置的。
5. 根據(jù)權利要求2?4的任一項中所述的干燥方法,其中, 在所述干燥工序中,使具有以規(guī)定的間隔形成的多個槽的部件與在所述基材上涂敷涂 敷液的面的相反面接觸,同時進行干燥。
6. 根據(jù)權利要求2?4的任一項中所述的干燥方法,其中, 在所述干燥工序中,使多個繩索狀的部件以規(guī)定的間隔與在所述基材上涂敷涂敷液的 面的相反面接觸,同時進行干燥。
7. 根據(jù)權利要求2?4的任一項中所述的干燥方法,其中, 在所述干燥工序中,以規(guī)定的間隔以及圖案向在所述基材上涂敷涂敷液的面噴吹規(guī)定 溫度的氣體,同時進行干燥。
8. 根據(jù)權利要求2?4的任一項中所述的干燥方法,其中, 在所述干燥工序中,以規(guī)定的間隔以及圖案向在所述基材上涂敷涂敷液的面噴吹規(guī)定 溫度的溶劑,同時進行干燥。
9. 一種干燥裝置,其特征在于,具備: 載置臺,載置基材; 涂敷液供給機構,與所述載置臺相對配置,并向所述基材的表面供給涂敷液;和 基板輸送機構,使所述載置臺和所述涂敷液供給機構相對移動, 還具有與所述基板中的被供給所述涂敷液的面的相反面的規(guī)定位置接觸的多個銷。
10. -種干燥裝置,其特征在于,具備: 載置臺,載置基材; 涂敷液供給機構,與所述載置臺相對配置,并向所述基材的表面供給涂敷液;和 基板輸送機構,使所述載置臺和所述涂敷液供給機構相對移動, 在所述基材的涂敷液面?zhèn)扰渲眉訜嵊脽?,并且,在所述載置臺與加熱用燈之間、或者在 配置所述加熱用燈的一側的相反側,配置以規(guī)定的間隔形成了規(guī)定直徑的孔的金屬板。
11. 一種干燥裝置,其特征在于,具備: 載置臺,載置基材; 涂敷液供給機構,與所述載置臺相對配置,并向所述基材的表面供給涂敷液;和 基板輸送機構,使所述載置臺和所述涂敷液供給機構相對移動, 并具有以規(guī)定的間隔向所述基板的涂敷液面噴吹規(guī)定溫度的空氣的機構。
12. -種干燥裝置,其特征在于,具備: 載置臺,載置基材; 涂敷液供給機構,與所述載置臺相對配置,并向所述基材的表面供給涂敷液;和 基板輸送機構,使所述載置臺和所述涂敷液供給機構相對移動, 并具有以規(guī)定的間隔向所述基板的涂敷液面噴吹規(guī)定溫度的溶劑的機構。
【文檔編號】B05C13/00GK104096666SQ201410082063
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年3月7日 優(yōu)先權日:2013年4月9日
【發(fā)明者】土田修三, 堀川晃宏, 中村嘉宏 申請人:松下電器產(chǎn)業(yè)株式會社
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