適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置制造方法
【專利摘要】一種適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，包括牽引系統(tǒng)，第一擠壓涂布頭，設置在所述微孔基材的一側(cè)；并與所述微孔基材非接觸；-第二擠壓涂布頭，設置在所述微孔基材的另一側(cè)；其中，所述第二擠壓涂布頭的下唇以線接觸或面接觸的方式與微孔基材接觸；所述第二擠壓涂布頭將漿料間歇地涂布在與微孔基材行進方向交叉的方向上的基材上；所述第一擠壓涂布頭與所述第二擠壓涂布頭隔著所述微孔基材相對置的位置附近配置，所述第一擠壓涂布頭將所述漿料對著所述第二擠壓涂布頭的下唇與所述微孔基材線接觸或面接觸的部位進行涂布。本實用新型具有可在微孔基材兩面涂布而不存在基材兩面的涂層粘性不一樣，以及也不存在在涂布輥上殘留漿料和干結(jié)的涂層刺破基材的問題的優(yōu)點。
【專利說明】適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置
[0001]【技術(shù)領域】
[0002]本發(fā)明涉及一種適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，特別是適合于鋰電池制作過程中在微孔基材上進行雙面擠壓涂布裝置。
[0003]【背景技術(shù)】
[0004]鋰電池的生產(chǎn)一般包括正極基片，負極基片及隔離膜，而正極基片和負極基片的生產(chǎn)離不開涂布工藝?，F(xiàn)有的涂布方法分為涂布輥式間歇式涂布方法和擠壓式涂布方法，擠壓式方法由于其涂布精度高，控制容易而受到用戶的歡迎。
[0005]現(xiàn)有采用擠壓式涂布方法在基材兩面進行涂布，一般有兩種方法，一種是分面先后涂布，就是先在基材的一面進行涂布，干燥后，再對基材的另一面進行涂布并干燥；這種方式的具體實現(xiàn)一般都是用兩組涂布設備，先后對基材的兩面進行涂布和干燥，這種方式設備占地大，初期投入大，且設備利用率不高；另一種在干燥前雙面涂布，它是采用在基材的雙面涂布后，再進入干燥箱時行干燥，如中國專利文獻CN102744183A公開的擠壓頭、涂布裝置及涂布系統(tǒng)，以及中國專利文獻CN103230861A所公開的擠壓式雙面涂布機，均屬于此類涂布方式。
[0006]前述的后者雙面涂布裝置中都有一個共同的特點(如圖4所示)，那就是均有兩個涂布頭100、300，其中第一涂布頭100與涂布輥200配合實現(xiàn)在基材400的上表面進行第一面涂布，而第二涂布頭300位于涂布輥200與烘箱500的進口之間的基材400的下側(cè)，對基材400的下表面進行涂布，從而實現(xiàn)對基材的雙面涂布；基材400通過位于烘箱500后側(cè)的牽引裝置600向前牽引，如圖中牽引方向F所示。
[0007]上述雙面涂布裝置對于基材是平面的基材而言，進行雙面涂布是沒有問題的，但是，隨著對鋰電池的技術(shù)指標的更高的要求，鋰電池制造行業(yè)需要在帶有孔的基材(后面稱為微孔基材)上進行雙面涂布，以提高鋰電池的技術(shù)性能；如果采用傳統(tǒng)的第一種涂布方法顯然是不合適的，因為，第一種涂布方法是分面先后涂布，就是先在基材的一面進行涂布，干燥后，再對基材的另一面進行涂布并干燥；采用這種方法在微孔基材上進行雙面涂布會產(chǎn)生許多問題，一是兩面的涂層的粘連性不一致，容易造成后涂的一面的涂層脫落，這是因為先涂的一面的涂層在涂布后，會有一部分涂料透過基材上的微孔分布到另一面的基材表面上，經(jīng)第一次干燥后會干枯在該表面上，再在該表面進行第二次涂布并干燥，第一次涂布后殘留下該表面上的涂料與第二涂布的涂層涂料結(jié)合度不好，且影響第二次涂布的涂層與基材的直接結(jié)合，所以會造成后涂的涂層容易脫落的問題；二是這種涂布上方式，采用是涂布頭與涂布輥配合進行涂布的，所以在第一次涂布后，會在涂布輥上殘留部分涂料，隨著時間增長，在涂布輥上殘留的涂料就越多，這就需要定時停機對涂布輥表面進行清洗，影響涂布設備的連續(xù)化作業(yè)。如果采用傳統(tǒng)的第二種涂布方法，即在干燥前雙面涂布，再進入干燥箱時行干燥。雖然，涂層兩面的粘連性比上述第一種方法好一些，但是，還是存在粘連性不完全一致的問題；同時也存在會在涂布輥上殘留部分涂料，需要定時清洗涂布輥的問題；后者還存在第三個問題，就是由于第二涂布頭位于涂布輥與烘箱的進口之間(一般是靠近烘箱的進口處)的基材的下側(cè)，這樣殘留在基材下表面的涂層會聚集在第二涂布頭的靠涂布輥的一側(cè)，而影響到第二涂布頭的涂布質(zhì)量，出現(xiàn)涂布厚度不穩(wěn)定的問題，嚴重時，干結(jié)的涂層還會刺破基材，造成涂布次品。
[0008]
【發(fā)明內(nèi)容】

[0009]為了克服上述問題，本發(fā)明向社會提供一種適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，使用該方法在微孔基材兩面涂布不存在基材兩面的涂層粘性不一樣的問題，以及也不存在在涂布輥上殘留漿料和干結(jié)的涂層刺破基材的問題。
[0010]本發(fā)明的技術(shù)方案是:提供一種適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，在具有涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域且形成為片狀的微孔基材的雙面的上述涂布區(qū)域內(nèi)涂布漿料，所述雙面擠壓涂布裝置包括:
[0011]-牽引系統(tǒng)，使所述微孔基材朝一個方向行進；
[0012]-第一擠壓涂布頭，設置在所述微孔基材的一側(cè)；并與所述微孔基材非接觸，所述第一擠壓涂布頭將漿料間歇地涂布在與基材行進方向交叉的方向上的基材上；
[0013]-第二擠壓涂布頭，設置在所述微孔基材的另一側(cè)；其中，所述第二擠壓涂布頭的下唇以線接觸或面接觸的方式與微孔基材接觸；所述第二擠壓涂布頭將漿料間歇地涂布在與微孔基材行進方向交叉的方向上的基材上；
[0014]所述第一擠壓涂布頭與所述第二擠壓涂布頭隔著所述微孔基材相對置的位置附近配置，所述第一擠壓涂布頭將所述漿料對著所述第二擠壓涂布頭的下唇與所述微孔基材線接觸或面接觸的部位進行涂布。
[0015]作為對上述雙面擠壓涂布裝置的改進，所述牽引系統(tǒng)包括位于烘箱尾部的牽引部和位于擠壓涂布頭之前的定速部，所述牽弓I部用于給微孔基材施力，讓微孔基材向后行進；所述定速部用于保持基材行進速度處于恒定速度。
[0016]作為對上述雙面擠壓涂布裝置的改進，所述烘箱包括外殼，在所述外殼內(nèi)設有數(shù)排向下噴熱氣的上噴頭和數(shù)排向上噴熱氣下噴頭，所述微孔基材在所述上噴頭和下噴頭之間行進。
[0017]作為對上述雙面擠壓涂布裝置的改進，所述微孔基材在行進過程的轉(zhuǎn)彎處或/烘箱內(nèi)是采用氣浮的方式向上托的。
[0018]作為對上述雙面擠壓涂布裝置的改進，所述第一擠壓頭和第二擠壓頭的橫向連線的方向垂直于微孔基材的行進方向；或者，所述第一擠壓頭和第二擠壓頭的橫向連線的方向斜交于微孔基材的行進方向。
[0019]本發(fā)明由于去掉了涂布輥，在原涂布輥的位置設置第二擠壓涂布頭，并將第二擠壓涂布頭的下唇與微孔基材接觸，使第二擠壓涂布頭起到支撐微孔基材和在微孔基材的背面涂布漿料的雙重作用；將所述第一擠壓涂布頭與所述第二擠壓涂布頭隔著所述微孔基材相對置的位置附近配置，所述第一擠壓涂布頭將所述漿料對著所述第二擠壓涂布頭的下唇與所述微孔基材線接觸或面接觸的部位進行涂布，可以解決漿料殘留和兩面漿料粘連性不同的問題，這是因為當?shù)谝粩D壓涂布頭對著第二擠壓涂布頭的下唇與所述微孔基材線接觸或面接觸的部位進行涂布時，即使有部分漿料透過基材上的微孔留到第二擠壓涂布頭的下唇與所述微孔基材線接觸或面接觸的部位，也會由于隨之而來的向后行進的微孔基材而帶走這些殘留的漿料，而被第二擠壓涂布頭所噴出的漿料覆蓋，不會在線接接觸或面接觸的部位形成殘留漿料；同時，由于第一擠壓涂布頭和第二擠壓頭的相隔涂布時間幾乎是在瞬間，所述由第一擠壓涂布頭涂布的透過微孔的漿料，很快就被第二涂布頭涂布的漿料覆蓋，兩者會很好的溶合，因此，不會存在兩面漿料粘連性不同的問題。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1是本發(fā)明的一種實施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0021]圖2是本發(fā)明的另一種實施例的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖3是圖1所示實施例擠壓涂布頭的又一種布置示意圖。
[0023]圖4是現(xiàn)有的雙面涂布裝置的平面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0024]請參見圖1至圖3，本發(fā)明還提供一種適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，在具有涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域且形成為片狀的微孔基材的雙面的上述涂布區(qū)域內(nèi)涂布漿料，所述雙面擠壓涂布裝置包括:
[0025]-牽引系統(tǒng)，使所述微孔基材朝一個方向行進；本實施例中，所述牽引系統(tǒng)包括位于烘箱尾部的牽引部11和位于擠壓涂布頭之前的定速部12，所述牽引部11用于給微孔基材13施力，讓微孔基材13向后行進；所述定速部12用于保持微孔基材13行進速度處于基本恒定速度；在所述定速部12與放卷裝置17之間設有放卷張力檢測裝置19，被烘干后的微孔基片13被牽引出烘箱16后，經(jīng)過機尾行進糾偏裝置20和烘箱張力檢測裝置21后，被牽引部11向后牽引，再經(jīng)過收卷張力檢測裝置22后，入收卷機構(gòu)18。本發(fā)明中的放卷裝置17可以用放卷糾偏裝置代替，收卷機構(gòu)18可以用收卷糾偏機構(gòu)代替。
[0026]-第一擠壓涂布頭14,具有上唇141和下唇142,衆(zhòng)料從上唇141和下唇142之間形成的間隙噴出，涂布于微孔基材13的一側(cè)表面；所述第一擠壓涂布頭14設置在所述微孔基材13的一側(cè)；并與所述微孔基材13非接觸，所述第一擠壓涂布頭14將漿料間歇地涂布在與微孔基材13行進方向交叉的方向上的微孔基材13上；
[0027]-第二擠壓涂布頭15，具有上唇151和下唇152，漿料從上唇151和下唇152之間形成的間隙噴出，涂布于微孔基材13的另一側(cè)表面上，所述第二擠壓涂布頭15設置在所述微孔基材13的另一側(cè)；其中，所述第二擠壓涂布頭15的下唇152以線接觸或面接觸的方式與微孔基材13接觸；所述第二擠壓涂布頭15將漿料間歇地涂布在與微孔基材13行進方向交叉的方向上的微孔基材13上；
[0028]本發(fā)明的關鍵是，所述第一擠壓涂布頭14與所述第二擠壓涂布頭15隔著所述微孔基材13相對置的位置附近配置，所述第一擠壓涂布頭14將所述漿料對著所述第二擠壓涂布頭15的下唇152與所述微孔基材13線接觸或面接觸的部位153進行涂布。
[0029]如此，可以達到三個目的，將所述第二擠壓涂布頭15的下唇152與微孔基材13接觸，使第二擠壓涂布頭15起到支撐微孔基材13和在微孔基材13的背面涂布漿料的雙重作用；將所述第一擠壓涂布頭14與所述第二擠壓涂布頭15隔著所述微孔基材13相對置的位置附近配置，所述第一擠壓涂布頭14將所述漿料對著所述第二擠壓涂布頭15的下唇152與所述微孔基材13線接觸或面接觸的部位153進行涂布，可以解決漿料殘留和兩面漿料粘連性不同的問題，這是因為當?shù)谝粩D壓涂布頭14對著第二擠壓涂布頭15的下唇152與所述微孔基材13線接觸或面接觸的部位153進行涂布時，即使有部分漿料透過微孔基材13上的微孔留到第二擠壓涂布頭15的下唇152與所述微孔基材13線接觸或面接觸的部位153，也會由于隨之而來的向后行進的微孔基材13帶走這些殘留的漿料，而被第二擠壓涂布頭15所噴出的漿料覆蓋，不會在線接接觸或面接觸的部位153形成殘留漿料；同時，由于第一擠壓涂布頭14和第二擠壓頭15的相隔涂布的時間幾乎是在瞬間，所述由第一擠壓涂布頭14涂布的透過微孔的漿料，很快就被第二涂布頭15涂布的漿料覆蓋，兩者會很好的溶合，因此，不會存在兩面漿料粘連性不同的問題。
[0030]上述雙面擠壓涂布裝置中，還包括烘箱16，所述烘箱16包括外殼161，在所述外殼161內(nèi)設有數(shù)排向下噴熱氣的上噴頭162和數(shù)排向上噴熱氣下噴頭163，所述上噴頭162和所述下噴頭163可以是錯位設置，也可以是相對設置，所述微孔基材13在所述上噴頭162和下噴頭163之間行進，錯位設置時，所述微孔基材13在烘箱16以正弦波的方式行進。在所述微孔基材13的轉(zhuǎn)彎處設有轉(zhuǎn)彎氣浮裝置；在所述烘箱16的后部設有收卷裝置18 ;在所述擠壓涂布頭14、15的前面設有放卷機構(gòu)17。
[0031]上述雙面擠壓涂布裝置中，所述微孔基材13在行進過程的轉(zhuǎn)彎處或/烘箱16內(nèi)是采用氣浮的方式向上托的；所述第一擠壓頭14和第二擠壓頭15的橫向連線的方向垂直于微孔基材的行進方向(參見圖1和圖2);或者，所述第一擠壓頭14和第二擠壓頭15的橫向連線的方向斜交于微孔基材13的行進方向，參見圖3,斜交于微孔基材13的行進方向適合于微孔基材13轉(zhuǎn)彎時布置第一擠壓頭14和第二擠壓頭15。
【權(quán)利要求】
1.一種適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，在具有涂布區(qū)域和非涂布區(qū)域且形成為片狀的微孔基材的雙面的上述涂布區(qū)域內(nèi)涂布漿料，其特征在于，所述雙面擠壓涂布裝置包括: -牽引系統(tǒng)，使所述微孔基材朝一個方向行進； -第一擠壓涂布頭，設置在所述微孔基材的一側(cè)；并與所述微孔基材非接觸，所述第一擠壓涂布頭將漿料間歇地涂布在與基材行進方向交叉的方向上的微孔基材上； -第二擠壓涂布頭，設置在所述微孔基材的另一側(cè)；其中，所述第二擠壓涂布頭的下唇以線接觸或面接觸的方式與微孔基材接觸；所述第二擠壓涂布頭將漿料間歇地涂布在與微孔基材行進方向交叉的方向上的微孔基材上； 所述第一擠壓涂布頭與所述第二擠壓涂布頭隔著所述微孔基材相對置的位置附近配置，所述第一擠壓涂布頭將所述漿料對著所述第二擠壓涂布頭的下唇與所述微孔基材線接觸或面接觸的部位進行涂布。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，其特征在于:所述牽引系統(tǒng)包括位于烘箱尾部的牽引部和位于擠壓涂布頭之前的定速部，所述牽引部用于給微孔基材施力，讓微孔基材向后行進；所述定速部用于保持微孔基材行進速度處于基本恒定速度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，其特征在于:所述烘箱包括外殼，在所述外殼內(nèi)設有數(shù)排向下噴熱氣的上噴頭和數(shù)排向上噴熱氣下噴頭，所述微孔基材在所述上噴頭和下噴頭之間行進。
4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，其特征在于:所述微孔基材在行進過程的轉(zhuǎn)彎處或/烘箱內(nèi)是采用氣浮的方式向上托的。
5.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的適合于微孔基材的雙面擠壓涂布裝置，其特征在于:所述第一擠壓頭和第二擠壓頭的橫向連線的方向垂直于微孔基材的行進方向；或者，所述第一擠壓頭和第二擠壓頭的橫向連線的方向斜交于微孔基材的行進方向。
【文檔編號】B05C9/04GK203540825SQ201320722482
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年11月17日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月17日
【發(fā)明者】楊志明 申請人:深圳市信宇人科技有限公司