專利名稱：一種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及ー種涂布機(jī)構(gòu)，尤其涉及ー種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)。
技術(shù)背景凹版涂布機(jī)主要用于包裝膜的涂布生產(chǎn)，通過將成卷的基膜涂上ー層特定功能的膠、涂料或油墨等，并烘干后收卷。它采用專用的高速涂布頭，能有效降低氣泡的產(chǎn)生，涂布機(jī)的收放卷均配置全速自動接膜機(jī)構(gòu)，張カ閉環(huán)自動控制。傳統(tǒng)的涂布機(jī)構(gòu)由色版和橡膠導(dǎo)輥組成，色版和導(dǎo)輥上下垂直壓接布置，基膜從色版和導(dǎo)輥之間經(jīng)過，通過導(dǎo)輥的壓カ與色版充分接觸實現(xiàn)涂布。由于基膜的運動方向與色版一致，兩者的速度必須保持一致，這樣就大大的降低了基膜的涂布量，降低了生產(chǎn)效率。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種能提高涂布量和生產(chǎn)效率的新型涂布機(jī)構(gòu)。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的ー種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)，所述涂布機(jī)構(gòu)包括兩個導(dǎo)輥、色版和電機(jī)，所述兩個導(dǎo)輥和色版橫向平行布置于涂布機(jī)的機(jī)架且相互不接觸，所述電機(jī)與色版相連，且色版的轉(zhuǎn)動方向與被加工基膜的運行方向相反。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是本實用新型ー種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)，其中導(dǎo)輥與色版之間不相互接觸，且色版的轉(zhuǎn)動方向與被加工基膜的運行方向相反，這樣不僅可以提高涂布的質(zhì)量，而且可以提聞涂布量，從而提聞了生廣效率。

圖I為本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖I的側(cè)視圖。其中導(dǎo)輥I色版2電機(jī)3。
具體實施方式
參見圖Iー圖2，本實用新型涉及ー種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)，所述涂布機(jī)構(gòu)主要由兩個導(dǎo)輥I、色版2和電機(jī)3組成。所述兩個導(dǎo)輥I和色版2三者橫向平行布置與涂布機(jī)的機(jī)架上，所述兩個導(dǎo)輥I和色版2的截面呈三角形布置，所述電機(jī)3與色版2相連，且色版2的轉(zhuǎn)動方向與被加工基膜的運行方向相反。[0014] 通過電機(jī)3可調(diào)節(jié)色版2的轉(zhuǎn)速，色版2的轉(zhuǎn)速快慢可以實現(xiàn)基膜涂布量 的調(diào)節(jié)。
權(quán)利要求1. ー種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)，其特征在于所述涂布機(jī)構(gòu)包括兩個導(dǎo)輥(I)、色版(2)和電機(jī)(3)，所述兩個導(dǎo)輥(I)和色版(2)橫向平行布置于涂布機(jī)的機(jī)架且相互不接觸，所述電機(jī)(3)與色版(2)相連，且色版(2)的轉(zhuǎn)動方向與被加工基膜的運行方向相反。
專利摘要本實用新型涉及一種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)，其特征在于所述涂布機(jī)構(gòu)包括兩個導(dǎo)輥(1)、色版(2)和電機(jī)(3)，所述兩個導(dǎo)輥(1)和色版(2)橫向平行布置于涂布機(jī)的機(jī)架且相互不接觸，所述電機(jī)(3)與色版(2)相連，且色版(2)的轉(zhuǎn)動方向與被加工基膜的運行方向相反。本實用新型一種應(yīng)用于凹版涂布機(jī)上的新型涂布機(jī)構(gòu)，其中導(dǎo)輥與色版之間不相互接觸，且色版的轉(zhuǎn)動方向與被加工基膜的運行方向相反，這樣不僅可以提高涂布的質(zhì)量，而且可以提高涂布量，從而提高了生產(chǎn)效率。
文檔編號B05C1/12GK202447244SQ20122001559
公開日2012年9月26日 申請日期2012年1月14日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月14日
發(fā)明者張學(xué)斌, 薛永榮 申請人:江陰新光鐳射包裝材料有限公司