專利名稱：滾筒式鍍膜設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種滾筒式鍍膜設備。
背景技術：
鍍膜是指通過物理或化學方法在光學元件表面鍍上單層或多層薄膜。光學元件的鍍膜制程通常為首先，將光學元件安裝于鍍膜治具上，鍍膜治具設置于一容器中；其次， 密閉容器，對容器抽真空；然后，以蒸鍍或濺鍍等方法在光學元件需要鍍膜的部位進行鍍膜；最后，打開容器，將經(jīng)過鍍膜的光學元件從鍍膜治具上拆卸下來。也即是說，現(xiàn)有的蒸鍍或濺鍍的鍍膜技術中一般需要在真空條件下進行，如此，不僅設備成本較高，而且當需要更換鍍膜材料時，還需重新抽真空，使得鍍膜不連續(xù)，效率低下且鍍膜質量難以保證。

發(fā)明內容
有鑒于此，有必要提供一種效率高且能夠保證鍍膜質量的滾筒式鍍膜設備。一種滾筒式鍍膜設備，于大氣壓環(huán)境下對待鍍膜基材進行鍍膜。該滾筒式鍍膜設備包括承載裝置，形成有一收容槽；基座，設置在該收容槽底部，用于支撐至少一待鍍膜基材；清洗裝置和加熱裝置，設置在收容槽內并固定在承載裝置中部；滾筒裝置，設置在清洗裝置與加熱裝置上方，其包括多個并排設置的滾筒，滾筒之間彼此間隔，相鄰滾筒間的間距等于待鍍膜基材的厚度；噴液裝置，設置在滾筒裝置上方并固定于承載裝置上，用于為所述待鍍膜基材提供待鍍液；以及驅動裝置，與基座連接，用于驅動該基座相對該收容槽旋轉以及上下運動，使得該待鍍膜基材在經(jīng)過該清洗裝置清洗之后，于滾筒之間穿過滾筒裝置進而由該滾筒以及噴液裝置進行鍍膜，并在完成鍍膜之后由該加熱裝置烘干。相對于現(xiàn)有技術，本發(fā)明的滾筒式鍍膜設備在大氣壓環(huán)境下對待鍍膜基材進行鍍膜，鍍膜過程無需抽真空及破真空，使得鍍膜連續(xù)，提高了鍍膜效率且能夠保證鍍膜品質。



圖1是本發(fā)明較佳實施方式提供的滾筒式鍍膜設備的立體分解圖。
圖2是圖1的滾筒式鍍膜設備另一視角的立體分解圖。
圖3是圖1的滾筒式鍍膜設備的組裝圖。
圖4是圖3的滾筒式鍍膜設備的一種使用狀態(tài)示意圖。
圖5是圖3的滾筒式鍍膜設備的另一種使用狀態(tài)示意圖。
圖6是圖3的滾筒式鍍膜設備的又一種使用狀態(tài)示意圖。
主要元件符號說明
滾筒式鍍膜設備100
承載裝置10
收容槽11
底面13
側面15
頂面17
臺階19
基座20
承載板21
插槽23
清洗裝置30
壓縮空氣氣槍31
加熱裝置40
控制電路板41
電加熱元件43
滾筒裝置50
支架51
滾筒53
滾動馬達55
噴液裝置60
噴液端61
吸液端63
驅動裝置70
旋轉馬達71
升降馬達73
升降軸75
控制器77
通孔115
第一開口111
第二開口113
待鍍膜基材200
具體實施例方式請參閱圖1和圖2，為本發(fā)明較佳實施方式提供的一種滾筒式鍍膜設備100，其包括一承載裝置10，該承載裝置10形成有一收容槽11。該滾筒式鍍膜設備100還包括一設置在收容槽11底部的基座20、設置在收容槽11中部的一清洗裝置30和一加熱裝置40、設置在收容槽11頂部的一滾筒裝置50、設置在滾筒裝置50上方的一噴液裝置60、以及一設置在承載裝置10底部的驅動裝置70。該基座20用于支撐至少一個待鍍膜基材200，該驅動裝置70驅動該基座20帶動該待鍍膜基材200在該收容槽11內上下運動，以供該滾筒裝置50以及噴液裝置60共同對該待鍍膜基材200進行鍍膜。具體的，該承載裝置10包括底面13、兩個相對設置的側面15以及與底面相對的頂面17。該底面13上開設有一個通孔115用于收容部分驅動裝置70。該收容槽11大致呈 T型，該收容槽11通過一個形成在頂面17上的第一開口 111以及兩個分別形成在側面15上的第二開口 113與外部連通，第一開口 111與第二開口 113連通。該第二開口 113的邊緣形成有對稱的臺階19?？梢岳斫?，該收容槽11還可以設置為其他形狀，如U型或是圓柱形等。該基座20設置在該收容槽11底部，且對正該通孔115。該基座20包括一承載板 21，該承載板21遠離底面13的表面上形成有多個插槽23，用于分別收容多個待鍍膜基材 200。插槽23彼此間距，相鄰插槽23間的距離為第一間距。當該待鍍膜基材200插設在承載板21上時，每個待鍍膜基材200均大致垂直于承載板21，使得相鄰待鍍膜基材200之間的距離同樣為第一間距。本實施方式中，待鍍膜基材200為玻璃板。該清洗裝置30固定于承載裝置10的側面15上。具體的，該清洗裝置30包括兩個壓縮空氣氣槍31，用于對該待鍍膜基材200進行噴氣清洗。該兩個壓縮空氣氣槍31相互對正設置?？梢岳斫?，所述壓縮空氣氣槍31可以通過黏膠或者磁鐵吸合的方式固定在側面 15上，所述壓縮空氣氣槍31的氣源可以通過氣管從承載裝置10外側面通入。該加熱裝置40于收容槽11的第二開口 113處固定于承載裝置10的側面15上， 且與該清洗裝置30大致設置在同一高度。本實施方式中，該加熱裝置40的數(shù)量設置為兩個。每個加熱裝置40包括一控制電路板41以及多個設置在控制電路板41上的電加熱元件43。該控制電路板41兩端可通過螺釘固定于第二開口 113的邊緣上，該電加熱元件43 朝向收容槽11內部設置，并能夠發(fā)射熱輻射源。該控制電路板41上具有控制電路(圖未示)，該控制電路用于對電加熱元件43電源的通斷和加熱溫度的高低進行調節(jié)控制。該滾筒裝置50設置在清洗裝置30與加熱裝置40上方，且與承載板21大致平行。 該滾筒裝置50包括兩個相對設置的支架51以及多個并排設置的滾筒53，每個所述支架51 固定設置在該臺階19上，每個滾筒53通過其兩端固定在支架51上，滾筒53可相對于支架 51旋轉。相鄰滾筒53的外表面之間的最小間距為第二間距，該第二間距等于該待鍍膜基材 200的厚度。每個滾筒53的直徑與第二間距之和大致等于所述第一間距。每個滾筒53與一個滾動馬達陽固定連接，該滾動馬達陽用于驅動每個滾筒53同時朝同一個方向連續(xù)滾動或者朝相反方向來回滾動?？梢岳斫猓鰸L動馬達陽可以設置在承載板21的內表面或者外表面。該噴液裝置60設置在滾筒裝置50上方，并固定在承載裝置10的第一開口 111相對的邊緣上，用于為所述滾筒裝置50以及待鍍膜基材200提供鍍膜材料。具體的，該噴液裝置60具有多個與所述滾筒53 —一對應的噴液端61，該噴液端61朝向承載裝置10的底部，用于向滾筒裝置50以及待鍍膜基材200噴灑待鍍液?？梢岳斫獾氖?，該多個噴液端61 可以分別噴出一種或多種待鍍液，進而可對該待鍍膜基材200進行單層或多層鍍膜。該噴液裝置60還包括多個與噴液端61對應的吸液端63，用于吸入待鍍液以提供給噴液端61噴出。當噴液端61需要噴出多種待鍍液時，通過控制吸液端63使得不同的待鍍液在不同的時間段噴出，以避免不同的液體間相互污染。該驅動裝置70與基座20傳動連接，用于驅動該基座20上的待鍍膜基材200在該收容槽11內旋轉以及上下運動，使得待鍍膜基材200依次經(jīng)過該清洗裝置30清洗，以及該加熱裝置40烘干之后，于滾筒53之間卡設在該滾筒裝置50上，并繼續(xù)由驅動裝置70驅動而相對該滾筒53來回運動而進行鍍膜。具體的，該驅動裝置70包括一個旋轉馬達71以及一個升降馬達73，該旋轉馬達71穿過該通孔115與基座20固定連接，可驅動該基座20來回旋轉360度。該升降馬達73具有一升降軸75，該升降軸75 —端與旋轉馬達71活動連接，另一端與升降馬達73旋轉連接，該升降馬達73可驅動該升降軸75 —邊旋轉一邊上下運動。本實施方式中，該升降軸75為一螺紋軸。該旋轉馬達71通過該升降軸75與該升降馬達73相連，使得該旋轉馬達71可被該升降馬達73驅動上下移動。該驅動裝置70還包括一控制器77，該控制器77用于供用戶手動或自動控制該旋轉馬達71以及升降馬達73在不同時間段內運動。請參閱圖3至圖6，使用時，將該滾筒式鍍膜設備100放置在大氣壓環(huán)境下，基座 20收容在收容槽11內，基座20的承載板21與承載裝置10的底面13貼合，且待鍍膜基材 200的端部均對正所述兩個相對設置的壓縮空氣氣槍31。打開該清洗裝置30以及驅動裝置70的旋轉馬達71，旋轉馬達71在一定的角度范圍內來回旋轉承載板21，從而帶動待鍍膜基材200來回旋轉，使得清洗裝置30噴出壓縮空氣對旋轉的待鍍膜基材200進行清洗， 以確保壓縮空氣氣槍31氣槍吹氣至整個待鍍膜基材200表面。清潔一定時間后，關閉清洗裝置30，控制旋轉馬達71使得基座20旋轉，直到基座20上的待鍍膜基材200均平行于滾筒53設置的方向為止。打開升降馬達73，使得待鍍膜基材200提升至與滾筒裝置50相對應的位置，且每個待鍍膜基材200夾設在每兩個滾筒53之間。啟動滾筒裝置50上的滾動馬達以及打開噴液裝置60上的噴液端61，使得每個噴液端61將待鍍液噴灑至與其相對應的滾筒53以及待鍍膜基材200上?？刂粕雕R達73使得基座20上的待鍍膜基材200相對于滾筒53在短距離內上下運動。本實施方式中，所述短距離小于等于該待鍍膜基材200 的長度。該滾筒53在滾動過程中，將待鍍液均勻涂布在待鍍膜基材200上。在對該待鍍膜基材200完成均勻涂布待鍍液后，通過升降馬達73帶動該待鍍膜基材200下降至與加熱裝置40齊平的位置，開啟該加熱裝置40，對涂布了待鍍液的待鍍膜基材200及時進行加熱以形成結晶相，從而形成膜層。完成加熱之后，通過升降馬達73將該待鍍膜基材200回復到收容槽11底部，并從第二開口 113處取出，從而獲得鍍膜產(chǎn)品。本發(fā)明的滾筒式鍍膜設備100在大氣壓環(huán)境下對待鍍膜基材200進行鍍膜，鍍膜過程無需抽真空及破真空，使得鍍膜連續(xù)，提高了鍍膜效率且能夠保證鍍膜品質。可以理解的是，本領域技術人員還可于本發(fā)明精神內做其它變化，都應包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內。
權利要求
1.一種滾筒式鍍膜設備，于大氣壓環(huán)境下對待鍍膜基材進行鍍膜，該滾筒式鍍膜設備包括承載裝置，形成有一收容槽；基座，設置在該收容槽底部，用于支撐至少一待鍍膜基材；清洗裝置和加熱裝置，設置在收容槽內并固定在承載裝置中部；滾筒裝置，設置在清洗裝置與加熱裝置上方，其包括多個并排設置的滾筒，滾筒之間彼此間隔，相鄰滾筒間的間距等于待鍍膜基材的厚度；噴液裝置，設置在滾筒裝置上方并固定于承載裝置上，用于為所述待鍍膜基材提供待鍍液；以及驅動裝置，與基座連接，用于驅動該基座相對該收容槽旋轉以及上下運動，使得該待鍍膜基材在經(jīng)過該清洗裝置清洗之后，于滾筒之間穿過滾筒裝置進而由該滾筒以及噴液裝置進行鍍膜，并在完成鍍膜之后由該加熱裝置烘干。
2.如權利要求1所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該承載裝置形成有一個底面、兩個相對設置的側面以及一個與底面相對的頂面，該底面上開設有一個通孔，該驅動裝置部分收容在該通孔內并通過該通孔與基座連接，該收容槽通過一個形成在頂面上的第一開口以及兩個分別形成在側面上的第二開口與外部連通，第一開口與第二開口連通，清洗裝置固定設置在該側面上，加熱裝置設置在第二開口的邊緣上。
3.如權利要求2所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該加熱裝置包括一控制電路板以及多個設置在控制電路板上的電加熱元件，該控制電路板通過螺釘固定在第二開口的邊緣，該電加熱元件朝向收容槽內部設置并輻射熱能。
4.如權利要求2所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該第二開口的邊緣形成有相對的臺階，該滾筒裝置兩端固定在該臺階上。
5.如權利要求2所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該驅動裝置包括一個旋轉馬達以及一個升降馬達，該旋轉馬達穿過該通孔與基座固定連接并用于驅動該基座旋轉，該升降馬達具有一升降軸，該旋轉馬達通過該升降軸與該升降馬達相連并被該升降馬達驅動上下移動。
6.如權利要求1所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該基座包括一承載板，該承載板上形成有多個插槽用于分別收容多個待鍍膜基材，插槽彼此間距，相鄰插槽間的距離等于該滾筒的直徑與待鍍膜基材的厚度之和。
7.如權利要求1所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該噴液裝置具有多個噴液端，該噴液端與該待鍍膜基材相對以向待鍍膜基材噴灑待鍍液。
8.如權利要求7所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該噴液裝置還包括多個與噴液端對應的吸液端，用于吸入待鍍液以提供給噴液端噴出。
9.如權利要求1所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該滾筒裝置上設置有多個滾動馬達，用于分別驅動每個滾筒朝同一個方向連續(xù)滾動或者朝相反方向來回滾動。
10.如權利要求1所述的滾筒式鍍膜設備，其特征在于，該驅動裝置包括一控制器，該控制器用于供用戶手動或自動控制該旋轉馬達以及升降馬達在不同時間段內運動。
全文摘要
一種滾筒式鍍膜設備，于大氣壓環(huán)境下對基材進行鍍膜。該鍍膜設備包括承載裝置，形成有一收容槽；基座，設置在收容槽底部，用于支撐至少一基材；清洗裝置和加熱裝置，設置在收容槽內并固定在承載裝置中部；滾筒裝置，設置在清洗裝置與加熱裝置上方，其包括多個并排設置且彼此間隔的滾筒，相鄰滾筒間的間距等于基材的厚度；噴液裝置，設置在滾筒裝置上方并固定于承載裝置上，用于為基材提供待鍍液；以及驅動裝置，與基座連接，用于驅動基座相對收容槽旋轉以及上下運動，使得基材在經(jīng)過該清洗裝置清洗之后，于滾筒之間穿過滾筒裝置進而由滾筒以及噴液裝置進行鍍膜，并在完成鍍膜之后由該加熱裝置烘干，從而提高效率且保證鍍膜質量。
文檔編號B05C11/10GK102327839SQ201010225958
公開日2012年1月25日 申請日期2010年7月14日 優(yōu)先權日2010年7月14日
發(fā)明者裴紹凱 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司