專利名稱：用于固相合成核酸的接頭和載體的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及用于固相合成核酸的接頭，攜帶該接頭的用于固相合成的載體和利用 該載體的核酸制備方法。
背景技術：
對于化學合成核酸例如DNA、RNA等等，廣泛采用利用亞磷酰胺法的固相合成工 藝。在固相亞磷酰胺法中，通常通過以下步驟合成核酸。首先，將待合成核酸3’末端的核苷通過3’ -OH基團與切割接頭(例如琥珀?；?團)形成酯鍵，以便首先在用于固相合成的載體上攜帶核苷(核苷接頭)。然后，將攜帶核 苷接頭的用于固相合成的載體置于反應柱中，然后將反應柱設置在自動化核酸合成儀上。其后，根據(jù)自動化核酸合成儀的合成計劃通常在反應柱中進行包括以下步驟的合 成反應(1)用酸例如三氯乙酸/ 二氯甲烷溶液等等對帶保護基團的核苷的5’_0H基團進 行脫保護的步驟；團，-SH基團)在除去保護基團后成為親核基團。當在核酸合成后通過氨水等等切割核酸 時，這些親核基團的保護基團也被解離以攻擊3’末端磷，磷酸基團被從3’末端切割以形成 環(huán)磷酸。全部都用于合成在3’末端具有-OH基團的核酸。另外，已經提出一些通用載體用于在期望合成的核酸的5’末端或者3’末端提供 磷酸基團。例如專利文獻5和非專利文獻4公開了一種通用的接頭能夠合成在5’末端具 有磷酸基團的核酸，一種攜帶該通用接頭的通用載體，和一種利用該通用載體合成核酸的 方法。因為在5’末端或者3’末端具有磷酸基團的核酸可以廣泛地用于多種生物化學領 域例如核酸的化學鍵反應，利用末端磷酸基團的核酸修飾，核酸的結構研究等等，它是非常 有用的。鑒于這樣的情況，期望一種通用接頭能夠合成在5’末端或者3’末端具有磷酸基 團的核酸和攜帶該接頭的通用載體。[現(xiàn)有技術][專利文獻]專利文獻1 :US-B-5681945專利文獻2 :US-B-665;3468專利文獻3 :W02005/049621專利文獻4 :US-A-2005/0182241專利文獻5 :US-B-5959090[非專利文獻]非專利文獻 1 Current Protocols in Nucleic Acid Chemistry(2000)非專利文獻2:Bio Techniques，22，752-756 (1997)非專利文獻3 =Tetrahedron, 57，4977-4986 (2001)非專利文獻4 =Tetrahedron Letters, 27 :4705-4708 (1986)
發(fā)明內容
本發(fā)明解決的問題本發(fā)明目的是提供一種通用接頭能夠合成在3’末端具有磷酸基團的核酸，一種攜 帶該接頭的通用載體，和利用該通用載體合成核酸的方法。特別的，本發(fā)明目的是提供一種用于固相合成的載體，其能夠通用地以高純度合 成在3’末端具有磷酸基團的核酸，其不需要預先攜帶經修飾的核苷的用于固相合成的載 體，即使在合成經修飾的寡核苷酸時。解決問題的手段因此，本發(fā)明提供以下。[1] 一種用于固相合成核酸的接頭，其包含由下式的至少一種表示的化合物
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其中X是由酸解離的羥基保護基團，L是由堿切割的連接部分，和R1、! 2、! 3和R4各自獨立地是氫原子，碳數(shù)目為1 6的烷基基團，碳數(shù)目為1 6 的烷氧基基團，碳數(shù)目為1 6的烷基氨基基團，或者鹵素原子。
權利要求
1.一種用于固相合成核酸的接頭，其包含由下式的至少一種表示的化合物
2.根據(jù)權利要求1所述的用于固相合成核酸的接頭，其中L是琥珀?；鶊F。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的用于固相合成核酸的接頭，其中X是二甲氧基三苯甲基基團。
4.一種用于固相合成核酸的載體，其包含由下式的至少一種顯示的結構
5.根據(jù)權利要求4所述的用于固相合成核酸的載體，其中L是琥珀?；鶊F。
6.根據(jù)權利要求4或5所述的用于固相合成核酸的載體，其中X是二甲氧基三苯甲基基團。
7.根據(jù)權利要求4 6任一項所述的用于固相合成核酸的載體，其中Sp是包括多孔合 成聚合物顆?；蛘叨嗫撞Ａьw粒的固相載體。
8.一種制備核酸的方法，其包括在根據(jù)權利要求4 7任一項所述的用于固相合成核 酸的載體上進行核酸合成反應的步驟。
9.權利要求8的制備方法，其中所述核酸合成反應是通過固相亞磷酰胺方法進行的。
全文摘要
本發(fā)明提供了通用接頭，其能夠合成在3’末端具有磷酸基團的核酸，攜帶該接頭的通用載體，和利用該通用載體的核酸合成方法。提供了一種用于固相合成核酸的接頭，其含有通過下式至少一種表示的化合物，其中每個符號是如在說明書中定義的。
文檔編號C08F212/08GK102060699SQ201010527738
公開日2011年5月18日 申請日期2010年10月21日 優(yōu)先權日2009年10月21日
發(fā)明者前田惠里, 味吞憲二郎, 塚本真幸, 小西達也, 早川芳宏, 森健二郎 申請人:國立大學法人名古屋大學, 日東電工株式會社