平板玻璃的制造方法和平板玻璃的制造裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及平板玻璃的制造方法和平板玻璃的制造裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]平板玻璃的制造裝置將熔融玻璃連續(xù)地供給至浮拋窯內(nèi)的熔融錫上，使其向下游方向流動而形成帶板狀的玻璃帶。浮拋窯內(nèi)的空間通過間隔壁(前過梁(front lintel))而隔成下游側(cè)的主空間和上游側(cè)的流道出口(spout)空間。主空間比流道出口空間充分地大，且為了防止熔融錫的氧化而由還原性氣體充滿。
[0003]該平板玻璃的制造裝置為通過配置在流道出口空間中的流道出口唇板而將熔融玻璃供給至浮拋窯內(nèi)的熔融錫上。供給至熔融錫上的熔融玻璃形成向下游方向流動的主流(前流(front flow))和朝向以空出間隔的方式設(shè)置于流道出口唇板的下方的磚逆流的支流(回流(back flow)) ο通過埋設(shè)在磚的內(nèi)部的發(fā)熱體，將熔融錫上的熔融玻璃加熱(例如參照專利文獻I)。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻1:日本特開2007-131525號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]發(fā)明所要解決的課題
[0008]如果發(fā)熱體埋設(shè)在磚的內(nèi)部，則在磚被熔融玻璃或熔融錫侵蝕時，有時發(fā)熱體的成分在熔融玻璃等中溶出。而且，如果發(fā)熱體埋設(shè)在磚的內(nèi)部，則難以僅更換發(fā)熱體。
[0009]因此，考慮在磚的外部設(shè)置發(fā)熱體，但是在這種情況下，從熔融玻璃蒸發(fā)的成分等會附著于發(fā)熱體的表面。如果該附著物落于熔融錫上的熔融玻璃處，則成為玻璃的破裂或缺陷的原因。另外，在將發(fā)熱體設(shè)置在磚的外部的情況下，發(fā)熱體與周邊氣氛發(fā)生反應(yīng)而逐漸劣化。
[0010]本發(fā)明是鑒于上述課題而完成的，其目的在于提供一種能夠抑制發(fā)熱體的附著物落于熔融錫上的熔融玻璃處，且能夠抑制發(fā)熱體的劣化的平板玻璃的制造方法和平板玻璃的制造裝置。
[0011]用于解決課題的技術(shù)手段
[0012]為了解決上述課題，根據(jù)本發(fā)明一個方式的平板玻璃的制造方法，將熔融玻璃從流道出口唇板連續(xù)地供給至浮拋窯內(nèi)的熔融錫上，且使與以空出間隔的方式設(shè)置于所述流道出口唇板的下方的磚接觸的熔融玻璃在所述熔融錫上流動，其中
[0013]使用發(fā)熱體加熱所述磚，該發(fā)熱體設(shè)置于所述流道出口唇板與所述磚之間，且設(shè)置于比所述磚的與熔融玻璃的接觸面的更上游側(cè)，
[0014]而且，向所述流道出口唇板與所述磚之間的間隙空間吹入惰性氣體。
[0015]另外，根據(jù)本發(fā)明另一方式的平板玻璃的制造裝置，其包含:
[0016]流道出口唇板，其將熔融玻璃連續(xù)地供給至浮拋窯內(nèi)的熔融錫上；
[0017]磚，其以空出間隔的方式設(shè)置于該流道出口唇板的下方，且與從所述流道出口唇板供給的熔融玻璃接觸；
[0018]發(fā)熱體，其設(shè)置于所述流道出口唇板與所述磚之間，且設(shè)置于比所述磚的與熔融玻璃的接觸面更上游側(cè)；以及
[0019]惰性氣體供給部，其向所述流道出口唇板與所述磚之間的間隙空間吹入惰性氣體。
[0020]發(fā)明效果
[0021]根據(jù)本發(fā)明的一個方式，提供一種能夠抑制發(fā)熱體的附著物落于熔融錫上的熔融玻璃處，且能夠抑制發(fā)熱體的劣化的平板玻璃的制造方法和平板玻璃的制造裝置。
【附圖說明】
[0022]圖1為表示第I實施方式中的平板玻璃的制造裝置的主要部分的剖面圖。
[0023]圖2為示意性地表示圖1的熔融錫上的熔融玻璃的流動的俯視圖。
[0024]圖3為表示第2實施方式中的平板玻璃的制造裝置的主要部分的剖面圖。
【具體實施方式】
[0025]以下，參照附圖對用于實施本發(fā)明的方式進行說明。需要說明的是，在各附圖中，對于相同或?qū)?yīng)的構(gòu)成賦予相同或?qū)?yīng)的符號并省略其說明。在各附圖中，箭頭A方向表示下游方向，箭頭B方向表示上游方向。
[0026](第I實施方式)
[0027]圖1為表示第I實施方式中的平板玻璃的制造裝置的主要部分的剖面圖。圖2為示意性地表示圖1的恪融錫上的恪融玻璃的流動的俯視圖。
[0028]如圖1所示，平板玻璃的制造裝置將熔融玻璃30連續(xù)地供給至浮拋窯10內(nèi)的熔融錫20上，且使供給的熔融玻璃30在熔融錫20上流動而成形為帶板狀的玻璃帶30A。成形后的玻璃帶30A在浮拋窯10的下游區(qū)域中被從熔融錫20提起，且被運送至緩慢冷卻爐內(nèi)，緩慢冷卻后切斷為特定的尺寸，而成為平板玻璃。
[0029]浮拋窯10內(nèi)的空間11通過間隔壁(前過梁)17而隔成下游側(cè)的主空間111和上游側(cè)的流道出口空間112。主空間111比流道出口空間112充分地大。
[0030]在主空間111中，為了防止熔融錫20的氧化，供給還原性氣體。還原性氣體例如可為氮氣與氫氣的混合氣體，且包含85體積％?98.5體積％的氮氣、1.5體積％?15體積％的氫氣。
[0031]對主空間111供給還原性氣體的還原性氣體供給部60，由設(shè)置在形成主空間111的頂面的頂板12上的孔等構(gòu)成。
[0032]平板玻璃的制造裝置包括:流道出口唇板14，其將熔融玻璃30連續(xù)地供給至浮拋窯10內(nèi)的熔融錫20上；以及磚15，其以空出間隔的方式設(shè)置于流道出口唇板14的下方，且與從流道出口唇板14供給的熔融玻璃30接觸。流道出口唇板14、磚15設(shè)置于浮拋窯10的前壁13處。流道出口唇板14和磚15由氧化鋁質(zhì)、氧化鋯質(zhì)等的耐火物構(gòu)成。
[0033]流道出口唇板14、磚15和從磚15開始傾斜地延伸的側(cè)壁16優(yōu)選由以重量％計ZrO2S 85%以上且97%以下，剩余部分為以S12為主體的玻璃質(zhì)的熱熔融耐火物構(gòu)成。熱熔融耐火物為使耐火物的原料在高溫下熔融并再結(jié)晶而形成的耐火物。熱熔融耐火物ZrO2為主要作為斜鋯石晶體而存在。熱熔融耐火物的剩余部分為以S12S主體的玻璃質(zhì)，且存在于ZrO2的斜鋯石晶體的晶界，將熱熔融耐火物致密化。該玻璃質(zhì)中除S12以外，還可含有微量的Al203、Na20、P205等。該熱熔融耐火物的耐熱性優(yōu)異，且可抑制因與熔融玻璃30的反應(yīng)等而產(chǎn)生泡，另外，也可抑制在玻璃帶30A的流動方向上產(chǎn)生的微細條紋。在熔融玻璃為無堿玻璃、特別是含有硼酸的無堿玻璃的情況下是較有效的。
[0034]作為無堿玻璃的具體例子，可以列舉含有以下成分的無堿玻璃:以氧化物基準的質(zhì)量百分率表示，
[0035]Si02:50%?73%
[0036]Al2O3:10.5%?24%
[0037]B203:0% ?12%
[0038]Mg0:0%?8%
[0039]Ca0:0%?14.5%
[0040]Sr0:0%?24%
[0041]Ba0:0%?13.5%
[0042]MgO+CaO+SrO+BaO:8 % ?29.5 %
[0043]Zr02:0%?5%。
[0044]在應(yīng)變點高且考慮熔解性的情況下，優(yōu)選可以列舉含有以下成分的無堿玻璃:以氧化物基準的質(zhì)量百分率表示，
[0045]Si02:58%?66%
[0046]Al2O3:15%?22%
[0047]B203:5% ?12%
[0048]Mg0:0%?8%
[0049]Ca0:0%?9%
[0050]Sr0:3%?12.5%
[0051]Ba0:0%?2%
[0052]MgO+CaO+SrO+BaO: 9 % ?18 %。
[0053]特別是在考慮高應(yīng)變點的情況下，優(yōu)選可以列舉含有以下成分的無堿玻璃:以氧化物基準的質(zhì)量百分率表示，
[0054]Si02:54%?73%
[0055]Al2O3-10.5%?22.5%
[0056]Β203:0%?5.5%
[0057]Mg0:0%?8%
[0058]Ca0:0%?9%
[0059]Sr0:0% ?16%
[0060]Ba0:0%?2.5%
[0061]MgO+CaO+SrO+BaO: 8 % ?26 %。
[0062]需要說明的是，在本實施方式中，流道出口唇板14、磚15、左側(cè)的側(cè)壁16、以及右側(cè)的側(cè)壁16全部由上述熱熔融耐火物構(gòu)成，但是也可以不是全部由上述熱熔融耐火物構(gòu)成。只要至少一者由上述熱熔融耐火物構(gòu)成，則可在某種程度上得到上述效果。
[0063]可以在流道出口唇板14上流動的熔融玻璃30的左右兩側(cè)，配設(shè)用于防止熔融玻璃30從流道出口唇板14向左右溢出的橫壁。在設(shè)置有該橫壁的情況下，包含該橫壁在內(nèi)稱為流道出口唇板14。
[0064]從流道出口唇板14供給至熔融錫20上的熔融玻璃30，為由流道控制閘板19進行流量調(diào)節(jié)。如圖2所示，從流道出口唇板14的前端部142供給至熔融錫20上的熔融玻璃30形成向下游方