本發(fā)明屬于半導(dǎo)體材料,具體地涉及一種碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法。
背景技術(shù):
1、碘化銻是半導(dǎo)體及熱電材料的重要摻雜劑,并且可用作化工領(lǐng)域催化劑的制備原料,以及用于制藥領(lǐng)域,用途廣泛。目前,碘化銻的制備方法主要是采用濕法合成或干法合成兩種方法。
2、碘化銻的濕法合成是采用苯作為溶劑,通過加熱回流的方式使銻粉與碘反應(yīng),在反應(yīng)過程中,分批加入碘以控制反應(yīng)速率,避免劇烈反應(yīng)導(dǎo)致的危險,當大部分碘加入后,會析出紅色的碘化銻晶體,反應(yīng)完全后,通過冷卻和結(jié)晶,可以得到六方片狀碘化銻晶體。濕法合成工藝過程復(fù)雜,產(chǎn)率低,使用苯溶劑存在環(huán)境污染,需要嚴格控制碘的加入速度,且產(chǎn)品中易含有結(jié)晶水,影響產(chǎn)品的應(yīng)用。
3、碘化銻的干法合成因其無需溶劑,對環(huán)境友好,收率好而備受關(guān)注,干法合成是一般是化學氣相沉積及封管加熱法。cn106335923b公開了“一種碘化銻的制備方法”,方法是:將純度大于99.9%的碘置于一端封口的潔凈玻璃管中,再將純度大于99.99%的銻塊覆蓋在碘上,總裝料量不超過玻璃管容量的15%,抽真空至小于15pa封口;放入320~380℃的搖擺爐內(nèi)加熱2~12小時,反應(yīng)結(jié)束后取出,自然冷卻得到,碘化銻收率99%,純度99.996%。但干法制備需要高純度(大于99.9%)的原料,特別是原料高純銻成本高,而且干法合成需要抽真空封管,反應(yīng)條件苛刻,操作繁瑣,設(shè)備投資較大,不適合大批量工業(yè)化生產(chǎn)。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種對原料銻純度要求不高,原料易得,工藝簡單,反應(yīng)條件溫和,操作容易,適合工業(yè)化生產(chǎn)的碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法。
2、本發(fā)明的技術(shù)方案是:
3、一種碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其具體步驟如下:
4、s1、配制前驅(qū)體溶液
5、原料采用單質(zhì)碘和工業(yè)級單質(zhì)銻,所述單質(zhì)銻和單質(zhì)碘為摩爾比1:1~1:1.5,用甲醇、乙醇或異丙醇作為反應(yīng)溶劑,得到前驅(qū)體溶液;
6、s2、聲化學反應(yīng)制備碘化銻
7、將步驟s1配制的前驅(qū)體溶液在常溫下,在40~60kw功率下超聲反應(yīng)60~120min,干燥,得到碘化銻粉末;
8、s3、碘化銻晶體/薄膜的制備
9、將步驟s2碘化銻粉末放入容器內(nèi),在管式爐中,真空度為0.5~5pa進行高溫燒結(jié),管式爐分為兩個溫區(qū),溫區(qū)1的溫度為200~260℃,溫區(qū)2的溫度為50~150℃,在管式爐溫區(qū)2位置形成碘化銻晶體/薄膜;
10、制備碘化銻晶體時,所述的容器為石英管,碘化銻粉末放置在靠近石英管底部位置,石英管底部位于溫區(qū)1位置,并將石英管口用石英塞塞住,反應(yīng)時間為2~5h;
11、制備碘化銻薄膜時,所述容器為石英舟,在位于溫區(qū)1位置處放置裝有碘化銻粉末的石英舟;位于溫區(qū)2位置處放置襯底,反應(yīng)時間為3~15min。
12、進一步的,制備碘化銻晶體時,石英管的中上部位于溫區(qū)2位置。
13、進一步的,工業(yè)級單質(zhì)銻的純度≥70%。
14、進一步的,步驟s1中,所述單質(zhì)銻和單質(zhì)碘為摩爾比為1:1.5。
15、進一步的,所述單質(zhì)碘為純度≥95%,所述溶劑的純度≥98%。
16、進一步的,步驟s3中,所述襯底材料為鈉鈣玻璃、fto或ito。
17、本發(fā)明的有益效果是:
18、(1)采用單質(zhì)銻和單質(zhì)碘作為原料,通過聲化學方法制備碘化銻粉末,原料純度要求低,且產(chǎn)率高達99%,顯著提高了制備效率。
19、(2)整個制備過程相對簡單,無需復(fù)雜設(shè)備或高純度原料,從而降低了生產(chǎn)成本。無論是實驗室小規(guī)模制備還是規(guī)?;a(chǎn),都具備較高的經(jīng)濟可行性。
20、(3)相比傳統(tǒng)的濕法合成工藝,本發(fā)明避免了環(huán)境污染問題,如廢水、廢氣的產(chǎn)生,以及濕法合成產(chǎn)品中可能含有的結(jié)晶水的問題,安全環(huán)保。
21、(4)采用了兩段式溫度控制,能夠精確調(diào)控碘化銻的升華、蒸發(fā)及結(jié)晶/成膜過程,確保了制備過程的穩(wěn)定性和可控性。通過升華法得到的碘化銻晶體,純度和晶化度高,確保了材料性能的穩(wěn)定性。通過氣相輸運沉積制備的薄膜,成分均一,材料厚度可以通過管式爐內(nèi)燒結(jié)時間進行調(diào)控,保證產(chǎn)品質(zhì)量,碘化銻晶體及薄膜材料可廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域。
1.一種碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其特征是:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其特征是:制備碘化銻晶體時,石英管的中上部位于溫區(qū)2位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其特征是:工業(yè)級單質(zhì)銻的純度≥70%。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其特征是:步驟s1中,所述單質(zhì)銻和單質(zhì)碘為摩爾比為1:1.5。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其特征是:所述單質(zhì)碘為純度≥95%,所述溶劑的純度≥98%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述碘化銻晶體及薄膜材料的制備方法,其特征是:步驟s3中,所述襯底材料為鈉鈣玻璃、fto或ito。