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真空及非真空無痕真空鍍膜上片結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號:12825767閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開了真空及非真空無痕真空鍍膜上片結(jié)構(gòu);所述的真空無痕真空鍍膜上片結(jié)構(gòu)其中:基板的上端面上設(shè)置有矩形內(nèi)凹槽;矩形內(nèi)凹槽的底部設(shè)置有通孔;通孔通過真空管與真空蓄壓罐的一端相連;所述的非真空無痕真空鍍膜上片結(jié)構(gòu),其中:基板1的一側(cè)從上往下依次設(shè)置有單面高溫膠帶2、隔離膜層4;立式鍍膜機(jī)則比較難實(shí)現(xiàn)無痕真空鍍膜,現(xiàn)有的有使用整面涂膠在載體上,然后再將需要鍍膜產(chǎn)品貼上去,經(jīng)過烘烤或UV等工藝實(shí)現(xiàn)無痕鍍膜。然該鍍膜方式不僅工藝繁多,降低生產(chǎn)良率;且該類膠的價(jià)格昂貴,工藝不穩(wěn)定,一但發(fā)生膠的有機(jī)物在真空中揮發(fā)則造成膜層質(zhì)量異常;本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:結(jié)構(gòu)簡單,便于操作。

技術(shù)研發(fā)人員:嚴(yán)順智
受保護(hù)的技術(shù)使用者:南昌市正星光電技術(shù)有限公司
文檔號碼:201621466222
技術(shù)研發(fā)日:2016.12.29
技術(shù)公布日:2017.07.07

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