本實(shí)用新型涉及一種玻璃產(chǎn)品，具體涉及一種低輻射鍍膜玻璃。

背景技術(shù)：

鍍膜玻璃(Reflective glass)也稱反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學(xué)性能來(lái)滿足某種特定要求。鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性，可分為熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導(dǎo)電膜玻璃等。應(yīng)提倡國(guó)家的節(jié)能環(huán)保及減排的要求，低輻射玻璃的使用最為普遍。

低輻射玻璃也稱Low-E玻璃，它是采用真空磁控濺射方法在玻璃表面上鍍上含有一層或兩層甚至三層銀層的膜系，來(lái)降低能量吸收或控制室內(nèi)外能量交換，保障生活、工作的舒適性，并以此達(dá)到環(huán)保節(jié)能的目的。在建筑應(yīng)用中，Low-E玻璃的使用可以達(dá)到“冬暖夏涼”的效果，具有優(yōu)異的隔熱、保溫性能效果。與普通單層玻璃相比，低輻射鍍膜玻璃可以節(jié)能60％以上，可廣泛應(yīng)用于建筑門窗及車窗上。應(yīng)消費(fèi)者的需求，目前市場(chǎng)上各種功能結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃，如授權(quán)公告號(hào)為CN101585667B的中國(guó)發(fā)明專利公開了一種可烘彎低輻射鍍膜玻璃，其膜層結(jié)構(gòu)自玻璃基板向外依次為：玻璃基板、過(guò)渡層、第一電介質(zhì)層、低輻射層、第二電介質(zhì)層及保護(hù)層；所述第一電介質(zhì)層為ZnSnOx/TiOy膜層結(jié)構(gòu)，ZnSnOx膜層厚度為30-40nm，TiOy膜層厚度為1.5-3nm；所述第二層電介質(zhì)層為TiOy/ZnSnOx膜層結(jié)構(gòu)，TiOy膜層厚度為1.5-3nm，ZnSnOx膜層厚度為30-40nm。該結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃雖然具有較高的沉積效率和耐烘彎的特點(diǎn)，但其膜層的均勻性差、透光性不夠高以及低輻射層(即銀膜層)的穩(wěn)定性較差，大大影響了玻璃制品的使用壽命。此外，上述鍍膜玻璃的隔熱保溫效果較差，并不適用于高緯度的寒冷地區(qū)使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述的不足，本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、使用壽命長(zhǎng)的低輻射鍍膜玻璃，它不僅具有低輻射率、透光性高的特點(diǎn)，還有較好的隔熱保溫效果。

為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)：

一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片，自所述玻璃基片的表面向外依次沉積形成第一電介質(zhì)層、低輻射層、第二電介質(zhì)層及保護(hù)層，在第一電介質(zhì)層與低輻射層之間還設(shè)有穩(wěn)定電介質(zhì)層，所述穩(wěn)定電介質(zhì)層為ZnO或NiCr膜層結(jié)構(gòu)，ZnO膜層厚度為7-11nm，NiCr膜層為3-9nm；所述低輻射層為AgTi膜層結(jié)構(gòu)，AgTi膜層厚度為12-20nm。

上述方案中，進(jìn)一步地，所述第一電介質(zhì)層可以為TiO₂或SnO₂膜層結(jié)構(gòu)，TiO₂膜層厚度為2-5nm，SnO₂膜層厚度為6-10nm。

上述方案中，進(jìn)一步地，所述第二電介質(zhì)層可以為ZnO膜層結(jié)構(gòu)，ZnO膜層厚度為15-28nm。

上述方案中，所述保護(hù)層可以為TiO₂或SnO₂膜層結(jié)構(gòu)，TiO₂膜層厚度為8-15nm，SnO₂膜層厚度為5-12nm。

上述方案中，所述玻璃基片可以為浮法玻璃，為提高鍍膜玻璃的隔熱效果，可在與低輻射層相對(duì)的表面上設(shè)有一層透明隔熱薄膜。

上述方案中，所述玻璃基片可以為中空玻璃。

本實(shí)用新型的有益效果為：

1、本實(shí)用新型通過(guò)采用的低輻射層為AgTi膜沉積而成，并在在第一電介質(zhì)層與低輻射層之間還設(shè)有穩(wěn)定電介質(zhì)層，使得制得的鍍膜玻璃不僅具有很低的輻射率和較高遮蔽系數(shù)，能夠最大限度地利用太陽(yáng)能；此外，還使鍍膜玻璃的內(nèi)部具有優(yōu)良、穩(wěn)定的物理特性性，使用壽命大大延長(zhǎng)；

2、本實(shí)用新型采用的玻璃基片為中空玻璃或內(nèi)側(cè)面設(shè)有透明隔熱薄膜的浮法玻璃，有效地增強(qiáng)了鍍膜玻璃的隔熱隔音效果，適用于冬季寒冷的北方地區(qū)。

附圖說(shuō)明

圖1為本低輻射鍍膜玻璃內(nèi)部的一種剖視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2為本低輻射鍍膜玻璃內(nèi)部的另一種剖視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中標(biāo)號(hào)為：1、玻璃基片，2、第一電介質(zhì)層，3、穩(wěn)定電介質(zhì)層，4、低輻射層，5、第二電介質(zhì)層，6、保護(hù)層，7、透明隔熱薄膜。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例和附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的解釋說(shuō)明，但不用以限制本實(shí)用新型。

實(shí)施例1

如圖1所示，一種低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基片1，自所述玻璃基片1的表面向外依次沉積形成第一電介質(zhì)層2、低輻射層4、第二電介質(zhì)層5及保護(hù)層6，在第一電介質(zhì)層2與低輻射層4之間還設(shè)有穩(wěn)定電介質(zhì)層3。本實(shí)施例中，所述穩(wěn)定電介質(zhì)層3為ZnO或NiCr膜層結(jié)構(gòu)，其中ZnO膜層厚度為7-11nm，NiCr膜層為3-9nm。所采用的低輻射層4具體為AgTi膜層結(jié)構(gòu)，AgTi膜層厚度為12-20nm。

進(jìn)一步地，所述第一電介質(zhì)層2具體為TiO₂或SnO₂膜層結(jié)構(gòu)，TiO₂膜層厚度為2-5nm，SnO₂膜層厚度為6-10nm。所述第二電介質(zhì)層5具體為ZnO膜層結(jié)構(gòu)，ZnO膜層厚度為15-28nm。而所采用的保護(hù)層6具體為TiO₂或SnO₂膜層結(jié)構(gòu)，TiO₂膜層厚度為8-15nm，SnO₂膜層厚度為5-12nm。

本實(shí)施例中，所述玻璃基片1具體為中空玻璃。充分利用中空玻璃具有良好的光學(xué)性能、保溫隔熱及放結(jié)露的特性。

實(shí)施例2

如圖2所示，與實(shí)施例1所不同的是，所述低輻射鍍膜玻璃上采用的玻璃基片1具體為浮法玻璃，并在與低輻射層4相對(duì)的表面上設(shè)有一層透明隔熱薄膜7。所述透明隔熱薄膜7可以為現(xiàn)有納米ITO薄膜。

本結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃，可見光透射比能夠保持在80-84％之間，輻射率卻可以降至0.05-0.06，可與現(xiàn)有雙銀膜系玻璃相比，遮蔽系數(shù)較高，能夠更多地利用太陽(yáng)能，非常適用于冬季寒冷的北方地區(qū)。

以上僅為說(shuō)明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，并不用于限制本實(shí)用新型，對(duì)于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。