本申請(qǐng)將題為“包括低輻射涂層的涂層制品、包括所述涂層制品的絕緣玻璃裝置和/或其制造方法”(coatedarticleincludinglow-emissivitycoating,insulatingglassunitincludingcoatedarticle,and/ormethodsofmakingthesame)的美國(guó)申請(qǐng)系列號(hào)13/064,066(律師代理案號(hào)3691-2319)以及題為“包含含鎳三元合金的阻擋層、包括所述阻擋層的涂層制品及其制造方法”(barrierlayerscomprisingni-inclusiveternaryalloys,coatedarticlesincludingbarrierlayers,andmethodsofmakingthesame)的美國(guó)申請(qǐng)系列號(hào)13/064,064(律師代理案號(hào)3691-2315)的全部?jī)?nèi)容引為參考。本申請(qǐng)的某些示例性實(shí)施方式涉及一種涂層制品，其在低-e涂層中包括至少一個(gè)諸如銀等的材料的紅外(ir)反射層。在某些實(shí)施方式中，所述涂層的至少一層是或包括鎳和/或鈦(例如nixtiy、nixtiyoz等)。在某些示例性實(shí)施方式中，包含鎳鈦和/或其氧化物的層的裝置可以允許使用良好附著于所述紅外反射層并降低可見光的吸收(獲得具有較高可見光透射率的涂層制品)的層。在某些示例性實(shí)施方式中，當(dāng)將包含鎳鈦氧化物的層直接形成在所述紅外反射層上方和/或下方(例如作為阻擋層)時(shí)，其產(chǎn)生提高的化學(xué)和機(jī)械耐久性。因此，在某些示例性實(shí)施方式中，如果需要，可以提高可見光透射率，同時(shí)降低對(duì)耐久性的影響。本文中的涂層制品可用于絕緣玻璃(ig)窗裝置、車窗的情形中，或用于其他適合的應(yīng)用例如單片整體窗應(yīng)用、夾層窗等。
背景技術(shù)：
：已知涂層制品在本
技術(shù)領(lǐng)域：
中用于窗應(yīng)用例如絕緣玻璃(ig)窗裝置、車窗、單片整體窗等。在某些示例性情形中，涂層制品的設(shè)計(jì)者通常謀求高可見光透射率、低輻射率(或低發(fā)射率)和/或低方塊電阻(rs)的組合。高可見光透射率可允許將涂層制品用于需要這些特征的應(yīng)用例如建筑或車窗應(yīng)用中，而低輻射率(低-e)和低方塊電阻特征允許這樣的涂層制品有可能阻擋顯著量的紅外輻射，以便降低例如車輛或建筑物內(nèi)部不想要的受熱。因此，通常，對(duì)于在建筑玻璃上用于阻斷顯著量的紅外輻射的涂層來(lái)說(shuō)，通常需要在可見光譜中具有高透射率。低-e涂層中的紅外反射層影響整個(gè)涂層，并且在某些情況下紅外反射層是層堆中最敏感的層。不幸的是，包含銀的紅外反射層有時(shí)可能由于沉積過(guò)程、隨后的大氣過(guò)程和/或熱處理而受到損傷。在某些情況下，在將其他層沉積在銀基層的上方時(shí)，低-e涂層中的銀基層可能需要防止受到存在的氧的影響。如果涂層中的紅外反射層未得到充分保護(hù)，涂層制品的耐久性、可見光透射率和/或其他光學(xué)特征可能受損。因此，本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到，對(duì)具有改進(jìn)的耐久性和改進(jìn)或基本上不變的光學(xué)性質(zhì)的低-e涂層存在著需求。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的某些示例性實(shí)施方式涉及與包含銀的紅外反射層聯(lián)合使用的改進(jìn)的阻擋層材料。在某些情形中，所述改進(jìn)的阻擋層材料可使得涂層制品的耐久性獲得改善。某些示例性實(shí)施方式涉及涂層制品的制造方法。將第一介電層配置在玻璃基材上。將下部接觸層配置在所述第一介電層上方。將紅外(ir)反射層配置在所述第一接觸層上方并與其相接觸。將包含ni和ti的氧化物的上部接觸層配置在所述紅外反射層上方并與其相接觸。將包含硅的氧化物和/或氮化物的層配置在所述上部接觸層上方作為涂層的最外層。某些示例性實(shí)施方式涉及涂層制品的制造方法。將第一介電層配置在玻璃基材上。將下部接觸層配置在所述第一介電層上方。將紅外(ir)反射層配置在所述第一接觸層上方并與其相接觸。通過(guò)在涂層制造中由包含約1至50％的ni和約50至99％的ti(以重量計(jì))的靶來(lái)濺射鎳和鈦，在所述紅外反射層上方形成與其相接觸的上部接觸層。某些示例性實(shí)施方式還涉及通過(guò)上述和/或其他方法之一制造的涂層制品和/或ig裝置。附圖說(shuō)明圖1是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。圖2是本發(fā)明的另一種示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。圖3是本發(fā)明的另外一種示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。圖4是本發(fā)明的又一種示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。圖5是本發(fā)明的再一種示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。具體實(shí)施方式現(xiàn)在參考附圖，其中在整個(gè)這幾張圖中，類似的參考號(hào)表示類似部件。本文中的涂層制品可用于涂層制品應(yīng)用例如單片整體窗、ig窗裝置、車窗中，和/或包括單個(gè)或多個(gè)基材例如玻璃基材的任何其他合適應(yīng)用中。正如上面指出的，在某些情形中，低-e涂層中的銀基層在后續(xù)過(guò)程期間可能需要保護(hù)。例如，用于沉積后續(xù)層的等離子體中的氧可以被高度電離，并且銀基層被它破壞。此外，在沉積后的“大氣過(guò)程”中，銀基層可能容易受到來(lái)自于氧、濕氣、酸、堿等的攻擊的影響。如果位于銀基層與大氣之間的層具有任何缺陷，使得所述銀基層未被完全覆蓋(例如刮擦、針眼等)，情況可能尤為如此。此外，在某些示例性實(shí)施方式中，在熱處理期間可能出現(xiàn)問題。在那些情形中，氧可能擴(kuò)散到銀基層中。在某些示例性實(shí)施方式中，到達(dá)銀基層的氧可能例如通過(guò)降低方塊電阻、影響輻射率和/或產(chǎn)生模糊等影響其性質(zhì)，并可能引起層堆的性能降低。因此，在某些示例性實(shí)施方式中，在低-e涂層中可以將阻擋層與銀基層(和/或其他紅外反射層)一起使用，以便降低某些或全部上述和/或其他問題的發(fā)生率。過(guò)去，阻擋層材料包含薄金屬層例如al，其在某些示例性情形中在隨后的氧化過(guò)程期間被氧化。在其他情形中，也使用基于銦錫氧化物(ito)的層。然而，在某些這樣的情形中，這些材料可能使整個(gè)層堆的光學(xué)性質(zhì)和/或耐久性受損。在某些情形中，諸如鉻的材料可用于阻擋層中，特別是在建筑市場(chǎng)中使用的具有低-e涂層的涂層制品中。然而，在某些示例性實(shí)施方式中，鉻可能吸收顯著量的可見光。氧化鉻在550nm處的吸收率k為0.033942。因此，如果包含鉻的層過(guò)厚和/或未被充分氧化，涂層制品的可見光透射率可能降低。然而，如果阻擋層厚度不足，包含銀的層可能不能得到充分保護(hù)?？梢允褂玫牧硪环N阻擋層材料是鈦(例如tiox)。然而，鈦與紅外反射層、特別是包含銀的紅外反射層缺乏附著。因此，當(dāng)使用由ti和/或其氧化物構(gòu)成或基本上由其構(gòu)成的材料作為阻擋層以保護(hù)包含銀的層時(shí)，涂層制品的耐久性可能受損和/或降低。鑒于上述，有利的是提供一種阻擋層，其包含在銀(和/或紅外反射層)與阻擋層材料之間的界面處具有足夠附著性的材料，其中所述阻擋層材料的氧化物在可見光譜范圍內(nèi)具有較低吸收。本發(fā)明的某些實(shí)施方式涉及一種涂層制品，其包括至少一個(gè)承載涂層的玻璃基材。涂層通常具有至少一個(gè)紅外(ir)反射層，其反射和/或阻擋至少一些ir輻射。在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，紅外反射層可以是或包括諸如銀、金、nicr等的材料。通常，ir反射層被夾在涂層的至少第一和第二接觸層之間。在本發(fā)明的某些示例性實(shí)施方式中，令人吃驚地發(fā)現(xiàn)，在這樣的涂層中提供基本上由鎳和/或鈦的氧化物(例如nixtiy或nixtiyoz等)構(gòu)成或包含所述氧化物的層作為接觸層(例如與ir反射層相接觸)，出人意料地以不顯著降低涂層制品的其他光學(xué)性質(zhì)例如可見光透射率和/或顏色的方式，改善了涂層的機(jī)械和化學(xué)耐久性。在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，可以在給定涂層中提供一個(gè)或多個(gè)這樣的含有鎳和/或鈦的層(在某些示例性實(shí)施方式中其可能被氧化)。此外，在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，可以在任何類型的日光控制或低-e(低輻射率或低發(fā)射率)涂層中提供這樣的含有鎳和/或鈦的層(例如作為接觸層)，并且除非在權(quán)利要求書中敘述，否則在本文中描述的特定的低-e涂層僅僅是出于示例目的。在某些示例性實(shí)施方式中，當(dāng)提供包含鎳鈦氧化物的層作為涂層制品的上部接觸層(例如在銀基紅外反射層上方)時(shí)，這引起化學(xué)和機(jī)械耐久性提高。已令人吃驚地發(fā)現(xiàn)，在這一方面(例如作為接觸層)使用鎳鈦氧化物層提高了涂層制品的化學(xué)和機(jī)械耐久性，并且還發(fā)現(xiàn)其提高(或至少不顯著降低)涂層制品的可見光透射率。在某些示例性實(shí)施方式中，可以提供包含鎳鈦和/或其氧化物的阻擋層。這種ni和ti的組合可以提供良好附著和較低吸收，這兩者在某些示例性實(shí)施方式中都是低-e涂層的所需品質(zhì)。有利地是，包含鎳鈦和/或其氧化物(例如nixtiy、nixtiyoz等)的阻擋層的裝置可以允許使用具有單一紅外反射層(例如銀)的耐用的單片整體涂層制品，而不會(huì)由于紅外反射層的保護(hù)不足引起涂層性質(zhì)降低。圖1是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。在某些示例性實(shí)施方式中，圖1中示出的涂層制品可以用作在表面1和/或2上具有低-e涂層的單片整體窗，其中所述低-e涂層僅包括單一紅外反射層。然而，在其他示例性實(shí)施方式中，圖1中的涂層制品可能包含其他層。此外，按照本文描述的示例性實(shí)施方式制造的涂層制品，根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式和應(yīng)用，可用于在表面1、2、3和/或4上具有涂層的絕緣玻璃裝置(igu)；可用于具有緊靠表面2和/或3的界面層嵌入或暴露于表面4上的涂層的層壓?jiǎn)纹w；可用于具有帶有緊靠表面2和/或3上的界面層嵌入或暴露于表面4上的涂層的層壓外側(cè)面的層壓igu；可用于具有暴露于表面3和/或6上或嵌入在表面4和/或5上的涂層的層壓內(nèi)側(cè)面的層壓igu。換句話說(shuō)，在不同的示例性實(shí)施方式中，該涂層可以單片整體使用，或用于包含兩個(gè)或以上基材的ig裝置中，或不止一次用于玻璃裝置中，并且可以提供在裝置的任何表面上。涂層制品包括玻璃基材1(例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍(lán)綠色玻璃基材)，以及直接或間接提供在基材上的多層涂層35(或?qū)酉到y(tǒng))。如圖1中所示，涂層35包含任選的介電層3和/或5；下部接觸層7，其可以是或包括鎳和/或鈦和/或其氧化物(例如nixtiy、nixtiyoz等)，或者其可以是另一種適合的接觸層材料例如zn、ni、cr及其組合的氧化物和/或氮化物等；紅外反射層9，其包括銀、金等中的一種或多種；上部接觸層11，其是或包括鎳和/或鈦和/或其氧化物(例如nixtiy、nixtiyoz等)或另一種適合的接觸層材料；任選的介電層13和/或15；以及介電層16，其是或包括諸如氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、氧化鋯、氧氮化鋯或氧氮化鋯硅的材料，并且在某些示例性情形中其可以作為保護(hù)性外層。在本發(fā)明的某些示例性實(shí)施方式中，還可以提供其他層和/或材料，并且在某些示例性情形中也可能可以除去或分開某些層。根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，可以提供或可以不提供層16。按照不同的示例性實(shí)施方式，任選的介電層3和/或5可以包含氮化硅、氧化鈦、氧化錫、氧化硅、氧氮化硅和/或其他介電材料。紅外(ir)反射層9優(yōu)選地基本上或完全是金屬的和/或?qū)щ姷?，并且可以包含銀(ag)、金或任何其他適合的紅外反射材料，或基本上由這些材料構(gòu)成。紅外反射層9幫助使涂層具有低-e和/或良好的日光控制特征例如低發(fā)射率、低方塊電阻等。然而，在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中，紅外反射層9可能被輕微氧化。在不同的示例性實(shí)施方式中，圖1中示出并在本文中描述的紅外反射層可以包含銀或基本上由銀構(gòu)成。因此，應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，某些示例性實(shí)施方式可能包括銀合金。在這樣的情形中，ag可以與適合量的zr、ti、ni、cr、pd和/或其組合形成合金。在某些示例性實(shí)施方式中，ag可以與pd和cu兩者形成合金，其中pd和cu各為約0.5-2％(以重量或原子％計(jì))。其他可能的合金包括ag和下列中的一種或多種co、c、mg、ta、w、nimg、pdga、cow、si、ge、au、pt、ru、sn、al、mn、v、in、zn、ir、rh和/或mo形成的合金。一般來(lái)說(shuō)，摻雜物濃度可以在0.2-5％的范圍內(nèi)(以重量或原子％計(jì))，更優(yōu)選地在0.2-2.5％之間?？刂圃谶@些范圍內(nèi)可以幫助銀保持銀基層所需的光學(xué)特性，否則其可能由于形成合金而喪失，由此幫助保持層堆的整體光學(xué)特性，同時(shí)還提高化學(xué)、腐蝕和/或機(jī)械耐久性。本文中標(biāo)出的示例性ag合金靶材料可以使用單一靶進(jìn)行濺射，通過(guò)使用兩種(或以上)靶共同濺射來(lái)沉積等。除了提供改進(jìn)的耐腐蝕性之外，ag合金的使用在某些情形中可以幫助降低銀在高溫下的擴(kuò)散率，同時(shí)也幫助降低或阻擋氧在層堆中移動(dòng)的量。這可以進(jìn)一步提高銀擴(kuò)散率，并且可能改變那些可能引起不良耐久性的ag的生長(zhǎng)和結(jié)構(gòu)性質(zhì)。上部和下部接觸層7和11可以是或包括ni和/或ti和/或其氧化物和/或氮化物。在某些示例性實(shí)施方式中，上部和下部接觸層7、11可以是或包括鎳(ni)、鈦(ti)、鉻/鉻合金(cr)、鎳合金例如鎳鈦(niti)和/或鎳鉻(例如nicr)、海恩斯合金、鋅、任何這些材料的氧化物、氮化物或氧氮化物(例如nixtiyoz)，或其他適合材料。例如，這些層中的一個(gè)可以是或包括氧化鋅來(lái)代替niti(和/或其氧化物)。在某些示例性情形中，在這些層中使用例如niti和/或nixtiyoz使涂層制品的耐久性和/或可見光透射率提高。在某些示例性實(shí)施方式中，由于crox的吸收為k(550nm)＝0.033942，因此即使是完全氧化的nicrox層也可能具有相對(duì)高的殘留吸收。然而，有利的是，已發(fā)現(xiàn)由于tiox與crox相比具有明顯更低的吸收，因此在某些示例性實(shí)施方式中，在阻擋層中包含tiox可能導(dǎo)致涂層制品更高的可見光透射率。例如，tiox在550nm處的吸收k為0.004806，這幾乎是crox的吸收的十分之一。因此，當(dāng)在阻擋層中使用比crox的吸收更低的金屬或金屬氧化物時(shí)，可以提高涂層制品的可見光透射率。然而，在某些示例性實(shí)施方式中，包含tiox的阻擋層可能不能充分附著于紅外反射層。因此，如果使用僅由tiox構(gòu)成的阻擋層，涂層制品的耐久性可能受損。有利的是，已發(fā)現(xiàn)通過(guò)使用包含不能良好附著于紅外反射層的材料與ti和/或tiox的合金，涂層制品的耐久性不受用ti和/或tiox(或具有相對(duì)低的吸收的任何材料)替代cr和/或crox的損害。有利的是，據(jù)認(rèn)為ni與紅外反射層附著良好。因此，使用包括ni和ti及其氧化物和/或氮化物的阻擋層，可以有利地獲得具有改進(jìn)的可見光透射率和足夠的耐久性的涂層制品。在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，在整個(gè)紅外反射層上，接觸層7和11(例如是或包括ni和/或ti)可能是連續(xù)的或可能不是連續(xù)的。在某些示例性實(shí)施方式中，niti層7和11之一或兩者包括約1-50％的ni和約50-99％的ti。一種實(shí)例是80％的ti和20％的ni。在某些示例性實(shí)施方式中，包含nixtiy的層可能被完全和/或部分氧化。這種氧化可能在層被沉積時(shí)發(fā)生，或者可能由接觸層沉積后進(jìn)行的過(guò)程，例如隨后的層在氧存在下的沉積、熱處理等造成。然而，不論是否存在氧，ni和ti仍可能以與上面討論的相同的比例存在。例如，甚至在包含鎳鈦氧化物的層中，ni與ti的比例仍可以為約1:99至50:50(nixtiy的百分率和比例以重量計(jì)給出)。正如上面提到的，在本發(fā)明的某些實(shí)施方式中nixtiy和/或nixtiyoz層7和/或11可能被完全氧化(例如完全化學(xué)定量的)，或者也可以僅僅被部分氧化(例如低于化學(xué)定量的)(在任選的ht之前和/或之后)。在其他情形中，層7和/或11可以作為金屬層沉積，并且可以在沉積后過(guò)程，例如隨后的層在氧存在下的沉積、熱處理等期間，被完全或部分氧化。在某些情形中，nixtiy和/或nixtiyoz層7和/或11可以被氧化至少約50％。在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，接觸層7和/或11(例如是或包括ni和/或ti的氧化物)可能被或可能不被氧化分級(jí)。正如本領(lǐng)域中公知的，氧化分級(jí)包括通過(guò)層的厚度改變層中的氧化程度，以便例如可以將接觸層分級(jí)成使得在與緊鄰的紅外反射層9的接觸界面處，與接觸層的進(jìn)一步或更/最遠(yuǎn)離緊鄰的紅外反射層的部分處相比，氧化程度更低。各種類型的氧化分級(jí)接觸層的描述提供在美國(guó)專利號(hào)6,576,349中，其公開內(nèi)容在此引為參考。在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，在整個(gè)紅外反射層9上，接觸層7、11(例如是或包括ni和/或ti的氧化物)可能是連續(xù)的或可能是不連續(xù)的。在其他示例性實(shí)施方式中，ir反射層下方的接觸層(例如下部接觸層7)可以是或包括鋅和/或其氧化物。在本發(fā)明的某些示例性實(shí)施方式中，任選的介電層13和/或15可以是或包括氮化硅(例如sixny)或任何其他適合的材料例如氧化鈦、氧化錫、氧氮化硅和/或氧化硅。這些層可能對(duì)耐久性問題有幫助，和/或也可保護(hù)下方的層，并且在某些情形中，任選地用于抗反射目的。還可以包括含有例如氧化鋯的任選的外層16。在此引為參考的美國(guó)專利申請(qǐng)系列號(hào)12/213,879討論了與使用氧化鋯作為外層相關(guān)的優(yōu)點(diǎn)。在其他示例性實(shí)施方式中，任選的外層16可以是或包括氮化硅、氧化硅和/或氧氮化硅。在其他示例性實(shí)施方式中，任選的外層16還可以包括其他含鋯化合物。在某些示例性實(shí)施方式中，圖1中示出的涂層制品可以用作帶有具有單一紅外反射層的低-e涂層的單片整體窗。然而，在其他示例性實(shí)施方式中，本文所述的涂層制品可以與任何數(shù)量的紅外反射層一起使用，并且可能與任何數(shù)量的其他玻璃基材組合以產(chǎn)生層壓和/或絕緣玻璃裝置。根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，所述涂層也可以與igu、vig、汽車玻璃和任何其他應(yīng)用聯(lián)合使用。圖2是具有單一紅外反射層的低-e涂層35’的另一種示例性實(shí)施方式。在圖2的實(shí)施方式中，使用基于nixtiyoz的層作為上部和下部接觸層。此外在圖2中，使用氮化硅基的層作為介電層3，而介電層5被省略。介電層13包含氮化硅，并且外層16被省略，這是由于在圖2的實(shí)施方式中介電層13也可以幫助起到外層的作用(例如通過(guò)保護(hù)位于下方的層)。在某些示例性實(shí)施方式中，圖2的涂層制品可以具有提高的可見光透射率，并且也可以具有提高和/或基本上不受影響的化學(xué)和機(jī)械耐久性。表1：示例性材料/厚度；圖2的實(shí)施方式表2示例性特征：圖2的實(shí)施方式在某些示例性實(shí)施方式中，圖2的示例性實(shí)施方式可具有約11.15歐姆/平方的方塊電阻。然而，正如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所知的，可以通過(guò)調(diào)整ag基層的厚度等來(lái)調(diào)節(jié)方塊電阻和/或發(fā)射率。換句話說(shuō)，在某些示例性實(shí)施方式中，具有一個(gè)紅外反射層的單片整體涂層制品在沉積時(shí)可以具有至少約55％、優(yōu)選地至少約60％、更優(yōu)選地至少約65％、有時(shí)至少約67％的可見光透射率。在熱處理后，單片整體涂層制品可以具有更高的可見光透射率，例如至少約60％、更優(yōu)選地約65％以上，例如約70％的透射率。在涂層后，制品可以具有約0至5、更優(yōu)選地約1至4的玻璃側(cè)a*值，在某些示例性實(shí)施方式中其實(shí)例為3.5左右。在涂層后，制品可以具有約0至10、更優(yōu)選地約1至7的玻璃側(cè)b*值，在某些示例性實(shí)施方式中其實(shí)例為6.7左右。在某些情形中，在涂層后制品可以具有約0至5、更優(yōu)選地約1至4的薄膜側(cè)a*值，其實(shí)例為3.7左右。在其他示例性實(shí)施方式中，制品可以具有約-10至1、更優(yōu)選地約-8至-2的薄膜側(cè)b*值，其實(shí)例為約-7.18。在熱處理(在表2中用“ht”表示)后，制品可以具有約0至10、更優(yōu)選地約1至8的玻璃側(cè)a*值，在某些示例性實(shí)施方式中其實(shí)例為7.25左右。在涂層后，制品可以具有約0至10、更優(yōu)選地約1至9的玻璃側(cè)b*值，在某些示例性實(shí)施方式中其實(shí)例為8.14左右。在某些情形中，在涂層后制品可以具有約0至8、更優(yōu)選地約1至6的薄膜側(cè)a*值，其實(shí)例為5.92左右。在其他示例性實(shí)施方式中，制品可以具有約-8至1、更優(yōu)選地約-6至-2的薄膜側(cè)b*值，其實(shí)例為約-4.9。圖3是具有單一紅外反射層的低-e涂層35’’的另一種示例性實(shí)施方式。圖3與圖1和圖2的實(shí)施方式類似，但是在圖3的實(shí)施方式中，使用基于nixtiyoz的層作為上部接觸層11，而使用基于氧化鋅的層作為下部接觸層7。此外，在圖3中，使用基于氮化硅的層作為介電層3，而介電層5被省略。在圖3的實(shí)施方式中，介電層13包含氮化硅。在某些示例性實(shí)施方式中，圖3的涂層制品可以具有提高和/或不受影響的化學(xué)和機(jī)械耐久性，并且也可以具有提高的可見光透射率。圖4是本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。在某些示例性實(shí)施方式中，圖4中示出的涂層制品可以被用作具有雙紅外反射層的低-e涂層的單片整體窗。涂層制品包括玻璃基材1(例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍(lán)綠色玻璃基材)，以及直接或間接地提供在基材上的多層涂層(或?qū)酉到y(tǒng))。與圖1類似，圖4的涂層45包括可選的介電層3和/或5，第一下部接觸層7，包括或者是銀、金等的第一紅外反射層9，包括或者是鎳鈦氧化物(例如nixtiyoz)的第一上部接觸層11，任選的介電層13和/或15(例如是或包括氮化硅)，第二下部接觸層17，第二紅外反射層19，第二上部接觸層21，任選的介電層23和/或25，以及任選的介電層16，其是或包括諸如氮化硅、氧氮化硅、氧化鋯、氧氮化鋯或氧氮化鋯硅的材料，并且在某些示例性情形中可以是保護(hù)性外層。在本發(fā)明的某些示例性實(shí)施方式中也可以提供其他層和/或材料，并且在某些示例性情形中可能也可除去或分開某些層。在某些示例性實(shí)施方式中，接觸層7、11、17和21中僅有一個(gè)可能包含鎳鈦和/或其氧化物和/或氮化物。在其他示例性實(shí)施方式中，上部接觸層可以是或包括nixtiy和/或nixtiyoz，而下部接觸層可以是或包括鋅、鎳、鉻、鈦的氧化物和/或氮化物和/或這些材料的組合。然而，在其他示例性實(shí)施方式中，超過(guò)一個(gè)或甚至所有的接觸層可以是或包括鎳鈦和/或其氧化物和/或氮化物。圖5是本發(fā)明的另一種示例性實(shí)施方式的涂層制品的橫截面圖。在某些示例性實(shí)施方式中，圖5中示出的涂層制品可以包括3個(gè)紅外反射層(例如三個(gè)銀層堆)。涂層制品包括玻璃基材1(例如約1.0至10.0mm厚、更優(yōu)選地約1.0mm至6.0mm厚的透明、綠色、青銅色或藍(lán)綠色玻璃基材)，以及直接或間接地提供在基材上的多層涂層55(或?qū)酉到y(tǒng))。在某些示例性實(shí)施方式中，圖5的涂層55可以包含是或包括氮化硅的任選的介電層3，是或包括氧化鈦的任選的介電層5，是或包括氧化鋅的下部接觸層7，是或包括銀的紅外反射層9，是或包括ni和/或cr或其氧化物的上部接觸層11，是或包括氧化鈦的任選的介電層12，是或包括氧化錫的任選的介電層13，是或包括氮化硅(或某些其他含硅材料或其他材料)的介電層14，是或包括氧化錫的介電層15，是或包括氧化鋅的第二下部接觸層17，是或包括銀的第二紅外反射層19，是或包括鎳和/或鈦或其氧化物的第二上部接觸層21，是或包括氧化錫的介電層23，是或包括氮化硅(或某些其他含硅材料或其他材料)的介電層24，是或包括氧化錫的介電層24，是或包括氧化鋅的第三下部接觸層27，是或包括銀的第三紅外反射層29，是或包括ni和/或ti或其氧化物的第三上部接觸層31，是或包括氧化錫的介電層32，以及是或包括氮化硅的介電層16，其在某些示例性情形中可以是保護(hù)性外層。在本發(fā)明的某些示例性實(shí)施方式中也可以提供其他層和/或材料，并且在某些示例性情形中可能也可以除去或分開某些層。此外，在其他示例性實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)上部接觸層11、21和31可以包含鎳鉻和/或其氧化物，而不是鎳鈦氧化物。此外，任何層7、11、17、21、27和/或31可以是或包括鎳、鈦、鉻、鋅、其組合/合金，并且還可以包括氧和/或氮。因此，在本發(fā)明的不同實(shí)施方式中，任何或所有上部接觸層11、21和31可以是包含ni和/或ti的層(例如包含nitiox的層)。包含nitiox的層可以幫助提供高性能涂層，這是由于nitiox可以幫助降低總體發(fā)射率，同時(shí)維持良好的銀品質(zhì)。此外，正如上面暗示的，這樣的層中的ni可能對(duì)耐久性問題有幫助，同時(shí)ti可能有助于透射率。應(yīng)該指出，某些示例性實(shí)施方式可以用ti金屬或tiox代替nitiox。在某些示例性實(shí)施方式中，包含nitiox的層可以略微氧化地或作為金屬沉積，并且在晚些時(shí)候通過(guò)后續(xù)加工(例如在隨后沉積的層的濺射期間)變得基本上完全氧化。在某些示例性實(shí)施方式中，nitiox在沉積時(shí)也可以被分級(jí)。示例性厚度表3:示例性材料/厚度；圖5的實(shí)施方式(淬火的)在某些示例性實(shí)施方式中，頂部的ag基層在層堆中是最厚的層。已發(fā)現(xiàn)，這種排列方式有助于提高涂層的發(fā)射率。此外，在某些示例性實(shí)施方式中，中間的ag基層比頂部的ag基層更薄，已發(fā)現(xiàn)這有助于維持提高的發(fā)射率，同時(shí)其本身也提高離軸顏色穩(wěn)定性并幫助提供高的可見光透射率。已經(jīng)令人吃驚并出人意料地發(fā)現(xiàn)，在下部中間介電層堆中引入包含氧化鈦的第二層12，提高了位于下方的ag基層9的質(zhì)量。據(jù)信這是由于層13的較少的氧化錫干擾與第一ag基層9直接相鄰的下方第一接觸層11的結(jié)果。此外，在本發(fā)明的某些示例性層壓實(shí)施方式中，本文的已任選地?zé)崽幚碇磷阋赃M(jìn)行熱強(qiáng)化或鋼化的程度，并且已與另一個(gè)玻璃基材結(jié)合形成ig裝置的涂層制品，其可能具有下列ig裝置光學(xué)/日光特征。在ig裝置的情形中，例如nitiox的使用有利地獲得更高的lsg值。例如，在某些示例性情形中，2.15或更高的lsg是可能的，而如果僅使用基于nicr的層而不使用包含nitiox的層，約2.1或更低的lsg值是可能的。正如本領(lǐng)域技術(shù)人員將會(huì)認(rèn)識(shí)到的，高的lsg值是有利的，因?yàn)樗憩F(xiàn)出與低shgc結(jié)合的高可見光透射率，因此保持熱量流出并使光進(jìn)入。圖5的示例性實(shí)施方式特別好地適用于淬火產(chǎn)品。對(duì)于可熱處理的實(shí)施方式來(lái)說(shuō)，可以進(jìn)行修改或者可以不進(jìn)行修改。例如，在可熱處理的示例性實(shí)施方式中，可以除去包括tiox的層5和/或12中的一個(gè)或兩個(gè)。作為另一個(gè)實(shí)例，在可熱處理的涂層中，包含sin的層14、24和16中的一些或全部可以被制造成與淬火的對(duì)應(yīng)物相比金屬含量更高。此外，一些或所有包含nitiox的層可以用包含nicr或其氧化物的層代替。下面的表示出了與圖5中所示相類似但根據(jù)上面的描述進(jìn)行修改的可熱處理涂層制品的示例性材料和厚度。表4：示例性材料/厚度；修改的圖5實(shí)施方式(可熱處理的)層優(yōu)選范圍(nm)更優(yōu)選范圍(nm)實(shí)例(nm)玻璃sin25.9-38.929.2-35.632.4zno5.6-8.46.3-7.77ag10.2-15.211.4-1412.7nicrox2.4-3.62.7-3.33sno35.9-53.940.4-49.444.9sin8-129-1110sno12.2-18.213.7-16.715.2zno5.2-7.85.9-7.26.5ag11.2-16.812.6-15.414nitiox2.4-3.62.7-3.33sno36.6-5541.2-50.445.8sin8-129-1110sno12-1813.5-16.515zno5.2-7.85.9-7.26.5ag15.1-22.717-20.818.9nicrox2.4-3.62.7-3.33sno11.2-16.812.6-15.414sin23.4-35.226.4-32.229.3此外，在熱處理的示例性實(shí)施方式中，一個(gè)或多個(gè)包含sno的“膠”層可以減小厚度和/或完全除去。在這樣的情形中，可能希望增加下方的包含sno的層的厚度。例如，層15和/或25可以具有減小的厚度(例如從約15nm至約10nm)，和/或可以被完全除去。相應(yīng)地，層13和/或23可以具有增加的厚度。增加的厚度量可以為約8-12nm。因此，在某些示例性實(shí)施方式中，層15可以具有約8-12nm、更優(yōu)選地9-11nm、有時(shí)約10nm的減小的厚度，同時(shí)層13可以具有約40.9-61.3nm、更優(yōu)選地46-56.2nm、有時(shí)約51.1nm的增加的厚度。同樣地，層25可以具有約8-12nm、更優(yōu)選地9-11nm、有時(shí)約10nm的減小的厚度，同時(shí)層23可以具有約40.6-61nm、更優(yōu)選地45.7-55.9nm、有時(shí)約50.8nm的增加的厚度。此外，或者在可選方式中，一個(gè)或多個(gè)中間介電層堆可以包括含有znsno的層。該層可以通過(guò)例如共濺射(例如從zn或zno靶和sn或sno靶)來(lái)形成。在其一個(gè)或兩個(gè)側(cè)面上代替包含sno的層或除了所述層之外，還可以提供包含znsno的層。下面的表包括各種性能數(shù)據(jù)，其對(duì)應(yīng)于淬火狀態(tài)下圖5的示例性實(shí)施方式，以及對(duì)圖5的示例性實(shí)施方式的修改，其中包含tiox的層5和12被省略，并且所述涂層制品在配置在6.0mm透明浮法玻璃上時(shí)按照例如上表進(jìn)行熱處理。當(dāng)然，在不同實(shí)施方式中可以使用不同厚度的基材和/或不同組成的基材。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，對(duì)于淬火和熱處理實(shí)施方式來(lái)說(shuō)，優(yōu)選范圍可能是相同或相近的。還應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，對(duì)于淬火和熱處理實(shí)施方式來(lái)說(shuō)，性能是近似可比的，但是對(duì)于透光率來(lái)說(shuō)，熱處理實(shí)施方式的性能優(yōu)于淬火實(shí)施方式。表5：?jiǎn)纹w涂層制品的示例性性能特征下面的表包括ig裝置的性能數(shù)據(jù)，所述ig裝置包括處于淬火狀態(tài)下的圖5的示例性實(shí)施方式中示出的涂層樣品，以及對(duì)圖5的示例性實(shí)施方式的修改，其中包含tiox的層5和12被省略，并且所述涂層制品在例如涂層被配置在ig裝置的表面2上時(shí)進(jìn)行熱處理。下表中的實(shí)例包括第一和第二個(gè)6.0mm基材，其被填充有空氣的12mm間隙隔開。當(dāng)然，在不同實(shí)施方式中可以使用不同厚度的基材、不同組成的基材、不同的間隙尺寸、不同的氣體等。應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，對(duì)于淬火和熱處理實(shí)施方式來(lái)說(shuō)，優(yōu)選范圍可能是相同或相近的。還應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，對(duì)于淬火和熱處理實(shí)施方式來(lái)說(shuō)，性能是近似可比的，但是對(duì)于透光率來(lái)說(shuō)，熱處理實(shí)施方式的性能優(yōu)于淬火實(shí)施方式。表6：ig裝置的示例性性能特征在上面的表4和5中，光學(xué)數(shù)據(jù)使用ill.“c”觀察儀(2°)來(lái)收集。熱性能數(shù)據(jù)按照nfrc2001來(lái)收集。在某些示例性實(shí)施方式中，可以通過(guò)由金屬靶濺射來(lái)沉積鎳鈦基層。在某些情形中，靶可以包含以重量計(jì)20％的鎳和80％的鈦。在其他示例性實(shí)施方式中，金屬靶可以包含以重量計(jì)50％的鎳和50％的鈦。在某些示例性實(shí)施方式中，是或包括鎳和鈦的金屬濺射靶可以包括約1至50％的ni(以及其間的所有子范圍)、更優(yōu)選地約2至50％的ni(以及其間的所有子范圍)、最優(yōu)選地約5至20％的ni(以及其間的所有子范圍)(所有百分?jǐn)?shù)為重量％)。在某些示例性實(shí)施方式中，是或包括鎳和鈦的金屬濺射靶還可以包含約50至99％的ti(以及其間的所有子范圍)、更優(yōu)選地約50至98％的ti(以及其間的所有子范圍)、最優(yōu)選地約80至95％的ti(以及其間的所有子范圍)(所有百分?jǐn)?shù)為重量％)。在其他示例性實(shí)施方式中，鎳-鈦基層可以通過(guò)一種以上的濺射靶來(lái)沉積。在某些情形中，可以存在金屬ni靶和金屬ti靶。在某些實(shí)例中，基于ni和/或ti的層可以在一種或多種惰性氣體和/或反應(yīng)性氣體存在下濺射沉積。在某些示例性實(shí)施方式中，ni和ti可以在至少氬氣和氧氣存在下沉積。在其他示例性實(shí)施方式中，一種或多種靶可以是陶瓷。例如，可以至少使用包含鎳的金屬靶和包含鈦的氧化物的陶瓷靶，和/或包含鈦的金屬靶和包含鎳的氧化物的陶瓷靶，來(lái)沉積阻擋層。此外，在其他示例性實(shí)施方式中，可以使用一種、兩種或以上的陶瓷靶來(lái)沉積包含鎳鈦氧化物的層。在某些示例性實(shí)施方式中，只有一些接觸層可能包含ni和/或ti和/或其氧化物和氮化物。在其他示例性實(shí)施方式中，其他接觸層可能包含ni和/或cr和/或其氧化物和氮化物。在其他示例性實(shí)施方式中，其他接觸層可能包含鋅和/或其氧化物。有利的是，已發(fā)現(xiàn)使用基于鎳鈦和/或其氧化物的接觸層提高涂層制品的機(jī)械和化學(xué)耐久性而不會(huì)犧牲光學(xué)性質(zhì)，使得在單片整體情形中，可以在玻璃基材的表面1和/或表面2上(例如涂層可以面朝內(nèi)部或外部)使用單一銀層堆(例如僅包含一個(gè)銀層的低-e涂層)。然而，本發(fā)明不限于此，并且根據(jù)不同的示例性實(shí)施方式，包括nixtiyoz阻擋層的低-e涂層可以使用在任何構(gòu)造中的任何表面上。盡管某些示例性實(shí)施方式與低-e涂層相關(guān)聯(lián)進(jìn)行描述，但本文描述的包含ni和/或ti的層可以與不同類型的涂層相結(jié)合使用。在某些示例性實(shí)施方式中，本文中所述的涂層制品(例如參見圖1-5)可以被熱處理或者可以不被熱處理(例如鋼化)。術(shù)語(yǔ)“熱處理”當(dāng)在本文中使用時(shí)是指將制品加熱至足以實(shí)現(xiàn)含玻璃的制品的熱鋼化和/或熱強(qiáng)化的溫度。該定義包括例如將涂層制品在烤箱或爐中，在至少約550℃、更優(yōu)選地至少約580℃、更優(yōu)選地至少約600℃、更優(yōu)選地至少約620℃、最優(yōu)選地至少約650℃的溫度下加熱足以使鋼化和/或熱強(qiáng)化的時(shí)間長(zhǎng)度。在某些示例性實(shí)施方式中，這可以是至少約2分鐘，或長(zhǎng)達(dá)約10分鐘。正如上面指出的，某些示例性實(shí)施方式可以包括由玻璃基材承載的低-e涂層。這種涂層制品可以單片整體地使用，或者層壓于另一個(gè)玻璃或其他基材上。涂層制品還可以被構(gòu)造到絕緣玻璃(ig)裝置中。ig裝置一般包含基本上平行且分隔開的第一和第二玻璃基材。在基材的周邊周圍提供密封，并在基材之間維持間隙(其可以至少部分用惰性氣體例如ar、xe、kr等填充)。在某些示例性實(shí)施方式中，本文示出并描述的涂層制品或類似的涂層制品可以層壓于另一塊玻璃板上。在某些實(shí)施方式中可以使用基于聚合物的中間層。在不同實(shí)施方式中可以使用諸如pvb、eva等的材料。在這樣的情形中，涂層可以提供在得到的層壓制品的基材之間(例如表面2或3上)。本文所述的一些或所有層可以通過(guò)濺射沉積或任何其他適合的技術(shù)例如cvd、燃燒沉積等來(lái)配置。本文所述的一些或所有層可以通過(guò)濺射沉積或任何其他適合的技術(shù)例如cvd、燃燒沉積等來(lái)配置。例如，示例性的包含ni和ti的層可以從一個(gè)或多個(gè)濺射靶來(lái)濺射沉積。濺射靶可以包括約1-50％的ni和約50-99％的ti，更優(yōu)選地約5-40％的ni和約60-95％的ti，更優(yōu)選地約10-30％的ni和約70-90％的ti。在某些示例性實(shí)施方式中，濺射靶中的ni:ti比例可以為約20:80。在不同實(shí)施方式中，其他ni:ti比例也是可能的，例如95/5、75/25、50/50、25/75、20/80、10/90等。本文中也考慮到了這些范圍的子范圍。此外，應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，這些百分?jǐn)?shù)/比例可以適用于層中ni和/或ti的量，無(wú)論這樣的層是被完全或部分氧化還是未被氧化(例如作為金屬)。本文公開的示例性材料可以與低-e、防凝結(jié)和/或其他應(yīng)用相結(jié)合使用。示例性的低-e和/或防凝結(jié)涂層描述在例如申請(qǐng)系列號(hào)12/926,714、12/923,082、12/662,894、12/659,196、12/385,234、12/385,802、12/461,792、12/591,611和12/654,594中，其全部?jī)?nèi)容在此引為參考。因此，在某些示例性實(shí)施方式中，在這些和/或其他類型的涂層中，本文描述的一種或多種阻擋層材料可以代替或補(bǔ)充一個(gè)或多個(gè)包含ni和/或cr的層。當(dāng)在本文中使用時(shí)，術(shù)語(yǔ)“在……之上”、“由……承載”等，除非明確指出，否則不應(yīng)被解釋為是指兩種元件彼此直接相鄰。換句話說(shuō)，即使在第一層與第二層之間存在一個(gè)或多個(gè)層，第一層也可以被稱為是在第二層之上或由第二層承載。盡管已經(jīng)結(jié)合目前被認(rèn)為是最實(shí)用和優(yōu)選的實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，但應(yīng)該理解，本發(fā)明不限于所公開的實(shí)施方式，而是正相反，打算覆蓋包含在隨附的權(quán)利要求書的精神和范圍之內(nèi)的各種修改和等同的安排。當(dāng)前第1頁(yè)12