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多晶硅還原爐的電極組件的制作方法

文檔序號:11802240閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種多晶硅還原爐的電極組件,安裝在還原爐底盤上,包括與電極配合的第一卡座及安裝在第一卡座上的第二卡座,第一卡座上設(shè)置有用于安裝硅芯的第一安裝部,第二卡座上設(shè)置有用于安裝硅芯的第二安裝部。

2.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,還包括嵌合卡座,該嵌合卡座安裝在第一卡座上,嵌合卡座并與第二卡座配合。

3.如權(quán)利要求2所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,第一卡座具有嵌合部,嵌合部開設(shè)有嵌合槽,嵌合卡座包括與該嵌合槽配合的嵌合凸起。

4.如權(quán)利要求3所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,該嵌合部開設(shè)有安裝槽,第二卡座包括與安裝槽配合的安裝凸起。

5.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,還包括基礎(chǔ)絕緣件,該基礎(chǔ)絕緣件安裝在第一卡座和還原爐底盤之間。

6.如權(quán)利要求5所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,還包括附加絕緣件,附加絕緣件安裝在第二卡座下以支撐第二卡座。

7.如權(quán)利要求6所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,第二卡座包括安裝臺階,附加絕緣件開設(shè)有與安裝臺階配合的通孔。

8.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,第一卡座的第一安裝部數(shù)量為多個,多個第一安裝部間隔分布。

9.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,第一卡座的第二安裝部數(shù)量為多個,多個第二安裝部間隔分布。

10.如權(quán)利要求1所述的多晶硅還原爐的電極組件,其特征在于,第二卡座包括擴(kuò)展槽和導(dǎo)電臂,第二安裝部設(shè)置在導(dǎo)電臂的末端,導(dǎo)電臂和擴(kuò)展槽的外壁轉(zhuǎn)動連接。

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