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一種乙硅烷生產(chǎn)裝置的制作方法

文檔序號:11819395閱讀:1216來源:國知局

本發(fā)明屬于化工設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,涉及一種硅化鎂與氯化銨反應(yīng)生產(chǎn)乙硅烷的裝置,尤其涉及一種乙硅烷生產(chǎn)裝置。



背景技術(shù):

乙硅烷是一種很有前途的硅膜先體,是半導(dǎo)體工業(yè)中頗有吸引力的特種氣體之一??捎米鳠o定形硅薄膜、光化學(xué)纖維原料以及硅氧烷等的優(yōu)良原料,在半導(dǎo)體、光電材料等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用前景和實(shí)際價(jià)值。與甲硅烷相比,它具有沉積速度快、溫度要求低、膜均勻度高等優(yōu)越性。但是,現(xiàn)有乙硅烷的制備方法主要因產(chǎn)率低、副產(chǎn)品多、相對復(fù)雜,不利于操作導(dǎo)致生產(chǎn)成本過高,這在很大程度上限制了其應(yīng)用。

目前,乙硅烷的合成方法主要有以下幾種:(一)、硅鈣合金在150~250℃與氯氣進(jìn)行氣固反應(yīng)[Inorganic Syntheses,1939,1:42-45] ;(二)、硅鐵合金在氯化銨的存在下,在110~200 ℃ 與氯氣進(jìn)行氣固反應(yīng)[Journal of fluorinechemistry,1997,83(1),89-91] ;(三)、硅或硅合金進(jìn)行氯化制備乙硅烷,其中在得到的生成物中含有SiCl4、Si2Cl6、以及Si3Cl8 以上的高沸點(diǎn)組份;通過兩段低級化處理,即(1)初始的副產(chǎn)高沸點(diǎn)組份,通過加熱進(jìn)行低級化反應(yīng)處理;(2)殘存的Si3Cl8 以上的高沸點(diǎn)組份,通氯氣進(jìn)行低級化處理[ 日本專利特開昭59-20782] ;(四)、高溫下裂解或氫化還原氯硅烷來沉積多晶硅的硅反應(yīng)體系排放的廢氣[CN1392862A] ;(五)、氯氣與低級硅烷(SiClX,x=0.2~0.8)反應(yīng),使得低級硅烷聚合[WO2011067331]。

以上方法制得的乙硅烷產(chǎn)率都偏低(10~20%),均為氣固反應(yīng),裝置復(fù)雜且對設(shè)備要求較高,不易操作,同時(shí)反應(yīng)溫度一般偏高,能耗大。這些都在一定程度上限制了反應(yīng)的推廣。因此,發(fā)展更為簡單的、產(chǎn)率較高的合成工藝和設(shè)備使其在工業(yè)上得到更大范圍的推廣十分必要,具有十分重要的實(shí)際意義。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種乙硅烷生產(chǎn)裝置。

本發(fā)明通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種乙硅烷生產(chǎn)裝置,包括連接反應(yīng)釜的加料系統(tǒng)、儲槽,反應(yīng)釜上方的出口,反應(yīng)釜底部的排渣口,和反應(yīng)釜內(nèi)安裝的高剪力型葉片攪拌器;所述加料系統(tǒng)內(nèi)裝有硅化鎂和氯化銨,所述儲槽內(nèi)裝有液氨,所述出口排出的硅烷反應(yīng)混合物通往精餾塔,所述精餾塔的塔頂連接有冷凝器,所述精餾塔的塔底連接有再沸器,所述精餾塔排出的乙硅烷送到乙硅烷儲罐,所述排渣口排出反應(yīng)雜物,所述排渣口與水平面的夾角為30-60度,優(yōu)選40-50度。

進(jìn)一步,所述反應(yīng)釜安裝有壓力檢測裝置。

進(jìn)一步,所述反應(yīng)釜安裝有溫度檢測裝置。

進(jìn)一步,所述反應(yīng)釜的容積為5-10立方米。

進(jìn)一步,所述精餾塔是一組串聯(lián)的精餾塔。

進(jìn)一步,所述精餾塔外接的管路包覆有保溫層。

進(jìn)一步,所述冷凝器和再沸器均為列管式換熱器。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有顯著的優(yōu)點(diǎn)和有益效果:由于本發(fā)明選擇了優(yōu)化設(shè)計(jì)的反應(yīng)釜,尤其是排渣口的夾角的設(shè)計(jì),節(jié)省了反應(yīng)時(shí)間,生產(chǎn)成本較低,設(shè)備腐蝕性減小,可以連續(xù)穩(wěn)定化生產(chǎn)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明乙硅烷生產(chǎn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

其中1-加料系統(tǒng);2-儲槽;3-出口;4-排渣口;5-高剪力型葉片攪拌器;6-精餾塔;7-冷凝器;8-再沸器;9-乙硅烷儲罐。

具體實(shí)施方式

為進(jìn)一步了解本發(fā)明的內(nèi)容、特點(diǎn)及功效,以下結(jié)合附圖及實(shí)施例,對本發(fā)明詳細(xì)說明。

參閱圖1,一種乙硅烷反應(yīng)釜,包括連接反應(yīng)釜的加料系統(tǒng)1、儲槽2,反應(yīng)釜上方的出口3,反應(yīng)釜底部的排渣口4,和反應(yīng)釜內(nèi)安裝的高剪力型葉片攪拌器5;所述加料系統(tǒng)內(nèi)裝有硅化鎂和氯化銨,所述儲槽2內(nèi)裝有液氨,所述出口3排出硅烷反應(yīng)混合物,所述出口3排出的硅烷反應(yīng)混合物通往精餾塔6,所述精餾塔的塔頂連接有冷凝器7,所述精餾塔的塔底連接有再沸器8,所述精餾塔排出的乙硅烷與乙硅烷儲罐9相連,所述排渣口排出反應(yīng)雜物,所述排渣口與水平面的夾角為30-60度。

為了便于理解本申請,現(xiàn)將使用本申請乙硅烷生產(chǎn)裝置的硅烷產(chǎn)品制造工藝進(jìn)行簡單介紹。所述硅烷產(chǎn)品制造工藝包含下列步驟:

A、首先以硅粉及鎂粉在500-700℃環(huán)境下生成硅化鎂,

Si+2Mg------→Mg2Si

B、以硅化鎂與氯化氨反應(yīng),在液氨及催化劑的環(huán)境下,生成硅烷類及六氨氯化鎂,反應(yīng)式為:

NH3(l)

Mg2Si+NH4Cl----------------→SinHm+MgCl2?6NH3+H2

催化劑

其中m=2n+2

C、六氨氯化鎂為一固相產(chǎn)品,再經(jīng)加以分離反應(yīng)而得到氯化鎂及液氨,液氨可以再投入上述制程B及以下制程E中使用:

MgCl2?6NH3----------→MgCl2+6NH3

D、氯化鎂并再經(jīng)電解而生成鎂粉及氯氣,鎂粉為固相,可以投入上述制程中的A中使用:

MgCl2--------→Mg+Cl2

電解

E、氯氣再與液氨合成反應(yīng)生成氯化氨,氯化氨得以投入上述制程中的B使用,其中液氨來自于上述制程中的C,換言之,制程C生成之氨可以供制程B及E使用:

Cl2+H2-------→2HCl

NH3+HCl-------→NH4CL

從上述反應(yīng)式中步驟B中生成硅烷類的產(chǎn)品,甲硅烷和乙硅烷雖然都是氣體,但是分子量各有不同,致使液化/氣化所需溫度不同。運(yùn)用其物理特性不同,經(jīng)過分離可以分別得到甲硅烷、乙硅烷產(chǎn)品,以讓各不同烷類產(chǎn)品獨(dú)立存在方得以應(yīng)不同使用需求。具體工作過程如下:反應(yīng)釜出來的氣體混合物進(jìn)入串聯(lián)的精餾塔組,控制精餾塔塔內(nèi)的溫度降溫到-120 0C至-170 0C,分離出乙硅烷:然后再降溫到-170 0C至-196 0C,分離出甲硅烷。將得到的甲硅烷升溫至-170 0C以上,使甲硅烷從液相變成氣相,然后再降溫,于-180 0C至-196 0C溫度中得到高純度甲硅烷;將得到的乙硅烷升溫至-120 0C以上,使乙硅烷從液相變成氣相,然后再降溫,于-130 0C至-160 0C溫度中得到高純度乙硅烷,將高純度乙硅烷送入乙硅烷儲罐,經(jīng)測定,乙硅烷純度可達(dá)99.998%。

為使甲硅烷、乙硅烷高精密度純化,可以使用分子篩予以純化。當(dāng)然,為取得更高精密度純化的目的,溫度差、分子篩不僅可以單獨(dú)使用,亦可以二者組合使用。其他等效之純化方法都可以加以運(yùn)用。

實(shí)施例1

上述的乙硅烷生產(chǎn)裝置,包括連接反應(yīng)釜的加料系統(tǒng)1、儲槽2,反應(yīng)釜上方的出口3,反應(yīng)釜底部的排渣口4,和反應(yīng)釜內(nèi)安裝的高剪力型葉片攪拌器5;所述加料系統(tǒng)內(nèi)裝有硅化鎂和氯化銨,所述儲槽2內(nèi)裝有液氨,所述出口3排出硅烷反應(yīng)混合物,所述出口3排出的硅烷反應(yīng)混合物通往精餾塔6,所述精餾塔的塔頂連接有冷凝器7,所述精餾塔的塔底連接有再沸器8,所述精餾塔排出的乙硅烷與乙硅烷儲罐9相連,所述排渣口排出反應(yīng)雜物,所述排渣口與水平面的夾角為30度。

實(shí)施例2

重復(fù)實(shí)施例1,不同之處在于,所述精餾塔是2個(gè)串聯(lián)的精餾塔,所述排渣口與水平面的夾角為60度。

實(shí)施例3

重復(fù)實(shí)施例1,不同之處在于,所述精餾塔是3個(gè)串聯(lián)的精餾塔,所述排渣口與水平面的夾角為40度。

實(shí)施例4

重復(fù)實(shí)施例1,不同之處在于,所述精餾塔是4個(gè)串聯(lián)的精餾塔,所述精餾塔外接的管路包覆有保溫層,所述排渣口與水平面的夾角為50度。

實(shí)施例5

重復(fù)實(shí)施例1,進(jìn)一步的特征是反應(yīng)釜的容積為5立方米。

實(shí)施例6

重復(fù)實(shí)施例1,進(jìn)一步的特征是反應(yīng)釜的容積為10立方米,所述冷凝器和再沸器均為列管式換熱器。

實(shí)施例7

重復(fù)實(shí)施例3,進(jìn)一步的特征是反應(yīng)釜的容積為5立方米。

實(shí)施例8

重復(fù)實(shí)施例4,進(jìn)一步的特征是反應(yīng)釜的容積為10立方米。

以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式,應(yīng)當(dāng)指出,對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員在不脫離本發(fā)明的范圍可以加以若干變化,故以上說明所包含的及附圖中所示的結(jié)構(gòu)應(yīng)視為例示性,而非用以限制本發(fā)明專利的保護(hù)范圍。

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