技術(shù)特征：
1.一種銦錫氧化物納米晶復合溶液的制備方法，其特征在于包括：Ⅰ、提供ITO納米晶分散液，包括：1)在含有銦化物、錫化物的混合水溶液中加入堿，調(diào)節(jié)pH值為8.0～9.0，使所述銦化物、錫化物轉(zhuǎn)化為銦氫氧化物、錫氫氧化物沉淀，所述含有銦化物、錫化物的混合水溶液中錫元素的物質(zhì)的量占銦、錫元素總物質(zhì)的量之和的5～10％；2)分別用去離子水、醇溶劑反復清洗所述銦氫氧化物、錫氫氧化物沉淀，然后固液分離，得到銦氫氧化物、錫氫氧化物的前驅(qū)體；3)將所述前驅(qū)體與乙醇混合形成濃度為0.02～0.1g/mL的前驅(qū)體-乙醇溶液，再加入聚乙烯吡咯烷酮，剪切分散成懸浮液，其中聚乙烯吡咯烷酮與所述前驅(qū)體的質(zhì)量比為2～10；4)將所述懸浮液置入高壓釜中熱處理，熱處理溫度為220～260℃，時間為12～28小時，得到藍色沉淀，分別以丙酮、醇溶劑反復清洗所述藍色沉淀后得到所述ITO納米晶；5)將所述ITO納米晶分散在極性有機溶劑中，經(jīng)過剪切分散和/或超聲處理后獲得ITO納米晶分散液；Ⅱ、提供ITO前驅(qū)體液，包括：①將銦的硝酸鹽于室溫下溶于極性有機溶劑中形成硝酸銦溶液，在所述硝酸銦溶液中加入乙酰丙酮和濃氨水，且使銦：乙酰丙酮：濃氨水的摩爾體積比為1mol：200ml：114ml，室溫攪拌反應12h以上，獲得自燃燒配方的In的前驅(qū)體液；②將摩爾比為1：1的氯化亞錫和硝酸銨溶于有機溶劑中，室溫攪拌至充分溶解，再加入乙酰丙酮和濃氨水，且使錫：乙酰丙酮：濃氨水的摩爾體積比為1mol：200ml：114ml，室溫攪拌反應12h以上，獲得自燃燒配方的Sn的前驅(qū)體液；③將In的前驅(qū)體液與Sn的前驅(qū)體液按照19:1-9:1的物質(zhì)的量比混合，并在室溫下攪拌反應1h以上，形成ITO前驅(qū)體液；Ⅲ、將ITO納米晶分散液與ITO前驅(qū)體液混合均勻，剪切分散，形成所述銦錫氧化物納米晶復合溶液。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述銦錫氧化物納米晶復合溶液的制備方法，其特征在于：所述銦化物包括氯化銦、硝酸銦中的任一種或任一種的水合物，所述錫化物包括四氯化錫或四氯化錫的水合物，所述堿包括氫氧化鈉、氫氧化鉀或氨水，所述聚乙烯吡咯烷酮包括K-15，K-30，K-60，K-90中的任意一種或兩種以上的組合。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述銦錫氧化物納米晶復合溶液的制備方法，其特征在于：所述極性有機溶劑包括乙醇、乙二醇甲醚或乙二醇；步驟Ⅲ中所述銦錫氧化物納米晶復合溶液中ITO納米晶所含In元素的物質(zhì)的量占所述銦錫氧化物納米晶復合溶液中In元素總物質(zhì)的量的50％以上；所述ITO納米晶分散液的濃度為0.1-1moL/L，所述ITO前驅(qū)體液的濃度為0.1-1moL/L。4.由權(quán)利要求1-3中任一項所述方法制備的銦錫氧化物納米晶復合溶液。5.一種ITO復合薄膜的制備方法，其特征在于包括：將權(quán)利要求4所述的銦錫氧化物納米晶復合溶液于基底上成膜，之后在150℃-300℃下空氣氛圍退火1h以上，獲得所述ITO復合薄膜。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述ITO復合薄膜的制備方法，其特征在于包括：在所述銦錫氧化物納米晶復合溶液內(nèi)加入極性有機溶劑，再涂布于基底上成膜，其中極性溶劑的用量為所述銦錫氧化物納米晶復合溶液總體積的0-20％，所述極性有機溶劑包括一縮二乙二醇、乙二醇或三乙二醇。7.由權(quán)利要求5-6中任一項所述方法制備的ITO復合薄膜。8.一種光電子器件，其特征在于包含權(quán)利要求7所述的ITO復合薄膜。