專利名稱：氟氣的當(dāng)場(chǎng)氣體混合及稀釋系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種位于現(xiàn)場(chǎng)(on site)氟氣產(chǎn)生裝置和使用氟氣的半導(dǎo)體處理裝置之間的氟氣的供給系統(tǒng)，即，氟氣的當(dāng)場(chǎng)(in-situ)氣體混合及稀釋系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前，在半導(dǎo)體處理工序的清洗、蝕刻工藝，電子材料氣體(例如，碳氟化合物、六氟化硫氣體、三氟化氮等氟化物氣體)體現(xiàn)出高性能，因此一直在較大范圍內(nèi)大量使用上述氣體，但是這些氟化物氣體的溫室效應(yīng)系數(shù)較大而對(duì)地球環(huán)境造成不良影響，因此，決定今后廢止或者限制上述氣體的使用。氟氣的溫室效應(yīng)系數(shù)是零，因而開始研究使用氟氣作為上述氟化物氣體的代替物。氟氣的毒性、腐蝕性、反應(yīng)性極強(qiáng)，因此在將其填充在儲(chǔ)氣瓶中大量地輸送、儲(chǔ)存時(shí)伴隨有危險(xiǎn)，因此現(xiàn)在正在實(shí)施使用下述方式供給氟氣的方法，即，用氮?dú)狻⒑獾确腔钚詺怏w將氟氣稀釋到不大于20%左右的濃度并將該混合氣體填充在儲(chǔ)氣瓶中。然而，在填充有利用非活性氣體稀釋的氟氣的儲(chǔ)氣瓶中，氟氣的填充量較少，因此增大了儲(chǔ)氣瓶的更換頻率，在每次更換儲(chǔ)氣瓶時(shí)都需要進(jìn)行氟氣供給工藝的最優(yōu)化，從而產(chǎn)生了生產(chǎn)效率下降的問題。此外，當(dāng)為了使氟氣的填充量達(dá)到最大限度而使儲(chǔ)氣瓶?jī)?nèi)產(chǎn)生高壓時(shí)可以舉出氣體供給容器的破損等潛在的危險(xiǎn)性。因此，在上述情況的對(duì)策中，根據(jù)產(chǎn)業(yè)界的期望而對(duì)于安全、穩(wěn)定地產(chǎn)生氟氣、現(xiàn)場(chǎng)使用的現(xiàn)場(chǎng)氟氣產(chǎn)生裝置等提出了幾個(gè)方案(專利文獻(xiàn)1、2)。然而，作為現(xiàn)狀，雖然用于在現(xiàn)場(chǎng)氟氣產(chǎn)生裝置和使用氟氣的半導(dǎo)體處理裝置之間的確保氟氣供給的接口裝置(氟氣的供給系統(tǒng))極為重要，但是對(duì)該接口裝置的研究卻很少。專利文獻(xiàn)1 日本特開2004-169123號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2007-191378號(hào)公報(bào)以往，使用下述方法，S卩，將由現(xiàn)場(chǎng)氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣直接導(dǎo)入緩沖罐且在即將導(dǎo)入到半導(dǎo)體處理裝置之前進(jìn)行氟氣稀釋的方法，此外，在將所獲得的氟氣導(dǎo)入到使用氟氣的半導(dǎo)體處理裝置時(shí)，分別獨(dú)立地對(duì)所獲得的氟氣和非活性氣體的各成分進(jìn)行流量控制并使其流通，使上述氣體匯合且儲(chǔ)存在緩沖罐中，進(jìn)行這些混合氣體的流量控制而將其導(dǎo)入到使用氟氣的半導(dǎo)體處理裝置的方法。在將所獲得的氟氣直接導(dǎo)入到緩沖罐的方法中，氟氣的毒性、腐蝕性極強(qiáng)，因此不優(yōu)選在緩沖罐中大量?jī)?chǔ)存氟氣。此外，近年來，在半導(dǎo)體處理工序中，以提高生產(chǎn)效率為目的，逐步推進(jìn)使用基板的大型化，開始使用大尺寸的硅晶圓。與硅晶圓的大型化相對(duì)應(yīng)，逐步推進(jìn)CVD裝置、蝕刻裝置等半導(dǎo)體處理裝置的大型化，伴隨著半導(dǎo)體處理裝置的大型化而使用于清洗工藝、蝕刻工藝等的氟氣的使用量急劇增加。因此，伴隨著氟氣的使用量的增大，在將由現(xiàn)場(chǎng)氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣導(dǎo)入到使用氟氣的半導(dǎo)體處理裝置的方法中，為了能夠?qū)崿F(xiàn)氟氣的大量供給而使用更大型的緩沖罐。在使用能夠大量供給氣體的大型緩沖罐來儲(chǔ)存混合氣體的情況下，伴隨著容器變大而使混合氣體難以實(shí)現(xiàn)均勻化。雖然只通過長(zhǎng)時(shí)間放置就能夠使混合氣體實(shí)現(xiàn)均勻化， 但是在以往的方法中，伴隨著容器的增大，增加了混合氣體的各成分實(shí)現(xiàn)均勻化的時(shí)間而存在導(dǎo)致生產(chǎn)率下降這樣的問題點(diǎn)。此外，伴隨著集成電路的微細(xì)化和高集成化也提高了對(duì)使用的氟氣的濃度所要求的精度。因此，需要在使混合氣體的各成分可靠地實(shí)現(xiàn)均勻化后，與要求精度相對(duì)應(yīng)地調(diào)整混合氣體。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于以上情況而做成的，其課題在于提供一種能夠?qū)⒂煞鷼猱a(chǎn)生裝置產(chǎn)生的氟氣以穩(wěn)定、大量且具有精確濃度的狀態(tài)供給到半導(dǎo)體處理裝置的氟氣的供給系統(tǒng)。本發(fā)明人為了解決上述課題，經(jīng)專心研究，結(jié)果發(fā)現(xiàn)通過將儲(chǔ)存在緩沖罐中的混合氣體導(dǎo)入到在進(jìn)行緩沖罐內(nèi)調(diào)整混合氣體前的導(dǎo)入氣體的氣體導(dǎo)入配管，且使混合氣體循環(huán)，并且，設(shè)有用于測(cè)量混合氣體中的氟濃度的監(jiān)視裝置，根據(jù)所獲得的氟濃度來調(diào)整氣體供給源的由氟氣形成或者由非活性氣體形成的流量，從而能夠?qū)⒂煞鷼猱a(chǎn)生裝置產(chǎn)生的氟氣以穩(wěn)定、大量且具有精確濃度的狀態(tài)供給到半導(dǎo)體處理裝置，得以完成本發(fā)明。即，本發(fā)明是氟氣供給系統(tǒng)，其配設(shè)在半導(dǎo)體處理裝置的氣體供給系統(tǒng)中，用于供給氟氣，其特征在于，該系統(tǒng)包括氣體供給部，其包括氟氣的氣體供給源和非活性氣體的氣體供給源；緩沖罐，其用于儲(chǔ)存上述氟氣和上述非活性氣體的混合氣體；配管A，其用于導(dǎo)入上述各氣體供給源的氣體而與上述緩沖罐相連接；配管B，其連接上述緩沖罐和上述配管A且用于使上述緩沖罐內(nèi)的混合氣體循環(huán)，使混合氣體中的氟濃度實(shí)現(xiàn)均勻化；配管 C，其連接上述緩沖罐和上述半導(dǎo)體處理裝置；氣體流量調(diào)整裝置，其設(shè)在上述氣體供給部的非活性氣體供給源上而用于調(diào)整非活性氣體的流量；氣體流量調(diào)整裝置，其設(shè)在上述氣體配管C上而用于調(diào)整從上述緩沖罐供給到上述半導(dǎo)體處理裝置的氣體流量；監(jiān)視裝置， 其用于測(cè)量上述混合氣體中的氟濃度，且根據(jù)該所測(cè)量的濃度調(diào)整上述氣體供給部的氣體流量計(jì)量裝置，維持規(guī)定的氟濃度。本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)能夠在將由氟氣產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的氟氣導(dǎo)入到半導(dǎo)體處理裝置時(shí)以穩(wěn)定、大量且具有精確濃度的狀態(tài)供給氟氣。


圖1是表示應(yīng)用本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)的概略圖。圖2是表示應(yīng)用氟氣供給系統(tǒng)的比較例的概略圖。附圖標(biāo)記說明1、15 氟氣供給源；2,16 非活性氣體供給源；3,17 氣體供給部；4、6、18、20 氣體配管；5、19 緩沖罐；7、21 半導(dǎo)體處理裝置；8 用于使混合氣體循環(huán)的氣體配管；9 閥； 10、11、22、23、脅氣體流量調(diào)整裝置；12,24 泵；13 監(jiān)視裝置；15 控制電路。
具體實(shí)施例方式接下來，使用附圖對(duì)本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式的一例進(jìn)行說明。圖1是表示應(yīng)用本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)的概略圖。圖2是表示應(yīng)用與本發(fā)明作對(duì)比的氟氣供給系統(tǒng)的比較例的概略圖。本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)首先，對(duì)圖1所示的本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)進(jìn)行說明。圖1所示的氟氣供給系統(tǒng)是將由氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣和用于將氟氣調(diào)整到規(guī)定濃度的非活性氣體混合、將混合氣體儲(chǔ)存在緩沖罐中且將該混合氣體供給到作為對(duì)象裝置的半導(dǎo)體處理裝置的氣體供給系統(tǒng)，其特征在于，通過將儲(chǔ)存在緩沖罐中的混合氣體導(dǎo)入到在進(jìn)行緩沖罐內(nèi)調(diào)整混合氣體前的導(dǎo)入氣體的氣體導(dǎo)入配管且使混合氣體循環(huán)，從而使混合氣體中的氟濃度實(shí)現(xiàn)均勻化。圖1所示的氟氣供給系統(tǒng)包括氣體供給部3，該氣體供給部3包括用于供給由氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣的氣體供給源1和用于供給將氟氣調(diào)整到規(guī)定濃度的非活性氣體的氣體供給源2，借助用于導(dǎo)入各氣體的配管4，使各氣體供給源1、2與用于混合儲(chǔ)存各氣體的緩沖罐5相連接，在緩沖罐5上連接有配管6，借助該配管6將儲(chǔ)存在緩沖罐5中的混合氣體供給到半導(dǎo)體處理裝置7。為了使緩沖罐內(nèi)的混合氣體中的氟濃度實(shí)現(xiàn)均勻化，設(shè)有用于將緩沖罐5和用于導(dǎo)入各氣體的配管4連接起來的配管8。此外，也可以在用于變更緩沖罐內(nèi)的氣體循環(huán)流量且調(diào)整緩沖罐內(nèi)的氟氣濃度的配管8上設(shè)有旁通閥。通過設(shè)有用于將該緩沖罐5和導(dǎo)入各氣體的配管4連接起來的配管8，從而將一度儲(chǔ)存在緩沖罐5中的混合氣體導(dǎo)入到用于導(dǎo)入各氣體的配管4中，且通過使混合氣體循環(huán)從而能夠?qū)⑸鲜龌旌蠚怏w調(diào)整為氟濃度均勻的混合氣體。此外，優(yōu)選在用于將緩沖罐5和導(dǎo)入各氣體的配管4連接起來的配管8上設(shè)有閥 9，根據(jù)所使用的緩沖罐的大小、所要求的混合氣體的氟濃度等條件，考慮是否具有使緩沖罐內(nèi)的混合氣體循環(huán)必要性，從而進(jìn)行閥的開閉及開度調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)緩沖罐內(nèi)的混合氣體的氟氣濃度。為了使緩沖罐5內(nèi)的混合氣體循環(huán)，優(yōu)選在用于使混合氣體循環(huán)的氣體管線、例如用于將緩沖罐5和導(dǎo)入各氣體的配管4連接起來的配管8上設(shè)置用于使混合氣體循環(huán)的泵12。此外，通過用變換器(Inverter)控制設(shè)置在用于使混合氣體循環(huán)的氣體管線上的泵12及利用閥9的開閉度來進(jìn)行循環(huán)氣體的流量調(diào)整，從而能夠任意地調(diào)整儲(chǔ)存在緩沖罐5中的混合氣體的氟濃度。在非活性氣體供給源2的氣體供給管線上設(shè)有用于對(duì)供給到緩沖罐5的氣體的流量進(jìn)行調(diào)整的氣體流量調(diào)整裝置11。在將非活性氣體供給源2和緩沖罐5連接起來的氣體導(dǎo)入配管4上設(shè)有用于控制混合氣體中的氟濃度的監(jiān)視裝置13，借助控制電路15連接監(jiān)視裝置13和設(shè)在非活性氣體供給源2上的、用于調(diào)整非活性氣體的流量的氣體流量調(diào)整裝置11。雖然通常主要利用用于產(chǎn)生氟氣的電解槽的電流值、閥的開閉度等來調(diào)整由現(xiàn)場(chǎng)氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣的流量，但是也可以在氟氣供給源1的氣體供給管線上設(shè)有用于調(diào)整氟氣的流量的氣體流量調(diào)整裝置aa。在氟氣供給源1的氣體供給管線上設(shè)有用于調(diào)整氟氣的流量的氣體流量調(diào)整裝置aa的情況下，與非活性氣體供給源1同樣地，能夠借助控制電路15連接監(jiān)視裝置13和設(shè)于氟氣供給源1的、用于對(duì)氟氣的流量進(jìn)行調(diào)整的氣體流量調(diào)整裝置aa。監(jiān)視裝置13設(shè)置在能夠分析循環(huán)的混合氣體的位置即可，沒有特別限定，但是優(yōu)選上述監(jiān)視裝置13設(shè)置在用于將緩沖罐5和導(dǎo)入各氣體的配管4連接起來的配管8上，或者設(shè)置在向緩沖罐5導(dǎo)入氣體的氣體管線的即將到達(dá)緩沖罐5的部分上。利用監(jiān)視裝置13，測(cè)量混合氣體中的氟氣的濃度，借助控制電路15輸送所獲得的濃度信息，基于該信息調(diào)整設(shè)在非活性氣體供給源2的氣體供給管線上的氣體流量調(diào)整裝置11，從而能夠使混合氣體中的氟維持為規(guī)定濃度。此外，同樣地，也能夠在氟氣供給源1的氣體供給管線上設(shè)有氣體流量調(diào)整裝置， 利用監(jiān)視裝置13調(diào)整氟氣的流量而調(diào)整混合氣體中的氟濃度。此外，為了測(cè)量氟氣的濃度，優(yōu)選在監(jiān)視裝置13中設(shè)有在線式(in-line)氣體分析器。作為在線式氣體分析器能夠測(cè)量氟濃度即可，沒有特別限定，但是特別優(yōu)選該分析器是紫外可見分光光度計(jì)(UV-Vis)。此外，優(yōu)選在用于將儲(chǔ)存在緩沖罐5中的混合氣體供給到半導(dǎo)體處理裝置7的配管6上設(shè)置有氣體流量調(diào)整裝置10，根據(jù)所使用的半導(dǎo)體處理裝置的作業(yè)條件而調(diào)整氣體流量。為了適當(dāng)?shù)乇３志彌_罐內(nèi)的混合氣體壓力，優(yōu)選在緩沖罐中設(shè)置有用于檢測(cè)氣體壓力的氣體壓力檢測(cè)裝置，優(yōu)選借助監(jiān)視裝置自氣體壓力檢測(cè)裝置將檢測(cè)出的混合氣體壓力的值輸送到設(shè)置在現(xiàn)場(chǎng)氟氣產(chǎn)生裝置上的整流器(氟氣導(dǎo)入側(cè))，利用整流器的電流值的變化(電流值的上升、下降)進(jìn)行氟氣的流量控制。作為產(chǎn)生用于供給的氟氣的方法，可以使用在由包含氟化氫的熔融鹽構(gòu)成的電解槽中電解氟化氫從而產(chǎn)生氟氣的方法、利用金屬氟化物固體的熱分解反應(yīng)而產(chǎn)生氟氣的方法等，只要是在現(xiàn)場(chǎng)產(chǎn)生并供給氟氣的方法，并不進(jìn)行特別限定。這里，現(xiàn)場(chǎng)是指用于產(chǎn)生及供給氟氣的機(jī)構(gòu)與規(guī)定的處理裝置、例如半導(dǎo)體處理裝置的主處理裝置相組合。作為被使用的非活性氣體，可以舉出氬氣、氮?dú)?、氦氣及氖氣等，只要是不與氟氣相互作用且不會(huì)對(duì)使用的半導(dǎo)體處理裝置造成影響的氣體即可，不特別限定氣體種類。作為用于緩沖罐的材質(zhì)可以舉出對(duì)氟氣的抗性較高且具有充分的機(jī)械強(qiáng)度的鎳、 蒙乃爾合金(monel)及不銹鋼等金屬。氟氣供給系統(tǒng)的比較例接下來，對(duì)圖2所示的本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)的比較例進(jìn)行說明。以下，與圖1的說明相同地對(duì)圖2的氟氣供給系統(tǒng)的比較例進(jìn)行說明，只要沒有特別地提示說明，基本的氣體供給系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)、作用與圖1相同。圖2所示的氟氣供給系統(tǒng)是用于混合由氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣和用于將氟氣調(diào)整到規(guī)定濃度的非活性氣體、將該混合氣體儲(chǔ)存在緩沖罐中且將其供給到作為對(duì)象裝置的半導(dǎo)體處理裝置中的氣體供給系統(tǒng)。
圖2所示的氟氣供給系統(tǒng)包括氣體供給部17，該氣體供給部17包含用于供給由氟氣產(chǎn)生裝置獲得的氟氣的氣體供給源15和供給用于將氟氣調(diào)整到規(guī)定濃度的非活性氣體的氣體供給源16，借助用于導(dǎo)入各氣體的配管18，使各氣體供給源15、16與用于混合儲(chǔ)存各氣體的緩沖罐19相連接，在緩沖罐19上連接有配管20，該配管20用于將儲(chǔ)存在緩沖罐 19中的混合氣體供給到半導(dǎo)體處理裝置21。在各氣體供給源15、16的氣體供給管線上設(shè)有用于調(diào)整供給到緩沖罐19的非活性氣體的流量的氣體流量調(diào)整裝置23。在用于將儲(chǔ)存在緩沖罐19中的混合氣體供給到半導(dǎo)體處理裝置21的配管20上設(shè)置氣體流量調(diào)整裝置，以根據(jù)使用的半導(dǎo)體處理裝置的作業(yè)條件調(diào)整氣體流量。在用于連接各氣體供給源15、16和緩沖罐19的氣體導(dǎo)入配管20上設(shè)置泵對(duì)。比較例和本發(fā)明的不同之處以下，對(duì)本發(fā)明與氟氣供給系統(tǒng)的比較例的不同之處進(jìn)行說明。圖2所示的氟氣的供給系統(tǒng)的比較例與圖1所示的本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)不同， 沒有設(shè)有用于使混合氣體在儲(chǔ)存混合氣體的緩沖罐中循環(huán)的配管。因此，在比較例中，在使用大型的緩沖罐的情況下，難以使混合氣體實(shí)現(xiàn)均勻化。作為上述問題的對(duì)策，采取了下述方法A.長(zhǎng)時(shí)間放置使混合氣體實(shí)現(xiàn)均勻化的方法；B.使用大型風(fēng)扇(fan)等使緩沖罐內(nèi)的混合氣體實(shí)現(xiàn)均勻化的方法；C.在混合氣體時(shí)使用氣體混合裝置(靜態(tài)混合器)而導(dǎo)入預(yù)先稀釋至規(guī)定的氣體濃度的氣體的方法等。然而，在這些方法中，難以變更緩沖罐內(nèi)的氟氣濃度，且導(dǎo)致浪費(fèi)時(shí)間、設(shè)備成本增加，因而生產(chǎn)率下降。此外，雖然通過組合B、C方法且設(shè)置用于測(cè)量氟濃度的監(jiān)視裝置， 能夠變更緩沖罐內(nèi)的氟氣濃度，但是增加了設(shè)備，因此導(dǎo)致設(shè)備成本增加。另一方面，圖1所示的本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)的特征在于，設(shè)有用于使混合氣體在儲(chǔ)存混合氣體的緩沖罐中循環(huán)的氣體導(dǎo)入配管。因此，本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)具有下述特征，S卩，能夠以較短時(shí)間且較低成本使緩沖罐內(nèi)的混合氣體實(shí)現(xiàn)均勻化，且能夠任意變更緩沖罐內(nèi)的氟氣的濃度，因此相對(duì)于使用的半導(dǎo)體處理裝置等的作業(yè)條件(要求的氟濃度、氟使用量等)，能夠供給具有適當(dāng)?shù)姆鷼鉂舛鹊幕旌蠚怏w。此外，圖1所示的本發(fā)明的氟氣供給系統(tǒng)具有下述特征，即，設(shè)有用于測(cè)量混合氣體中的氟濃度的監(jiān)視裝置，根據(jù)所獲得的氟濃度調(diào)整非活性氣體的流量，且根據(jù)半導(dǎo)體處理裝置的氟使用量調(diào)整氟產(chǎn)生量，從而能夠與圖2所示的氟氣供給系統(tǒng)的比較例相比以精確的濃度供給氟氣。此外，在第1圖及第2圖中的MFC是Mass Flow Controller (質(zhì)量流量控制器)的縮略語。
權(quán)利要求
1.一種氟氣供給系統(tǒng)，其配設(shè)在半導(dǎo)體處理裝置的氣體供給系統(tǒng)中且用于供給氟氣， 其特征在于，該氟氣供給系統(tǒng)包括氣體供給部，其包含氟氣的氣體供給源和非活性氣體的氣體供給源； 緩沖罐，其用于儲(chǔ)存上述氟氣和上述非活性氣體的混合氣體； 配管A，其用于導(dǎo)入上述各氣體供給源的氣體并與上述緩沖罐連接； 配管B，其連接上述緩沖罐和上述配管A，用于使上述緩沖罐內(nèi)的混合氣體循環(huán)，使混合氣體中的氟濃度實(shí)現(xiàn)均勻化；氣體配管C，其連接上述緩沖罐和上述半導(dǎo)體處理裝置；氣體流量調(diào)整裝置，其設(shè)在上述氣體供給部的非活性氣體供給源上，用于調(diào)整非活性氣體的流量；氣體流量調(diào)整裝置，其設(shè)在上述氣體配管C上，用于調(diào)整從上述緩沖罐供給到上述半導(dǎo)體處理裝置的氣體流量；監(jiān)視裝置，其用于測(cè)量上述混合氣體中的氟濃度，根據(jù)所測(cè)量到的氟濃度調(diào)整用于對(duì)上述非活性氣體的流量進(jìn)行調(diào)整的流量計(jì)量裝置從而維持規(guī)定的氟濃度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于， 上述監(jiān)視裝置包括在線式分析器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于， 上述監(jiān)視裝置包括紫外可見分光光度計(jì)(UV-Vis)。
全文摘要
本發(fā)明的課題在于提供一種能夠以穩(wěn)定、大量且具有精確的濃度的狀態(tài)將由氟氣產(chǎn)生裝置產(chǎn)生的氟氣供給到半導(dǎo)體處理裝置的氟氣的當(dāng)場(chǎng)氣體混合及稀釋系統(tǒng)。該氟氣的供給系統(tǒng)具有下述結(jié)構(gòu)，即，將儲(chǔ)存在緩沖罐內(nèi)的混合氣體導(dǎo)入到在進(jìn)行緩沖罐內(nèi)調(diào)整混合氣體前的導(dǎo)入氣體的氣體導(dǎo)入配管，使混合氣體循環(huán)，此外，設(shè)有用于測(cè)量混合氣體中的氟濃度的監(jiān)視裝置，能夠根據(jù)獲得的氟濃度而調(diào)整非活性氣體供給源的流量。
文檔編號(hào)C01B7/20GK102369591SQ20108001466
公開日2012年3月7日 申請(qǐng)日期2010年2月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月3日
發(fā)明者中原啟太, 八尾章史, 宮崎達(dá)夫, 毛利勇, 菊池亞紀(jì)應(yīng) 申請(qǐng)人:中央硝子株式會(huì)社