一種陶瓷件的3d弧面的拋光工藝及其裝置的制造方法
【專利摘要】一種陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，A、將需要進行弧面拋光的產(chǎn)品夾裝在夾具上，使得產(chǎn)品待拋光面露在外側(cè)，并將拋光皮帶安裝在可調(diào)節(jié)皮帶水平位置和垂直位置的機器上；B、通過機器調(diào)節(jié)拋光皮帶與產(chǎn)品待拋光面的位置，使得拋光皮帶壓緊在產(chǎn)品待拋光面上并且與產(chǎn)品待拋光面的弧面完全接觸；C、在產(chǎn)品和拋光皮帶接觸面之間噴入拋光液，控制拋光皮帶轉(zhuǎn)動對產(chǎn)品待拋光面進行拋光。本裝置包括夾具和拋光皮帶，本發(fā)明可以滿足陶瓷結(jié)構(gòu)件拋光的表面粗糙度的加工要求、對于弧面上得孔位不會造成過拋、工藝簡單、對弧面上得砂輪線、刀印等缺陷能良好去除、能有效提高加工良率，節(jié)約生產(chǎn)成本。
【專利說明】
一種陶瓷件的3D弧面的拋光工藝及其裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本發(fā)明涉及一種陶瓷件的3D弧面的拋光工藝及其裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]陶瓷是一種集優(yōu)良物理性能和化學性能于一體的多功能氧化物晶體，硬度僅次于金剛石達到莫氏9級，同時陶瓷致密性使其具有較大的表面張力，上述特性十分適用于手機、手表、相機等電子產(chǎn)品結(jié)構(gòu)件。
[0003]為了滿足陶瓷光學器件發(fā)展的要求，獲得高平整、高亮度的表面，須對陶瓷進行化學機械拋光，以減少或消除在對陶瓷切割、研磨等工序中對陶瓷面板的劃傷，獲得高平整度、高亮度的產(chǎn)品。
[0004]目前對以陶瓷為材料的結(jié)構(gòu)件的拋光處理工藝，均采用常規(guī)的平面拋光或者異型拋光工藝。平面拋光一般使用大張拋光革、阻尼布或者3D磨皮對產(chǎn)品平面進行單面或者雙面加工。這種工藝有只能對2D面進行拋光加工的局限性，對2.和3D面加工效果差;對2.5D和3D面異形拋光一般使用毛刷對異性面(一般式2.5D面或者3D面)進行掃磨加工，但是由于毛刷與弧形面接觸為點接觸，這種工藝會有以下缺點:1.加工弧面上有孔位的產(chǎn)品時，會對孔位造成過拋;2.對弧面不同位置去除量不一致，造成產(chǎn)品輪廓度變形。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)的不足而提供了一種可以滿足陶瓷結(jié)構(gòu)件拋光的表面粗糙度的加工要求、對于弧面上得孔位不會造成過拋、工藝簡單、對弧面上得砂輪線、刀印等缺陷能良好去除、能有效提高加工良率，節(jié)約生產(chǎn)成本的一種陶瓷件的3D弧面的拋光工藝及其裝置。
[0006]本發(fā)明采用如下技術(shù)方案實現(xiàn):一種陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，包括如下步驟:
[0007]A、將需要進行弧面拋光的產(chǎn)品夾裝在夾具上，使得產(chǎn)品待拋光面露在外側(cè)，并將拋光皮帶安裝在可調(diào)節(jié)皮帶水平位置和垂直位置的機器上；
[0008]B、通過機器調(diào)節(jié)拋光皮帶與產(chǎn)品待拋光面的位置，使得拋光皮帶壓緊在產(chǎn)品待拋光面上并且與產(chǎn)品待拋光面的弧面完全接觸；
[0009 ] C、在產(chǎn)品和拋光皮帶接觸面之間噴入拋光液，控制拋光皮帶轉(zhuǎn)動對產(chǎn)品待拋光面進行拋光。
[0010]所述拋光皮帶的硬度大于洛氏硬度80HRC。
[0011 ]所述夾具可帶動產(chǎn)品旋轉(zhuǎn)。
[0012]所述拋光液為鉆石拋光液。
[0013]所述拋光液中的鉆石微粉的粒徑為3?5um。
[0014]所述步驟C中，拋光溫度控制在35_50°C之間。
[0015]—種陶瓷件的3D弧面的拋光裝置，包括夾具和拋光皮帶，所述拋光皮帶依次繞過上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸后安裝在皮帶驅(qū)動輥上，所述拋光皮帶通過皮帶驅(qū)動輥驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，所述夾具夾持后的產(chǎn)品設(shè)置在上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸之間，并且所述產(chǎn)品的待拋光面與上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸之間的拋光皮帶接觸，所述皮帶上設(shè)有用于控制皮帶張緊度的壓緊輪，所述上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸分別通過三軸向運動機構(gòu)安裝在機架上。
[0016]所述皮帶驅(qū)動輥通過直線運動機構(gòu)安裝在機架上，所述直線運動機構(gòu)帶動皮帶驅(qū)動輥張緊皮帶。
[0017]所述夾具通過旋轉(zhuǎn)盤安裝在機架上，所述旋轉(zhuǎn)盤帶動夾具的產(chǎn)品繞中心旋轉(zhuǎn)。
[0018]所述壓緊輪通過控制電機帶動沿垂直方向移動，所述控制電機通過限位螺絲對電機在垂直方向上的位移量進行限位。
[0019]由于采用上述結(jié)構(gòu)，本發(fā)明具有以下優(yōu)點:1.拋光時拋光皮帶與產(chǎn)品為面與面接觸，保證拋光時，拋光皮帶更好的跟拋光面完全接觸，保證拋光的效果，通過調(diào)節(jié)拋光皮帶與產(chǎn)品待拋光面的位置關(guān)系以及拋光皮帶的張緊度，從而根據(jù)產(chǎn)品拋光效果的需求控制拋光壓力，由于拋光皮帶的硬度大于80，在拋光時能有效的保護弧面上的孔特征不被拋塌;采用粒徑為3?5um的鉆石液，對弧面的去除速率能達到0.01mm/min，能快速有效的修復弧面不良，得到高亮度的產(chǎn)品，拋光溫度控制在35-50°C之間，能有效地保證拋光皮帶的使用壽命O
【附圖說明】
[0020]圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0021]以下結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明做進一步的說明。
[0022]如圖1所示，一種陶瓷件的3D弧面的拋光裝置，包括夾具5和拋光皮帶7，所述拋光皮帶7依次繞過上側(cè)支撐軸2和下側(cè)支撐軸3后安裝在皮帶驅(qū)動輥I上，所述拋光皮帶通過皮帶驅(qū)動輥I驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，所述夾具5夾持后的產(chǎn)品6設(shè)置在上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸之間，并且所述產(chǎn)品6的待拋光面與上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸之間的拋光皮帶接觸，所述皮帶7上設(shè)有用于控制皮帶張緊度的壓緊輪4，所述上側(cè)支撐軸2和下側(cè)支撐軸3分別通過三軸向運動機構(gòu)安裝在機架上。所述皮帶驅(qū)動輥I通過直線運動機構(gòu)安裝在機架上，所述直線運動機構(gòu)帶動皮帶驅(qū)動輥I張緊皮帶。所述夾具通過旋轉(zhuǎn)盤安裝在機架上，所述旋轉(zhuǎn)盤帶動夾具的產(chǎn)品繞中心旋轉(zhuǎn)。所述壓緊輪4通過控制電機帶動沿垂直方向移動，所述控制電機通過限位螺絲對電機在垂直方向上的位移量進行限位。
[0023]具體的拋光工藝包括如下步驟:
[0024]A、將需要進行弧面拋光的產(chǎn)品夾裝在夾具5上，夾具5可帶動產(chǎn)品旋轉(zhuǎn)，使得產(chǎn)品待拋光面露在外側(cè)，選擇硬度大于洛氏硬度80HRC的拋光皮帶，并將拋光皮帶安裝在可調(diào)節(jié)皮帶水平位置和垂直位置的機器上；
[0025]B、通過機器調(diào)節(jié)拋光皮帶與產(chǎn)品待拋光面的位置，使得拋光皮帶壓緊在產(chǎn)品待拋光面上并且與產(chǎn)品待拋光面的弧面完全接觸；
[0026]C、在產(chǎn)品和拋光皮帶接觸面之間噴入鉆石微粉的粒徑為3?5um的鉆石拋光液，控制拋光皮帶轉(zhuǎn)動對產(chǎn)品待拋光面進行拋光。
[0027]通過增大或者減小上側(cè)支撐桿和下側(cè)支撐桿的間距調(diào)節(jié)皮帶的負載值，負載值還與產(chǎn)品弧面半徑大小、皮帶傳送速度和皮帶材質(zhì)的摩擦系數(shù)成單變量正比的非線性關(guān)系，如果其余參數(shù)不變，半徑越大，負載值將會越大;皮帶傳送速度越大，負載值將會越大;皮帶材質(zhì)的摩擦系數(shù)越大，負載值將會越大，反之，則越小。按照本實施例中的拋光工藝獲得的帶3D弧面的陶瓷工件，砂輪線和刀印去除率為95%以上，并且粗糙度為20nm以下。
【主權(quán)項】
1.一種陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，其特征在于:包括如下步驟: A、將需要進行弧面拋光的產(chǎn)品夾裝在夾具上，使得產(chǎn)品待拋光面露在外側(cè)，并將拋光皮帶安裝在可調(diào)節(jié)皮帶水平位置和垂直位置的機器上； B、通過機器調(diào)節(jié)拋光皮帶與產(chǎn)品待拋光面的位置，使得拋光皮帶壓緊在產(chǎn)品待拋光面上并且與產(chǎn)品待拋光面的弧面完全接觸； C、在產(chǎn)品和拋光皮帶接觸面之間噴入拋光液，控制拋光皮帶轉(zhuǎn)動對產(chǎn)品待拋光面進行拋光。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，其特征在于:所述拋光皮帶的硬度大于洛氏硬度80HRC。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，其特征在于:所述夾具可帶動產(chǎn)品旋轉(zhuǎn)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，其特征在于:所述拋光液為鉆石拋光液。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，其特征在于:所述拋光液中的鉆石微粉的粒徑為3?5um06.根據(jù)權(quán)利要求1至5之一所述的陶瓷件的3D弧面的拋光工藝，其特征在于:所述步驟C中，拋光溫度控制在35-50°C之間。7.—種陶瓷件的3D弧面的拋光裝置，應用于權(quán)利要求1至5之一所述的拋光工藝，其特征在于:包括夾具(5)和拋光皮帶(7)，所述拋光皮帶(7)依次繞過上側(cè)支撐軸(2)和下側(cè)支撐軸(3)后安裝在皮帶驅(qū)動輥(I)上，所述拋光皮帶通過皮帶驅(qū)動輥(I)驅(qū)動旋轉(zhuǎn)，所述夾具(5)夾持后的產(chǎn)品(6)設(shè)置在上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸之間，并且所述產(chǎn)品(6)的待拋光面與上側(cè)支撐軸和下側(cè)支撐軸之間的拋光皮帶接觸，所述皮帶(7)上設(shè)有用于控制皮帶張緊度的壓緊輪(4)，所述上側(cè)支撐軸(2)和下側(cè)支撐軸(3)分別通過三軸向運動機構(gòu)安裝在機架上。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陶瓷件的3D弧面的拋光裝置，其特征在于:所述皮帶驅(qū)動輥(I)通過直線運動機構(gòu)安裝在機架上，所述直線運動機構(gòu)帶動皮帶驅(qū)動輥(I)張緊皮帶。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的陶瓷件的3D弧面的拋光裝置，其特征在于:所述夾具通過旋轉(zhuǎn)盤安裝在機架上，所述旋轉(zhuǎn)盤帶動夾具的產(chǎn)品繞中心旋轉(zhuǎn)。10.根據(jù)權(quán)利要求7至9之一所述的陶瓷件的3D弧面的拋光裝置，其特征在于:所述壓緊輪(4)通過控制電機帶動沿垂直方向移動，所述控制電機通過限位螺絲對電機在垂直方向上的位移量進行限位。
【文檔編號】B24B21/16GK106078469SQ201610622624
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年8月1日 公開號201610622624.6, CN 106078469 A, CN 106078469A, CN 201610622624, CN-A-106078469, CN106078469 A, CN106078469A, CN201610622624, CN201610622624.6
【發(fā)明人】周群飛, 饒橋兵, 周寧
【申請人】藍思科技（長沙）有限公司