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氧化鋯超薄片拋光裝置的制造方法

文檔序號(hào):9020873閱讀:663來源:國知局
氧化鋯超薄片拋光裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種氧化鋯超薄片拋光裝置以及拋 光方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 由于陶瓷指紋識(shí)別片要求的厚度一般在0.1 mm以內(nèi),厚度越薄,效果越好,而市場 上現(xiàn)在的拋光機(jī)均采用單面研磨工藝,且由于其結(jié)構(gòu)以及壓力、轉(zhuǎn)速等參數(shù)的設(shè)置,均只能 加工厚度為〇. 2_以上的產(chǎn)品,而若單純地對(duì)工件施加壓力,又會(huì)造成工件的斷裂,因此對(duì) 要求超薄的陶瓷片來說,現(xiàn)有的拋光機(jī)無法達(dá)到需要的厚度;且現(xiàn)在的拋光機(jī)由于其結(jié)構(gòu) 設(shè)計(jì)的問題,拋光的工件平面度經(jīng)常達(dá)不到要求,等厚度也不能控制在較低范圍;這樣拋光 的陶瓷片效果較差,重新修正則會(huì)浪費(fèi)很多時(shí)間。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 本實(shí)用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷,提供一種氧化鋯超薄片拋光 裝置,其可以加工厚度在0. 08~0. 2mm的超薄片,且平面度較好,等厚度較低。
[0004] 本實(shí)用新型還提供一種氧化鋯超薄片拋光方法。
[0005] 為了實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型的目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:
[0006] 一種氧化鋯超薄片拋光裝置,其包括轉(zhuǎn)軸、行星齒輪系、第一研磨盤、第二研磨盤、 第一壓盤、第二壓盤、第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),所述行星齒輪系由所述 轉(zhuǎn)軸驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),所述第一研磨盤設(shè)于靠近所述行星齒輪系的一面并與所述行星齒輪系平 行,所述第一壓盤與所述第一研磨盤遠(yuǎn)離所述行星齒輪系的一面連接,所述第二研磨盤與 所述行星齒輪系的另一面相接觸,所述第二壓盤與所述第二研磨盤壓緊,所述第一壓盤與 所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接,所述第一壓盤由所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)向靠近或遠(yuǎn)離所述行星齒輪系的方 向移動(dòng),所述第一研磨盤、所述第二研磨盤分別由所述第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)向 相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0007] 在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述行星齒輪系包括太陽輪以及行星輪,所述太陽輪的中 心圈與所述轉(zhuǎn)軸連接,所述行星輪分別與所述太陽輪的外齒圈以及中心圈嚙合連接,所述 第二研磨盤與所述行星輪的一面壓緊,所述第一研磨盤靠近所述行星輪的另一面設(shè)置。
[0008] 在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述行星輪與所述第一研磨盤之間的最大距離為0. 2mm。
[0009] 在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)為氣缸,所述氣缸的活塞桿與所述第一壓盤 垂直連接。
[0010] 在其中一個(gè)實(shí)施例中,所述氣缸的活塞桿上設(shè)有壓力傳感器。
[0011] 本實(shí)用新型所述氧化鋯超薄片拋光裝置,其相比現(xiàn)有技術(shù)的有益效果是:
[0012] 1)該拋光裝置采用行星輪系與第一、第二研磨盤配合在一起,采用雙面研磨工藝, 行星輪系帶動(dòng)工件轉(zhuǎn)動(dòng),第一、第二研磨盤給予工件施加壓力,工件產(chǎn)生自轉(zhuǎn);研磨方法中, 合理設(shè)置研磨的壓力、轉(zhuǎn)速等參數(shù),并采用二次研磨的方法,最終研磨出0. 08~0. 2mm的超 薄片,克服了傳統(tǒng)工藝只能研磨出0. 2mm以上的薄片,符合陶瓷指紋識(shí)別片的薄度要求;對(duì) 工件的施加壓力控制在合理范圍,,且工件本身自轉(zhuǎn)又減少了工件斷裂的產(chǎn)生,
[0013] 2)采用第一、第二研磨盤相對(duì)且相反方向轉(zhuǎn)動(dòng),因工件兩面都施加相等壓力,加工 的工件平面度較好,解決了現(xiàn)有的工件加工出的平面度差的問題;采用雙面研磨還解決了 等厚度的問題,使得工件的等厚度控制在〇. Olmm以內(nèi)。
【附圖說明】
[0014] 圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例所述氧化鋯超薄片拋光裝置的剖面圖。
【具體實(shí)施方式】
[0015] 為能進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的特征、技術(shù)手段以及所達(dá)到的具體目的、功能,下面 結(jié)合【具體實(shí)施方式】以及附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0016] 實(shí)施例:
[0017] 參照圖1,本實(shí)用新型所述的氧化鋯超薄片拋光裝置,其包括轉(zhuǎn)軸10、行星齒輪系 30、第一研磨盤40、第二研磨盤50、第一壓盤60、第二壓盤80以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70,行星齒輪系 30由轉(zhuǎn)軸10帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),轉(zhuǎn)軸10由電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),具體是該行星齒輪系30的中心與轉(zhuǎn)軸10 連接,當(dāng)轉(zhuǎn)軸10在電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),行星齒輪系30也由轉(zhuǎn)軸10帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0018] 第二研磨盤50設(shè)于行星齒輪系30的一面,并與行星齒輪系30的該面相接觸,第 二壓盤80與第二研磨盤50壓緊,第二研磨盤50由第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)(圖中未示出)帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng), 第二壓盤80的作用是給第二研磨盤50壓力。第一研磨盤40設(shè)于靠近行星齒輪系30的另 一面處,并與行星齒輪系30平行設(shè)置,且工作時(shí)第一研磨盤40與行星齒輪系30的該面具 有0. 2mm以下的距離(即最大距離為0. 2mm),第一壓盤60與第一研磨盤40遠(yuǎn)離行星齒輪 系30的一面連接,第一壓盤60與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70連接,由驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70帶動(dòng)向靠近或遠(yuǎn)離所述 行星齒輪系30的方向移動(dòng),第一壓盤60的作用是壓緊第一研磨盤40。要加工的工件100 設(shè)于該行星齒輪系30上,第一壓盤60帶動(dòng)第一研磨盤40朝向行星齒輪系30移動(dòng),壓緊工 件100,第一研磨盤40在第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)的帶動(dòng)下轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0019] 該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70優(yōu)選為氣缸,氣缸70的活塞桿與第一壓盤60垂直連接,使得氣缸 70的活動(dòng)可準(zhǔn)確地驅(qū)動(dòng)第一壓盤60平行地朝向行星齒輪系30的方向移動(dòng),使得第一壓盤 60可帶動(dòng)第一研磨盤40向工件100移動(dòng),并壓緊在工件100的一面,從而第一研磨盤40可 以對(duì)工件100進(jìn)行打磨拋光。
[0020] 該行星齒輪系30包括太陽輪302以及行星輪304,太陽輪302的中心圈306與轉(zhuǎn) 軸10連接,行星輪304分別與太陽輪302的外齒圈308以及中心圈306嚙合連接,第二研 磨盤50與行星輪304的一面相接觸,第一研磨盤40靠近行星輪304的另一面設(shè)置,并與行 星輪304平行。
[0021] 為實(shí)時(shí)監(jiān)控氣缸給予第一壓盤60以及工件100的壓力,在氣缸70的活塞桿上設(shè) 有壓力傳感器702,實(shí)時(shí)監(jiān)控氣缸70施加于第一壓盤60的壓力,防止壓力過大而對(duì)工件 100造成損壞。
[0022] 該裝置可加工的工件厚度在0. 08~0. 2mm,因此第一研磨盤40與行星齒輪系30 之間的距離為0. 08~0. 2mm之間。
[0023] 該裝置工作時(shí),將厚度0. 2mm~0. 3mm的工件100置于厚度0. 15mm的行星齒輪系 上;驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70帶動(dòng)第一壓盤60向工件100移動(dòng),第一壓盤60帶動(dòng)第一研磨盤40壓緊工 件100,第一研磨盤40對(duì)工件100的壓力控制在23~27kg ;工件100由行星齒輪系30帶 動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),行星齒輪系30的轉(zhuǎn)軸10轉(zhuǎn)速控制在12~16r/min ;第一研磨盤40、第二研磨盤 50以相反的方向相對(duì)運(yùn)動(dòng),第一研磨盤40、第二研磨盤50的轉(zhuǎn)速控制在18~22r/min ;工 件100在第一研磨盤40、第二研磨盤50的壓力下自轉(zhuǎn),工件100的轉(zhuǎn)速控制在28~32r/ min ;預(yù)設(shè)時(shí)間(此處預(yù)設(shè)時(shí)間為20~30min)后,工件100拋光成厚度為0. 13~0. 18mm 的薄片;再將上述厚度為〇. 13~0. 18mm的工件100置于厚度0. 08mm的行星齒輪系30上, 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)70帶動(dòng)第一壓盤60向工件100移動(dòng),第一研磨盤40壓緊該工件100,第一研磨 盤40對(duì)該工件100的壓力控制在23~27kg,工件100由行星齒輪系30帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),行星齒 輪系30的轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)速控制在12~16r/min,第一研磨盤40、第二研磨盤50以相反的方向相 對(duì)運(yùn)動(dòng),第一研磨盤40、第二研磨盤50的轉(zhuǎn)速控制在18~22r/min,工件100在第一研磨 盤40、第二研磨盤50的壓力下自轉(zhuǎn),工件100轉(zhuǎn)速控制在28~32r/min,預(yù)設(shè)時(shí)間(此處 預(yù)設(shè)時(shí)間為20~30min)后,所述工件100拋光成厚度為0. 08~0. 12mm的超薄片,由此, 該裝置可加工出〇. 08-0. 2以下的超薄片。
[0024] 經(jīng)過上述裝置拋光后,得到的工件100拋光參數(shù)如下表。
[0025]
[0026] 以上所述實(shí)施例僅表達(dá)了本實(shí)用新型的幾種實(shí)施方式,其描述較為具體和詳細(xì), 但并不能因此而理解為對(duì)本實(shí)用新型專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是,對(duì)于本領(lǐng)域的普通 技術(shù)人員來說,在不脫離本實(shí)用新型構(gòu)思的前提下,還可以做出若干變形和改進(jìn),這些都屬 于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。因此,本實(shí)用新型專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種氧化鋯超薄片拋光裝置,其特征在于:包括轉(zhuǎn)軸(10)、行星齒輪系(30)、第一 研磨盤(40)、第二研磨盤(50)、第一壓盤(60)、第二壓盤(80)、第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第二驅(qū)動(dòng)電 機(jī)以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(70),所述行星齒輪系(30)由所述轉(zhuǎn)軸(10)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),所述第一研磨盤 (40)設(shè)于靠近所述行星齒輪系(30)的一面并與所述行星齒輪系(30)平行,所述第一壓 盤(60)與所述第一研磨盤(40)遠(yuǎn)離所述行星齒輪系(30)的一面連接,所述第二研磨盤 (50)與所述行星齒輪系(30)的另一面相接觸,所述第二壓盤(80)與所述第二研磨盤(50) 壓緊,所述第一壓盤(60)與所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(70)連接,所述第一壓盤(60)由所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu) (70)帶動(dòng)向靠近或遠(yuǎn)離所述行星齒輪系(30)的方向移動(dòng),所述第一研磨盤(40)、所述第二 研磨盤(50)分別由所述第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)向相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯超薄片拋光裝置,其特征在于:所述行星齒輪系(30) 包括太陽輪(302)以及行星輪(304),所述太陽輪(302)的中心圈(306)與所述轉(zhuǎn)軸(10) 連接,所述行星輪(304)分別與所述太陽輪(302)的外齒圈(308)以及中心圈(306)嚙合 連接,所述第二研磨盤(50)與所述行星輪(304)的一面壓緊,所述第一研磨盤(40)靠近所 述行星輪(304)的另一面設(shè)置。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的氧化鋯超薄片拋光裝置,其特征在于:所述行星輪(304)與 所述第一研磨盤(40)之間的最大距離為0.2mm。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的氧化鋯超薄片拋光裝置,其特征在于:所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(70)為 氣缸,所述氣缸的活塞桿與所述第一壓盤(60)垂直連接。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的氧化鋯超薄片拋光裝置,其特征在于:所述氣缸的活塞桿上 設(shè)有壓力傳感器(702)。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及拋光設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及拋光裝置,包括轉(zhuǎn)軸、行星齒輪系、第一研磨盤、第二研磨盤、第一壓盤、第二壓盤、第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)以及驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu),行星齒輪系由轉(zhuǎn)軸驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng),第一研磨盤設(shè)于靠近行星齒輪系的一面并與行星齒輪系平行,第一壓盤與所述第一研磨盤遠(yuǎn)離行星齒輪系的一面連接,第二研磨盤與行星齒輪系的另一面相接觸,第二壓盤與第二研磨盤壓緊,第一壓盤與驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)連接,第一壓盤由驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)帶動(dòng)向靠近或遠(yuǎn)離行星齒輪系的方向移動(dòng),第一研磨盤、第二研磨盤分別由第一驅(qū)動(dòng)電機(jī)、第二驅(qū)動(dòng)電機(jī)驅(qū)動(dòng)向相反方向轉(zhuǎn)動(dòng)。本實(shí)用新型拋光裝置可以加工厚度在0.08mm-0.2mm的超薄片,且平面度好,等厚度低。
【IPC分類】B24B37/08
【公開號(hào)】CN204673451
【申請?zhí)枴緾N201520369794
【發(fā)明人】黃光榮, 王文利, 袁水發(fā), 孫亮, 彭朝陽
【申請人】東莞信柏結(jié)構(gòu)陶瓷有限公司
【公開日】2015年9月30日
【申請日】2015年6月1日
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