0的運動軌跡，并使得磁體10的運動軌跡在待濺射的靶材上均勻分布，優(yōu)選地，可以將定齒輪件32與驅動軸20同心設置。
[0040]為了使磁體10的運動軌跡可以覆蓋整個靶材40，優(yōu)選地，動外齒輪31的半徑R1、磁體10的半徑R2、磁體10的中心軸線至動外齒輪31的外緣之間的距離D2以及動外齒輪31的中心軸線至磁體10的中心軸線之間的距離Dl之和等于靶材40的半徑R，即R=R1+D1+D2+R2。
[0041]優(yōu)選地，定齒輪件32的齒數N2與動外齒輪31的齒數NI之比不是整數，因此，在動外齒輪31與定齒輪件32嚙合移動時，磁體10的軌跡不會重疊，從而可以使得磁體10的軌跡覆蓋靶材40上更多的區(qū)域。并且，定齒輪件32的齒數N2與動外齒輪31的齒數NI之比不是整數的優(yōu)點還在于，可以避免定齒輪件32的輪齒與動外齒輪31的輪齒之間產生周期性的撞擊，從而可以避免定齒輪件32的輪齒與動外齒輪31的輪齒疲勞斷裂。
[0042]為了使磁體10的軌跡均勻地覆蓋靶材40，優(yōu)選地，可以將定齒輪件32的齒數N2與動外齒輪31的齒數NI之比設置在0.75至2.5之間。S卩，0.75 < N2:N1 < 2.5。
[0043]進一步優(yōu)選地，可以將定齒輪件32的齒數與動外齒輪31的齒數之比在0.75至I之間。即，0.75 < N2:N1 < I。
[0044]為了使磁體10的軌跡覆蓋靶材40上更多的區(qū)域，動外齒輪31的齒數應當盡可能的多。動外齒輪31的齒數越多，每嚙合一次動外齒輪31繞自身軸線轉過的角度越小，從而可以使磁體10覆蓋靶材40上更多的區(qū)域。通常，動外齒輪31的齒數不小于11。
[0045]圖2至圖4分別展示了定齒輪件32的齒數N2與動外齒輪31的齒數NI之比為11:13、13:17和17:21時，磁體的運動軌跡。從圖上可以得知，動外齒輪的齒數越多，磁體10的軌跡線越密集，磁體10覆蓋的靶材40上的區(qū)域越多。
[0046]為了確保在驅動軸20轉動時，定齒輪件32相對于待濺射的靶材40保持靜止，優(yōu)選地，控制機構30還可以包括套設在驅動軸20上的滾動軸承33，定齒輪件32套設在滾動軸承33的外圈上。在驅動軸20轉動時，驅動軸20帶動滾動軸承33的內圈轉動，而滾動軸承33的外圈和定齒輪件32依靠自身的重力保持靜止。為了確保定齒輪件32保持靜止，還可以將定齒輪件32與濺射腔室的內壁固定連接。
[0047]在本發(fā)明中，由于定齒輪件32與驅動軸20同軸設置，為了確保在驅動軸20轉動時整個磁控組件保持平衡，優(yōu)選地，控制機構30還可以包括第一連接板34和第一配重35，該第一連接板34與驅動軸20相連，第一配重35和磁體10分別設置在第一連接板34的兩端。
[0048]為了擴大磁體10的運動范圍，優(yōu)選地，可以加大磁體10的中心軸線與動外齒輪31的中心軸線之間的距離，為了保持轉動中的平衡，優(yōu)選地，控制機構30還可以包括第二連接板36和第二配重37，第二連接板36與第一連接板34相連，第二配重37設置在第二連接板36上靠近第一配重35的一端，磁體10設置在第二連接板36上與第二配重37相對的一端。
[0049]作為本發(fā)明的另一個方面，如圖1所示，提供一種磁控濺射設備，該磁控濺射設備包括磁控組件和用于設置待濺射的靶材40的濺射腔室50，其中，所述磁控組件為本發(fā)明所提供的上述磁控組件，驅動軸20插入所述濺射腔中，控制機構30和磁體10位于濺射腔室50內。
[0050]本發(fā)明所提供的磁控組件結構可以使得磁體10的軌跡覆蓋靶材40的大部分區(qū)域，從而可以提供靶材40的利用率。并且磁控組件結構簡單，操作方便，可以總體降低所述磁控濺射設備的成本。
[0051]本領域技術人員容易理解的是，如圖1所示，所述磁控濺射設備包括承載晶片的卡盤。
[0052]可以理解的是，以上實施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領域內的普通技術人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實質的情況下，可以做出各種變型和改進，這些變型和改進也視為本發(fā)明的保護范圍。
【主權項】
1.一種磁控組件，該磁控組件包括磁體和驅動軸和控制機構，所述控制機構與所述驅動軸相連，所述磁體設置在所述控制機構上，其特征在于，所述控制機構包括動外齒輪和定齒輪件，所述定齒輪件能夠相對于待濺射靶材固定設置，所述動外齒輪的輪齒與所述定齒輪件的輪齒嚙合，且所述動外齒輪與所述驅動軸相連，所述磁體與所述動外齒輪相連，以在所述動外齒輪的帶動下在所述靶材的上方移動。
2.根據權利要求1所述的磁控組件，其特征在于，所述定齒輪件為外齒輪。
3.根據權利要求2所述的磁控組件，其特征在于，所述定齒輪件與所述驅動軸同心設置。
4.根據權利要求3所述的磁控組件，其特征在于，所述磁體的半徑、所述磁體的中心軸線至所述動外齒輪的外緣之間的距離所述動外齒輪的半徑以及所述動外齒輪的中心軸線至所述磁體的中心軸線之間的距離之和等于所述靶材的半徑。
5.根據權利要求4所述的磁控組件，其特征在于，所述定齒輪件的齒數與所述動外齒輪的齒數之比不是整數。
6.根據權利要求5所述的磁控組件，其特征在于，所述定齒輪件的齒數與所述動外齒輪的齒數之比在0.75至2.5之間。
7.根據權利要求6所述的磁控組件，其特征在于，所述定齒輪件的齒數與所述動外齒輪的齒數之比在0.75至I之間。
8.根據權利要求6所述的磁控組件，其特征在于，所述動外齒輪的齒數不小于11。
9.根據權利要求3至8中任意一項所述的磁控組件，其特征在于，所述控制機構還包括套設在所述驅動軸上的滾動軸承，所述定齒輪件套設在所述滾動軸承的外圈上。
10.根據權利要求9所述的磁控組件，其特征在于，所述控制機構還包括第一連接板和第一配重，該第一連接板與所述驅動軸相連，所述第一配重和所述磁體分別設置在所述第一連接板的兩端。
11.根據權利要求10所述的磁控組件，其特征在于，所述控制機構還包括第二連接板和第二配重，所述第二連接板與所述第一連接板相連，所述第二配重設置在所述第二連接板上靠近所述第一配重的一端，所述磁體設置在所述第二連接板上與所述第二配重相對的一端。
12.一種磁控濺射設備，該磁控濺射設備包括磁控組件和用于設置待濺射的靶材的濺射腔室，其特征在于，所述磁控組件為權利要求1至11中任意一項所述的磁控組件，所述驅動軸插入所述濺射腔中，所述控制機構和所述磁體位于所述濺射腔室內。
【專利摘要】一種磁控組件，該磁控組件包括磁體和驅動軸和控制機構，所述控制機構與所述驅動軸相連，所述磁體設置在所述控制機構上，所述控制機構包括動外齒輪和定齒輪件，所述定齒輪件能夠相對于待濺射靶材固定設置，所述動外齒輪的輪齒與所述定齒輪件的輪齒嚙合，且所述動外齒輪與所述驅動軸相連，所述磁體與所述動外齒輪相連，以在所述動外齒輪的帶動下在所述靶材的上方移動。本發(fā)明還提供一種包括所述磁控組件的磁控濺射設備。在本發(fā)明中，通過定齒輪件和動外齒輪的嚙合可以使磁體既繞驅動軸的中心軸線轉動，又繞動外齒輪的中心軸線轉動，從而可實現磁體的運動軌跡覆蓋靶材的大部分區(qū)域。并且，本發(fā)明所提供的磁控組件結構簡單。
【IPC分類】C23C14-35
【公開號】CN104746027
【申請?zhí)枴緾N201310739572
【發(fā)明人】李楊超
【申請人】北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
【公開日】2015年7月1日
【申請日】2013年12月29日