技術(shù)編號(hào)：8426265
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。濺射是指荷能粒子(例如氬離子)轟擊固體表面，引起表面各種粒子，如原子、分子或團(tuán)束從該物體表面逸出的現(xiàn)象。在磁控濺射裝置中，等離子體產(chǎn)生于腔室中，等離子體的正離子被陰極負(fù)電所吸引，轟擊腔室中的靶材，撞出靶材的原子，并沉積到襯底上。為了改善濺射的效果，在靶材附近使用了磁鐵，該磁鐵可以迫使等離子中的電子按照一定的軌道運(yùn)動(dòng)，以增加電子的運(yùn)動(dòng)時(shí)間，從而增加了電子和待電離的氣體的碰撞的機(jī)會(huì)，進(jìn)而得到高密度的等離子體，并提供高的沉積速率。CNlO 187832IA中公開...
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