本發(fā)明涉及沉積設(shè)備，具體為一種氣相沉積系統(tǒng)及氣相沉積設(shè)備的承載組件。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)氣相沉積（chemical?vapor?deposition，簡稱cvd）反應(yīng)設(shè)備或原子層沉積（atomic?layer?deposition，簡稱ald）反應(yīng)設(shè)備在沉積時轉(zhuǎn)動放置有加工基片的承載盤（襯底支撐組件），從而為基片提供均一的沉積效果。一種典型的氣相沉積反應(yīng)器結(jié)構(gòu)為，由反應(yīng)腔側(cè)壁環(huán)繞圍成的反應(yīng)腔，反應(yīng)腔內(nèi)包括軸結(jié)構(gòu)，安放有基片的基片托盤安裝在軸結(jié)構(gòu)的頂端。反應(yīng)腔頂部包括氣體噴淋頭，用于將反應(yīng)氣體從反應(yīng)氣體源均勻注入反應(yīng)腔，實現(xiàn)對基片的加工處理，反應(yīng)腔下方還包括一個抽氣裝置以控制反應(yīng)腔內(nèi)部氣壓并抽走反應(yīng)過程中產(chǎn)生的廢氣。

2、例如公告號為cn118048623a的中國發(fā)明專利公開了一種氣相沉積設(shè)備的承載組件及氣相沉積設(shè)備，具體包括：能夠接收射頻輻射產(chǎn)生感應(yīng)電流來加熱基片的托盤主體，其上沿周向排布多個盤位用于放置基片；用于承載基片的圓盤形的子托盤，其可以活動放置于盤位上并繞子托盤的中心軸旋轉(zhuǎn)；圍繞子托盤設(shè)置有一環(huán)形臺階，其靠近子托盤的上表面配置為低于子托盤的上表面；貫穿托盤主體和環(huán)形臺階且可在高位和低位之間移動的升降銷，其上表面至少部分的位于基片下，用于在取放基片時帶動基片上下移動。

3、上述方案在實際使用時存在以下的不足之處：

4、該方案采用射頻感應(yīng)加熱器的薄膜沉積工藝，通過提高基片周圍環(huán)形臺階部件的體積，來增加射頻能量在該環(huán)形臺階中的熱轉(zhuǎn)化率，防止基片邊緣溫度過低造成的成膜不均勻，同時，在該環(huán)形臺階中設(shè)置升降銷配合機械臂實現(xiàn)基片的取放，在實際使用時，由于多個基片位于同一個托盤主體上，雖然提升了生產(chǎn)效率，但是無法確保每個基片都能均勻地受到反應(yīng)物質(zhì)的作用，也無法避免基片之間的相互干擾。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的在于提供一種氣相沉積系統(tǒng)及氣相沉積設(shè)備的承載組件，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

3、一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，包括安裝箱體，所述安裝箱體上設(shè)置有移動板體以及用于驅(qū)動移動板體移動的氣缸一，所述移動板體的一側(cè)由下至上依次設(shè)置有下板體和上板體，所述上板體上設(shè)置有收納件、多個承載件以及用于將樣品從收納件分別轉(zhuǎn)運到多個承載件上的輸送單元，所述上板體的上表面設(shè)置有多個隔板，通過多個所述隔板將上板體分隔成多個區(qū)域，所述收納件和多個承載件分別位于不同的區(qū)域內(nèi)。

4、優(yōu)選的，所述輸送單元包括轉(zhuǎn)運殼體，所述轉(zhuǎn)運殼體內(nèi)壁的底部轉(zhuǎn)動連接有安裝盤，所述轉(zhuǎn)運殼體的一側(cè)設(shè)置有驅(qū)動安裝盤旋轉(zhuǎn)的執(zhí)行器，所述安裝盤上設(shè)置有輸送件，所述轉(zhuǎn)運殼體上開設(shè)有多個分別與多個區(qū)域連通的貫穿槽。

5、優(yōu)選的，所述輸送件包括安裝座，所述安裝座上設(shè)置有電機，所述電機的輸出軸延伸至安裝座的內(nèi)部并設(shè)置有蝸桿，所述蝸桿的兩側(cè)嚙合有蝸輪，所述蝸輪上均設(shè)置有驅(qū)動軸，所述驅(qū)動軸的頂端貫穿安裝座并連接有驅(qū)動臂，所述驅(qū)動臂的端部轉(zhuǎn)動連接有連接臂，兩個所述連接臂的端部轉(zhuǎn)動連接有連接座，所述連接座上設(shè)置有轉(zhuǎn)運板以及驅(qū)動轉(zhuǎn)運板上下運動的氣缸二。

6、優(yōu)選的，所述轉(zhuǎn)運殼體的上方設(shè)置有罩體，所述罩體的內(nèi)壁通過承載板連接有氣缸三，所述氣缸三的輸出端設(shè)置有頂盤，所述頂盤的下表面設(shè)置有多個與貫穿槽相對應(yīng)的擋板，所述轉(zhuǎn)運殼體的內(nèi)壁設(shè)置有若干與擋板相對應(yīng)的插接條。

7、優(yōu)選的，所述承載件包括氣缸四，所述氣缸四設(shè)置于下板體上，所述氣缸四的輸出端設(shè)置有升降臺，所述升降臺上設(shè)置有加熱盤以及驅(qū)動加熱盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電機，所述加熱盤內(nèi)設(shè)置有感應(yīng)線圈。

8、優(yōu)選的，所述加熱盤的上表面設(shè)置有兩個弧形放置臺一，所述弧形放置臺一的一側(cè)設(shè)置有固定塊，所述固定塊上轉(zhuǎn)動連接有鎖緊螺栓一，所述加熱盤的上表面開設(shè)有與鎖緊螺栓一相對應(yīng)的螺紋孔，所述弧形放置臺一與樣品的相抵側(cè)開設(shè)有若干通孔一。

9、優(yōu)選的，所述收納件包括氣缸五，所述氣缸五的輸出端設(shè)置有若干分隔盤，相鄰兩個分隔盤之間設(shè)置有連接件，所述分隔盤的上表面均設(shè)置有兩個弧形放置臺二，所述弧形放置臺二上轉(zhuǎn)動連接有鎖緊螺栓二，所述分隔盤上開設(shè)有若干與鎖緊螺栓二相對應(yīng)的螺紋槽。

10、一種氣相沉積系統(tǒng)，包括機座和承載組件，所述機座上表面的一側(cè)設(shè)置有控制系統(tǒng)，所述機座上表面的另一側(cè)設(shè)置有反應(yīng)系統(tǒng)，所述承載組件部分結(jié)構(gòu)位于反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)，所述機座內(nèi)設(shè)置有氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和排氣系統(tǒng)。

11、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：

12、本發(fā)明通過隔板將上板體分隔成多個區(qū)域，并在輸送單元的作用下將樣品從收納件分別轉(zhuǎn)運到多個承載件上進行沉積，能夠?qū)崿F(xiàn)對多個樣品進行分別沉積，也能夠確保每個樣品都能均勻地受到反應(yīng)物質(zhì)的作用，也避免樣品之間的相互干擾，通過設(shè)置收納件，能夠?qū)崿F(xiàn)對樣品的存儲，也能夠?qū)Τ练e完成的樣品進行放置冷卻，避免在對多個樣品進行沉積時頻繁打開箱門減少能源的消耗和氣體等資源的使用量。

技術(shù)特征：

1.一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，包括安裝箱體，其特征在于，所述安裝箱體上設(shè)置有移動板體以及用于驅(qū)動移動板體移動的氣缸一，所述移動板體的一側(cè)由下至上依次設(shè)置有下板體和上板體，所述上板體上設(shè)置有收納件、多個承載件以及用于將樣品從收納件分別轉(zhuǎn)運到多個承載件上的輸送單元，所述上板體的上表面設(shè)置有多個隔板，通過多個所述隔板將上板體分隔成多個區(qū)域，所述收納件和多個承載件分別位于不同的區(qū)域內(nèi)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，其特征在于，所述輸送單元包括轉(zhuǎn)運殼體，所述轉(zhuǎn)運殼體內(nèi)壁的底部轉(zhuǎn)動連接有安裝盤，所述轉(zhuǎn)運殼體的一側(cè)設(shè)置有驅(qū)動安裝盤旋轉(zhuǎn)的執(zhí)行器，所述安裝盤上設(shè)置有輸送件，所述轉(zhuǎn)運殼體上開設(shè)有多個分別與多個區(qū)域連通的貫穿槽。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，其特征在于，所述輸送件包括安裝座，所述安裝座上設(shè)置有電機，所述電機的輸出軸延伸至安裝座的內(nèi)部并設(shè)置有蝸桿，所述蝸桿的兩側(cè)嚙合有蝸輪，所述蝸輪上均設(shè)置有驅(qū)動軸，所述驅(qū)動軸的頂端貫穿安裝座并連接有驅(qū)動臂，所述驅(qū)動臂的端部轉(zhuǎn)動連接有連接臂，兩個所述連接臂的端部轉(zhuǎn)動連接有連接座，所述連接座上設(shè)置有轉(zhuǎn)運板以及驅(qū)動轉(zhuǎn)運板上下運動的氣缸二。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，其特征在于，所述轉(zhuǎn)運殼體的上方設(shè)置有罩體，所述罩體的內(nèi)壁通過承載板連接有氣缸三，所述氣缸三的輸出端設(shè)置有頂盤，所述頂盤的下表面設(shè)置有多個與貫穿槽相對應(yīng)的擋板，所述轉(zhuǎn)運殼體的內(nèi)壁設(shè)置有若干與擋板相對應(yīng)的插接條。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，其特征在于，所述承載件包括氣缸四，所述氣缸四設(shè)置于下板體上，所述氣缸四的輸出端設(shè)置有升降臺，所述升降臺上設(shè)置有加熱盤以及驅(qū)動加熱盤旋轉(zhuǎn)的驅(qū)動電機，所述加熱盤內(nèi)設(shè)置有感應(yīng)線圈。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，其特征在于，所述加熱盤的上表面設(shè)置有兩個弧形放置臺一，所述弧形放置臺一的一側(cè)設(shè)置有固定塊，所述固定塊上轉(zhuǎn)動連接有鎖緊螺栓一，所述加熱盤的上表面開設(shè)有與鎖緊螺栓一相對應(yīng)的螺紋孔，所述弧形放置臺一與樣品的相抵側(cè)開設(shè)有若干通孔一。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種氣相沉積設(shè)備的承載組件，其特征在于，所述收納件包括氣缸五，所述氣缸五的輸出端設(shè)置有若干分隔盤，相鄰兩個分隔盤之間設(shè)置有連接件，所述分隔盤的上表面均設(shè)置有兩個弧形放置臺二，所述弧形放置臺二上轉(zhuǎn)動連接有鎖緊螺栓二，所述分隔盤上開設(shè)有若干與鎖緊螺栓二相對應(yīng)的螺紋槽。

8.一種氣相沉積系統(tǒng)，其特征在于，包括機座和如權(quán)利要求1-7任一項所述的承載組件，所述機座上表面的一側(cè)設(shè)置有控制系統(tǒng)，所述機座上表面的另一側(cè)設(shè)置有反應(yīng)系統(tǒng)，所述承載組件部分結(jié)構(gòu)位于反應(yīng)系統(tǒng)內(nèi)，所述機座內(nèi)設(shè)置有氣路系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和排氣系統(tǒng)。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種氣相沉積系統(tǒng)及氣相沉積設(shè)備的承載組件，屬于沉積設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，包括安裝箱體，所述安裝箱體上設(shè)置有移動板體以及用于驅(qū)動移動板體移動的氣缸一，所述移動板體的一側(cè)由下至上依次設(shè)置有下板體和上板體，所述上板體上設(shè)置有收納件、多個承載件以及用于將樣品從收納件分別轉(zhuǎn)運到多個承載件上的輸送單元，所述上板體的上表面設(shè)置有多個隔板，通過多個所述隔板將上板體分隔成多個區(qū)域，所述收納件和多個承載件分別位于不同的區(qū)域內(nèi)。能夠?qū)崿F(xiàn)對多個樣品進行分別沉積，也能夠確保每個樣品都能均勻地受到反應(yīng)物質(zhì)的作用，也避免樣品之間的相互干擾。

技術(shù)研發(fā)人員：閆威省,閆省,王志龍
受保護的技術(shù)使用者：江蘇恒業(yè)半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/26