本技術(shù)涉及導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)，尤其涉及一種用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、導(dǎo)電薄膜是一種表面鍍有金屬的一種高分子材料，廣泛運用于鋰離子電池中，在鋰離子電池中主要作為電池集流體使用，它的等效載流子的自由程小，因此與同樣材料的塊體相比，薄膜的電導(dǎo)率較小，是一種優(yōu)良的鋰電池制造材料?，F(xiàn)有的導(dǎo)電薄膜生產(chǎn)方法使用最多的為真空蒸鍍工藝，真空蒸鍍是指在真空條件下，待蒸鍍材料受熱熔融蒸發(fā)，待蒸鍍材料以原子或者原子團(tuán)的形式層積在薄膜上，從而制造得到產(chǎn)品。

2、在真空蒸鍍設(shè)備內(nèi)，在蒸發(fā)槽內(nèi)設(shè)置電極，并在電極上設(shè)置蒸發(fā)舟，通過電極對蒸發(fā)舟通電，然后對蒸發(fā)舟上的蒸鍍材料進(jìn)行加熱，使其到達(dá)熔融狀態(tài)進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，工作電流大、溫度高。現(xiàn)有的設(shè)備中，一方面蒸發(fā)槽和電極的連接機(jī)構(gòu)發(fā)熱嚴(yán)重，容易導(dǎo)致電極燒損使用壽命短，從而影響鍍膜的效率和質(zhì)量的問題，且該連接機(jī)構(gòu)不易拆裝不方便蒸發(fā)舟的維修和更換；另一方面，在蒸鍍過程中部分膜料可能會掉落在蒸發(fā)槽內(nèi)，導(dǎo)致電極與蒸發(fā)槽發(fā)生短路的現(xiàn)象，使膜料的蒸發(fā)受到影響，從而影響了鍍膜效果。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有的技術(shù)在蒸鍍過程中部分膜料可能會掉落在蒸發(fā)槽內(nèi)的不足，本實用新型提供一種用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)。

2、本實用新型技術(shù)方案如下所述：

3、一種用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，包括，

4、蒸發(fā)部件，所述蒸發(fā)部件包括蒸發(fā)機(jī)架，所述蒸發(fā)機(jī)架頂部設(shè)有蒸發(fā)槽，正極座和負(fù)極座間隔固定于所述蒸發(fā)槽內(nèi)，一個所述正極座與所述負(fù)極座之間架設(shè)有一個蒸發(fā)舟，所述正極座和所述蒸發(fā)舟為多個；

5、送料部件，所述送料部件包括送絲機(jī)架和固定于所述送絲機(jī)架上的多個送絲基座、料盤，所述送絲基座上設(shè)有送絲機(jī)和導(dǎo)向管；

6、所述送絲機(jī)架設(shè)置于所述蒸發(fā)槽的一側(cè)；所述料盤、所述送絲機(jī)、所述導(dǎo)向管和所述蒸發(fā)舟對應(yīng)設(shè)置，所述料盤用于纏繞絲狀待蒸鍍膜料，待蒸鍍膜料絲穿入所述導(dǎo)向管內(nèi)后所述送絲機(jī)將絲狀待蒸鍍膜料送入所述蒸發(fā)舟內(nèi)。

7、進(jìn)一步地，在一實施例中，所述蒸發(fā)槽的底板上具有極座孔，所述正極座穿過所述極座孔固定于所述蒸發(fā)槽的底板上，所述正極座為從上到下呈直徑減小的階梯式圓臺且底端伸出到所述蒸發(fā)槽外，以方便所述正極座的通電。

8、進(jìn)一步地，在一實施例中，多個所述正極座成一行設(shè)置于所述負(fù)極座的一側(cè)，所述送料部件為一個，設(shè)置于與所述負(fù)極座長軸平行的所述蒸發(fā)槽的圍板外側(cè)。

9、進(jìn)一步地，在一實施例中，多個所述正極座成兩行分別設(shè)置于所述負(fù)極座的兩側(cè)，所述送料部件為兩個，設(shè)置于與所述負(fù)極座長軸平行的所述蒸發(fā)槽的兩個圍板的外側(cè)；

10、所述負(fù)極座上，所述蒸發(fā)舟錯位排布。

11、進(jìn)一步地，在一實施例中，所述正極座上設(shè)有第一安裝槽，所述負(fù)極座上設(shè)有多個第二安裝槽，所述蒸發(fā)舟一端置于所述第一安裝槽內(nèi)、另一端置于所述第二安裝槽內(nèi)，所述正極座和所述負(fù)極座通電后所述蒸發(fā)舟被加熱以將膜料融化。

12、進(jìn)一步地，在一實施例中，所述蒸發(fā)舟兩端與所述第一安裝槽、所述第二安裝槽的接觸面上套有石墨密封套，所述石墨密封套由石墨紙制成。

13、進(jìn)一步地，在一實施例中，所述極座孔內(nèi)設(shè)有云母絕緣套，所述云母絕緣套隔離所述蒸發(fā)槽的底板與所述正極座；

14、在所述蒸發(fā)槽內(nèi)，所述正極座上套接有上絕緣套，在所述蒸發(fā)槽外，所述正極座上套接有下絕緣套。

15、進(jìn)一步地，在一實施例中，送絲基座底部設(shè)有絕緣墊塊，所述送絲基座與所述送絲機(jī)架之間絕緣。

16、進(jìn)一步地，在一實施例中，所述正極座和所述負(fù)極座內(nèi)均設(shè)有冷卻水路。

17、進(jìn)一步地，在一實施例中，所述蒸發(fā)槽與所述負(fù)極座平行的側(cè)面圍板上設(shè)有多個u型槽，所述導(dǎo)向管為弧狀且穿過所述u型槽。

18、根據(jù)上述方案的本實用新型，其有益效果在于，通過對電極結(jié)構(gòu)正極座、蒸發(fā)舟、負(fù)極座以及蒸鍍膜料入料形式的改進(jìn)，不僅使得蒸發(fā)舟的維修和更換拆裝方便快捷，且絲狀的膜料使得膜料完全進(jìn)入蒸發(fā)舟內(nèi)不會掉落在蒸發(fā)槽內(nèi)，保證蒸發(fā)鍍膜的質(zhì)量和效率。

技術(shù)特征：

1.一種用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，包括，

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述蒸發(fā)槽的底板上具有極座孔，所述正極座穿過所述極座孔固定于所述蒸發(fā)槽的底板上，所述正極座為從上到下呈直徑減小的階梯式圓臺且底端伸出到所述蒸發(fā)槽外，以方便所述正極座的通電。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，多個所述正極座成一行設(shè)置于所述負(fù)極座的一側(cè)，所述送料部件為一個，設(shè)置于與所述負(fù)極座長軸平行的所述蒸發(fā)槽的圍板外側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，多個所述正極座成兩行分別設(shè)置于所述負(fù)極座的兩側(cè)，所述送料部件為兩個，設(shè)置于與所述負(fù)極座長軸平行的所述蒸發(fā)槽的兩個圍板的外側(cè)；

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述正極座上設(shè)有第一安裝槽，所述負(fù)極座上設(shè)有多個第二安裝槽，所述蒸發(fā)舟一端置于所述第一安裝槽內(nèi)、另一端置于所述第二安裝槽內(nèi)，所述正極座和所述負(fù)極座通電后所述蒸發(fā)舟被加熱以將膜料融化。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述蒸發(fā)舟兩端與所述第一安裝槽、所述第二安裝槽的接觸面上套有石墨密封套，所述石墨密封套由石墨紙制成。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述極座孔內(nèi)設(shè)有云母絕緣套，所述云母絕緣套隔離所述蒸發(fā)槽的底板與所述正極座；

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，送絲基座底部設(shè)有絕緣墊塊，所述送絲基座與所述送絲機(jī)架之間絕緣。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述正極座和所述負(fù)極座內(nèi)均設(shè)有冷卻水路。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述蒸發(fā)槽與所述負(fù)極座平行的側(cè)面圍板上設(shè)有多個u型槽，所述導(dǎo)向管為弧狀且穿過所述u型槽。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種用于真空蒸鍍的蒸發(fā)機(jī)構(gòu)，包括，蒸發(fā)部件，蒸發(fā)部件包括蒸發(fā)機(jī)架，蒸發(fā)機(jī)架頂部設(shè)有蒸發(fā)槽，正極座和負(fù)極座間隔固定于蒸發(fā)槽內(nèi)，一個正極座與負(fù)極座之間架設(shè)有一個蒸發(fā)舟，正極座和蒸發(fā)舟為多個；送料部件，送料部件包括送絲機(jī)架和固定于送絲機(jī)架上的多個送絲基座、料盤，送絲基座上設(shè)有送絲機(jī)和導(dǎo)向管；送絲機(jī)架設(shè)置于蒸發(fā)槽的一側(cè)；料盤、送絲機(jī)、導(dǎo)向管和蒸發(fā)舟對應(yīng)設(shè)置，料盤用于纏繞絲狀待蒸鍍膜料，待蒸鍍膜料絲穿入導(dǎo)向管內(nèi)后送絲機(jī)將絲狀待蒸鍍膜料送入蒸發(fā)舟內(nèi)。本申請防止膜料掉落可能引發(fā)的電極與蒸發(fā)槽短路的現(xiàn)象，且蒸發(fā)舟的維修和更換方便快捷，保證蒸發(fā)鍍膜的質(zhì)量和效率。

技術(shù)研發(fā)人員：臧偉,羅能鐵
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市鐳煜科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231229
技術(shù)公布日：2024/12/26