技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型公開的化學(xué)氣相沉積設(shè)備包括進(jìn)氣裝置，所述進(jìn)氣裝置包括：第一反應(yīng)氣體出氣口，其用于向所述待處理襯底輸送第一反應(yīng)氣體，和第二反應(yīng)氣體出氣口用于向所述待處理襯底輸送第二反應(yīng)氣體；隔離裝置分布在第一反應(yīng)氣體出氣口周圍，隔離裝置使得第一反應(yīng)氣體與第二反應(yīng)氣體的混合反應(yīng)在空間上實(shí)現(xiàn)局域化；兩種氣體出氣口與分布在第一反應(yīng)氣體出氣口周圍的隔離裝置一起組成最小周期結(jié)構(gòu)單元，本設(shè)備包括一個周期結(jié)構(gòu)單元或一個以上周期結(jié)構(gòu)單元；驅(qū)動裝置，其用于驅(qū)動所述待處理襯底或者驅(qū)動進(jìn)氣裝置。本實(shí)用新型通過隔離裝置設(shè)計將兩種反應(yīng)氣體的混合反應(yīng)在空間上實(shí)現(xiàn)局域化，通過進(jìn)氣裝置與襯底載具之間的相對運(yùn)動，對襯底進(jìn)行沉積處理。

技術(shù)研發(fā)人員：左敏
受保護(hù)的技術(shù)使用者：江蘇微導(dǎo)納米裝備科技有限公司
文檔號碼：201621405530
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.21
技術(shù)公布日：2017.06.16