本實(shí)用新型屬于物理真空鍍膜技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種可調(diào)控空心管靶沉積速率的擋板。

背景技術(shù)：

反應(yīng)磁控濺射是具有一定能量的離子(Ar⁺)濺射金屬或合金靶表面，被濺射出的金屬離子和反應(yīng)氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)在基體上形成化合物薄膜。相對(duì)其他濺射方法，反應(yīng)磁控濺射技術(shù)最大的優(yōu)點(diǎn)是采用了金屬靶材，且金屬靶材價(jià)格低且易于制備，適于大面積鍍膜。金屬靶材有實(shí)心靶(如長(zhǎng)方體、正方體和圓柱體靶材)、空心靶(如圓管靶材)，實(shí)心靶材濺射過(guò)程中永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場(chǎng)，并在軸間等距離的環(huán)形表面形成刻蝕區(qū)，不僅靶材的利用率僅為20-30％，更影響膜厚均勻性；空心靶材的磁鐵組件和靶材有相對(duì)旋轉(zhuǎn)，因此靶面360°都可被均勻刻蝕，沒(méi)有刻蝕槽，靶材利用率高達(dá)80％，且濺射過(guò)程更加穩(wěn)定可控。空心管靶已廣泛應(yīng)用于功能薄膜的研制中，但由于空心管靶一般尺寸較大，沉積速率非?？?，在制備某些所需厚度較小的功能膜，厚度不一的多層膜，以及不同配比的復(fù)合膜時(shí)，需要控制其沉積速率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

基于上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型提供了一種可調(diào)控空心管靶沉積速率的擋板。

一種可調(diào)控空心管靶沉積速率的擋板，固定擋板1固定在設(shè)備腔下壁3上，連桿21的下端穿過(guò)設(shè)備腔上壁4與活動(dòng)擋板2連接，且連桿21與設(shè)備腔上壁4之間為轉(zhuǎn)動(dòng)連接；固定擋板1和活動(dòng)擋板2均為半管形結(jié)構(gòu)，通過(guò)兩者相扣合，能夠?qū)⒖招墓馨型耆苍趦?nèi)部；

連桿21的上端與轉(zhuǎn)動(dòng)手柄22連接，通過(guò)轉(zhuǎn)動(dòng)手柄22控制活動(dòng)擋板2的轉(zhuǎn)動(dòng)。

所述連桿21可帶動(dòng)活動(dòng)擋板2在0～180°范圍內(nèi)自由轉(zhuǎn)動(dòng)。

一種實(shí)施方式中，所述轉(zhuǎn)動(dòng)手柄22由橫桿221、手柄222和限位片223組成；所述橫桿221的一端與連桿21的上端連接，另一端與手柄222鉸接；所述限位片223設(shè)置在手柄222上；

在設(shè)備腔上壁4的上方固定有限位盤(pán)23，在限位盤(pán)23上設(shè)有中心通孔，連桿21的下端由中心通孔穿過(guò)，然后穿過(guò)設(shè)備腔上壁4與活動(dòng)擋板2連接；所述限位盤(pán)23的邊緣沿圓周均勻分布有鋸齒；所述限位片223能夠嵌入所述鋸齒槽中，從而實(shí)現(xiàn)活動(dòng)擋板2的固定。

一種實(shí)施方式中，所述手柄222的上端為U形結(jié)構(gòu)，所述橫桿221插入所述U形結(jié)構(gòu)內(nèi)，并通過(guò)螺栓連接，使手柄222可繞橫桿221上下轉(zhuǎn)動(dòng)。

一種實(shí)施方式中，所述固定擋板1的弧度是180°；所述活動(dòng)擋板2的弧度較固定擋板1的弧度大4～8°；所述活動(dòng)擋板2的直徑較固定擋板1的直徑大10～50mm。

一種實(shí)施方式中，所述固定擋板1的內(nèi)徑大于空心管靶的外徑至少80mm。

一種實(shí)施方式中，所述連桿21通過(guò)軸承或磁力實(shí)現(xiàn)與設(shè)備腔上壁4的轉(zhuǎn)動(dòng)連接及密封。

一種實(shí)施方式中，所述固定擋板1的下方保持完整圓管結(jié)構(gòu)，并在圓管結(jié)構(gòu)的最下沿設(shè)有固定平臺(tái)，便于將其固定在設(shè)備腔下壁3上。

一種實(shí)施方式中，所述活動(dòng)擋板2的上方保持完整圓管結(jié)構(gòu)，便于其與連桿21的連接。

本實(shí)用新型的有益效果為：

本實(shí)用新型能夠方便精確地調(diào)整空心管靶的實(shí)際濺射范圍，調(diào)節(jié)薄膜沉積速率。通過(guò)活動(dòng)擋板的靈活轉(zhuǎn)動(dòng)和精確定位，可在0～180°內(nèi)任意選擇空心管靶的有效濺射范圍，實(shí)現(xiàn)薄膜的可控沉積。特別是在多靶濺射系統(tǒng)中，逐層制備多層膜時(shí)，擋板能有效降低靶材之間的污染，嚴(yán)格控制各層膜的厚度；保證鍍膜質(zhì)量。在共濺射制備兩種組分以上復(fù)合膜時(shí)，能夠方便調(diào)節(jié)復(fù)合膜的各組分比例。

附圖說(shuō)明

圖1為實(shí)施例中一種可調(diào)控空心管靶沉積速率的擋板結(jié)構(gòu)示意圖。

標(biāo)號(hào)說(shuō)明：

1-固定擋板；2-活動(dòng)擋板；21-連桿；22-轉(zhuǎn)動(dòng)手柄；221-橫桿；222-手柄；223-限位片；23-限位盤(pán)；3-設(shè)備腔下壁；4-設(shè)備腔上壁。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明。應(yīng)該強(qiáng)調(diào)的是，下述說(shuō)明僅僅是示例性的，而不是為了限制本實(shí)用新型的范圍及其應(yīng)用。

本實(shí)施例提供了一種可調(diào)控空心管靶沉積速率的擋板，其結(jié)構(gòu)如圖1所示。

固定擋板1采用1.5mm厚的不銹鋼制成，其為半管形結(jié)構(gòu)，弧度為180°，且其內(nèi)徑較空心管靶的外徑大至少80mm。固定擋板1的下方1/6的高度仍保持完整圓管結(jié)構(gòu)，并在圓管結(jié)構(gòu)的最下沿設(shè)有10mm寬度的外翻形成固定平臺(tái)。通過(guò)固定平臺(tái)將固定擋板1固定在設(shè)備腔下壁3上。

活動(dòng)擋板2同樣采用1.5mm厚的不銹鋼制成，其為半管形結(jié)構(gòu)，且其弧度較固定擋板1的弧度大5°，其直徑較固定擋板1的直徑大30mm。連桿21的下端穿過(guò)設(shè)備腔上壁4與活動(dòng)擋板2連接，所述活動(dòng)擋板2的上方保持完整圓管結(jié)構(gòu)，便于其與連桿21的連接。連桿21通過(guò)軸承實(shí)現(xiàn)與設(shè)備腔上壁4的轉(zhuǎn)動(dòng)連接和密封，在保證設(shè)備腔內(nèi)真空不受影響的情況下，連桿21能夠在設(shè)備腔上壁4上自由轉(zhuǎn)動(dòng)。

固定擋板1和活動(dòng)擋板2相扣合，能夠?qū)⒖招墓馨型耆苍趦?nèi)部空腔。通過(guò)連桿21帶動(dòng)活動(dòng)擋板2轉(zhuǎn)動(dòng)，使空心管靶有效濺射面積在0～180°任意可控。

進(jìn)一步地，連桿21的上端與轉(zhuǎn)動(dòng)手柄22連接。所述轉(zhuǎn)動(dòng)手柄22由橫桿221、手柄222和限位片223組成。手柄222的上端為U形結(jié)構(gòu)，所述橫桿221的一端插入所述U形結(jié)構(gòu)內(nèi)，并通過(guò)螺栓連接，使手柄222可繞橫桿221上下轉(zhuǎn)動(dòng)。橫桿221的另一端與連桿21的上端連接。在設(shè)備腔上壁4的上方固定有限位盤(pán)23，在限位盤(pán)23上設(shè)有中心通孔，連桿21的下端由中心通孔穿過(guò)，然后再穿過(guò)設(shè)備腔上壁4與活動(dòng)擋板2連接；在限位盤(pán)23的邊緣沿圓周均勻分布有36個(gè)鋸齒，每個(gè)鋸齒對(duì)應(yīng)5°。限位片223為一長(zhǎng)方形的薄片，其設(shè)置在手柄222上，通過(guò)將限位片223嵌入所述鋸齒槽中，能夠?qū)崿F(xiàn)活動(dòng)擋板2的固定。

使用時(shí)，轉(zhuǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)手柄22，通過(guò)連桿21帶動(dòng)活動(dòng)擋板2自由轉(zhuǎn)動(dòng)，限位盤(pán)22的一個(gè)鋸齒對(duì)應(yīng)活動(dòng)擋板轉(zhuǎn)動(dòng)5°，使空心管靶露出一定的濺射面積，然后將限位片223嵌入限位盤(pán)22的某一鋸齒槽中，固定活動(dòng)擋板2，實(shí)現(xiàn)對(duì)有效濺射面積的限制，起到控制薄膜沉積速率的作用，保證了加工強(qiáng)度和精度。

上述實(shí)施例可在不脫離本實(shí)用新型的范圍下加以若干變化，故以上的說(shuō)明所包含及附圖中所示的結(jié)構(gòu)應(yīng)視為示例性，而非用以限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。