1.一種多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，包括A功能區(qū)和B功能區(qū)、承載臺(tái)車，還包括依次設(shè)置的進(jìn)口室、一號(hào)一級(jí)轉(zhuǎn)換室、一號(hào)二級(jí)轉(zhuǎn)換室、鍍膜前變速室、依次連續(xù)設(shè)置的十五個(gè)工藝室、鍍膜后變速室、二號(hào)一級(jí)轉(zhuǎn)換室、二號(hào)二級(jí)轉(zhuǎn)換室、出口室；所述十五個(gè)工藝室在所述A功能區(qū)對(duì)應(yīng)工藝室分別依次設(shè)置一號(hào)分子泵、二號(hào)鈮靶、三號(hào)分子泵、二號(hào)硅靶、五號(hào)分子泵、四號(hào)硅靶、七號(hào)分子泵、八號(hào)分子泵、九號(hào)分子泵、十號(hào)分子泵、十一號(hào)分子泵、十二號(hào)分子泵、十三號(hào)分子泵、三號(hào)氧化銦錫靶、四號(hào)氧化銦錫靶；所述十五個(gè)工藝室在所述B功能區(qū)對(duì)應(yīng)工藝室分別依次設(shè)置一號(hào)鈮靶、二號(hào)分子泵、一號(hào)硅靶、四號(hào)分子泵、三號(hào)硅靶、六號(hào)分子泵、一號(hào)鉬靶材、一號(hào)鋁靶材、二號(hào)鋁靶材、三號(hào)鋁靶材、二號(hào)鉬靶材、一號(hào)氧化銦錫靶、二號(hào)氧化銦錫靶、十四號(hào)分子泵、十五號(hào)分子泵；所述承載臺(tái)車上設(shè)有鍍膜裝片室。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述一號(hào)鉬靶材和二號(hào)鉬靶材分別包括兩支鉬靶。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述一號(hào)鋁靶材、二號(hào)鋁靶材、三號(hào)鋁靶材分別包括兩支鋁靶。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述十五個(gè)工藝室的每一支所述靶均設(shè)有開啟和關(guān)閉兩種模式。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述承載臺(tái)車從進(jìn)口室進(jìn)入所述多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，鍍膜完成后從出口室出片。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述承載臺(tái)車變速通過所述多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述鍍膜裝片室無(wú)塵等級(jí)至少為百級(jí)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多功能立式連續(xù)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，其特征在于，所述A功能區(qū)和B功能區(qū)對(duì)應(yīng)設(shè)置。