本實用新型涉及一種刀具生長裝置，具體地說本實用新型涉及一種金剛石涂層刀具生長裝置。

背景技術(shù)：

金剛石薄膜是采用物理、化學(xué)等方法沉積在襯底材料表面的一層金剛石晶體，金剛石薄膜分為單晶金剛石膜、聚晶金剛石膜和類金剛石膜，它們除了硬度高、導(dǎo)熱系數(shù)大、化學(xué)穩(wěn)定性好、摩擦系數(shù)小等特性外，還具有合成工藝簡單、質(zhì)量容易控制、可在形狀復(fù)雜的基體表面大面積沉積高質(zhì)量膜等優(yōu)點，是一種發(fā)展前景廣闊的新型刀具材料，但是現(xiàn)有金剛石涂層刀具生長設(shè)備主要采用圓形基片臺和臥式結(jié)構(gòu)，現(xiàn)有結(jié)構(gòu)導(dǎo)致沉積面積較小，鉭絲容易下垂，且沉積不能均勻與持續(xù)的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了克服背景技術(shù)中的不足，本實用新型公開了一種金剛石涂層刀具生長裝置，通過設(shè)置立式結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)了沉積面積大、鉭絲不下垂，能長時間均勻沉積的目的。

為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案：

一種金剛石涂層刀具生長裝置，包括真空室、升降基片臺和熱絲裝置，在真空室內(nèi)設(shè)有立式放置的升降基片臺，在升降基片臺的一側(cè)設(shè)有與升降基片臺并排設(shè)置的熱絲裝置，在熱絲裝置的兩端分別設(shè)有水冷電極，在升降基片臺的另一側(cè)中部設(shè)有磁流體，在真空室內(nèi)分別設(shè)有進(jìn)氣系統(tǒng)和抽氣系統(tǒng)。

所述的金剛石涂層刀具生長裝置，所述抽氣系統(tǒng)的外端與真空泵連接。

所述的金剛石涂層刀具生長裝置，在真空室的一側(cè)設(shè)有前開門。

由于采用了上述技術(shù)方案，本實用新型具有如下優(yōu)越性：

本實用新型通過設(shè)置立式放置的升降基片臺與熱絲裝置，并通過升降基片臺安裝基片及調(diào)節(jié)基片與熱絲裝置之間的距離，達(dá)到了鉭絲不下垂、沉積面積大、長時間均勻沉積的目的。

【附圖說明】

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

在圖中：1、前開門；2、升降基片臺；3、水冷電極；4、進(jìn)氣系統(tǒng)；5、抽氣系統(tǒng)；6、熱絲裝置；7、磁流體；8、真空室。

【具體實施方式】

通過下面的實施例可以更詳細(xì)的解釋本實用新型，本實用新型并不局限于下面的實施例；

結(jié)合附圖1所述的金剛石涂層刀具生長裝置，包括真空室8、升降基片臺2和熱絲裝置6，在真空室8內(nèi)設(shè)有立式放置的升降基片臺2，在升降基片臺2的一側(cè)設(shè)有與升降基片臺2并排設(shè)置的熱絲裝置6，在熱絲裝置6的兩端分別設(shè)有水冷電極3，在升降基片臺2的另一側(cè)中部設(shè)有磁流體7，在真空室8內(nèi)分別設(shè)有進(jìn)氣系統(tǒng)4和抽氣系統(tǒng)5。

所述的金剛石涂層刀具生長裝置，所述抽氣系統(tǒng)5為真空泵。

所述的金剛石涂層刀具生長裝置，在真空室8的一側(cè)設(shè)有前開門1。

實施本實用新型所述的金剛石涂層刀具生長裝置，在使用時通過打開前開門1安裝升降基片臺2，在升降基片臺2上放好基片，通過真空泵抽出真空室8內(nèi)的真空，并通過進(jìn)氣系統(tǒng)4充入工作氣體，并通過立式結(jié)構(gòu)的熱絲裝置6將工作氣體離化，調(diào)整好升降基片臺2上基片與熱絲裝置6中熱絲的距離，在升降基片臺2上就能達(dá)到大面積均勻的金剛石涂層刀具。

本實用新型未詳述部分為現(xiàn)有技術(shù)。

為了公開本實用新型的發(fā)明目的而在本文中選用的實施例，當(dāng)前認(rèn)為是適宜的，但是，應(yīng)了解的是，本實用新型旨在包括一切屬于本構(gòu)思和實用新型范圍內(nèi)的實施例的所有變化和改進(jìn)。