本發(fā)明涉及顯示器制備技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種蒸鍍設(shè)備。

背景技術(shù)：

目前的有機電激光顯示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)在制備時，一般采用真空蒸鍍技術(shù)形成膜層，即利用蒸鍍機，在真空環(huán)境下，升溫加熱材料，使材料熔化揮發(fā)或者升華，在玻璃基板上沉積一層層有機材料，形成OLED器件。

在蒸鍍有機材料時需要控制蒸鍍速度，以控制形成的蒸鍍層的厚度，在點源式蒸鍍腔體中，點源的加熱絲和坩堝之間存在一定的縫隙，在對有機材料的速率進行控制時，遮擋板需要往復(fù)擺動，以防止蒸發(fā)材料蒸鍍到玻璃基板上，這樣，蒸發(fā)材料會蒸到遮擋板上，隨著材料的不斷生長，材料累積變多，在重力和遮擋板反復(fù)擺動產(chǎn)生震動的影響下，蒸鍍到遮擋板上的材料會掉到點源內(nèi)以及坩堝內(nèi)，這樣就會對點源和坩堝產(chǎn)生污染，影響點源的壽命和坩堝內(nèi)材料的品質(zhì)。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供了一種坩堝和蒸鍍設(shè)備，用以減少遮擋板上的有機材料進入蒸發(fā)源和坩堝內(nèi)現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸發(fā)源的使用壽命和坩堝內(nèi)材料的品質(zhì)。

為達到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供了一種蒸鍍設(shè)備，包括：蒸鍍腔室，位于所述蒸鍍腔室內(nèi)的蒸發(fā)源，位于所述蒸發(fā)源內(nèi)的坩堝，位于所述蒸鍍腔室內(nèi)、且可繞自身軸線旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸，與所述轉(zhuǎn)軸固定連接的遮擋板，所述遮擋板可旋轉(zhuǎn)至所述蒸發(fā)源的上方；還包括：

位于所述遮擋板朝向所述坩堝的一側(cè)的棘輪機構(gòu)，所述棘輪機構(gòu)中的棘爪與所述轉(zhuǎn)軸固定連接，所述棘輪機構(gòu)中的棘輪盤樞裝于所述轉(zhuǎn)軸；

與所述棘輪機構(gòu)的棘輪盤固定連接的托盤。

本發(fā)明提供的蒸鍍設(shè)備，通過設(shè)置的托盤可以收集遮擋板上蒸鍍的有機材料，遮擋板在設(shè)定的角度內(nèi)往復(fù)擺動，通過設(shè)置的棘輪機構(gòu)，使得遮擋板逆時針旋轉(zhuǎn)時，棘爪會推動棘輪盤逆時針旋轉(zhuǎn)，托盤會隨著慢慢轉(zhuǎn)動，而遮擋板順時針旋轉(zhuǎn)時，棘爪在棘輪盤上滑動，棘輪盤不會旋轉(zhuǎn)，托盤也不會旋轉(zhuǎn)，當遮擋板擺動后，托盤會位于遮擋板運動區(qū)域內(nèi)的下方，遮擋板反復(fù)運動會產(chǎn)生振動，此時遮擋板上蒸鍍的有機材料會被振落到托盤上，減少遮擋板上的有機材料被振動到蒸發(fā)源和坩堝內(nèi)現(xiàn)象的發(fā)生，待遮擋板再反復(fù)擺動幾次后，托盤會繼續(xù)逆時針旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)過坩堝的上方，這樣就可以在基板上鍍膜。

故，本發(fā)明提供的蒸鍍設(shè)備，可以減少遮擋板上的有機材料進入蒸發(fā)源和坩堝內(nèi)現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸發(fā)源的使用壽命和坩堝內(nèi)材料的品質(zhì)。

在一些可選的實施方式中，所述托盤為具有凹槽的扇形托盤。凹槽的邊緣會阻擋托盤接到的有機材料滑落。

在一些可選的實施方式中，所述托盤的底面與所述遮擋板朝向所述坩堝的一面之間的距離大于等于50毫米。這樣可以防止遮擋板上蒸鍍的有機材料較厚時，與下方的托盤產(chǎn)生干擾，影響托盤旋轉(zhuǎn)。

在一些可選的實施方式中，所述遮擋板為圓形遮擋板。

在一些可選的實施方式中，所述遮擋板在所述托盤的底面所在的平面內(nèi)的正投影的第一中心線相對所述托盤在其底面所在的平面內(nèi)的正投影的第一邊逆時針旋轉(zhuǎn)的角度大于等于0度小于等于所述遮擋板最大擺動角度的一半，其中所述第一中心線與所述轉(zhuǎn)軸的軸線相交，所述第一邊靠近所述遮擋板在所述托盤的底面所在的平面內(nèi)的正投影。這樣在遮擋板在一次往復(fù)擺動完成后回到初始位置時，托盤便可以在遮擋板沿第一方向的長度(即遮擋板遠離托盤的一側(cè)和靠近托盤的一側(cè)之間的距離)上覆蓋遮擋板在其上的投影。

在一些可選的實施方式中，所述圓形遮擋板的直徑小于等于所述托盤的半徑。這樣在遮擋板在一次往復(fù)擺動完成后回到初始位置時，托盤便可以在遮擋板的沿第二方向的長度(即遮擋板與轉(zhuǎn)軸連接的一端到遮擋板遠離轉(zhuǎn)軸的一端之間的距離)上覆蓋遮擋板在其上的投影。

在一些可選的實施方式中，所述托盤的角度大于等于n倍的所述遮擋板的最大擺動角度且小于等于第一設(shè)定角度，其中n大于等于2，所述第一設(shè)定角度等于360度與所述遮擋板最大擺動角度的差值。這樣的設(shè)置可以使得遮擋板至少往復(fù)擺動兩次時，遮擋板在托盤的底面所在的平面內(nèi)的正投影完全位于托盤內(nèi)。

在一些可選的實施方式中，所述托盤的角度為180度或270度。180度和270的扇形托盤便于制備。

在一些可選的實施方式中，所述托盤朝向所述坩堝的一面與所述坩堝朝向所述托盤的一面之間的距離大于20毫米。避免托盤在旋轉(zhuǎn)時與坩堝的上表面發(fā)生磕碰磨損。

在一些可選的實施方式中，所述托盤為金屬材料的托盤，且所述托盤的表面設(shè)于噴砂層。金屬材料和噴砂層的設(shè)置可以防止收集的有機材料對托盤造成腐蝕，提高托盤的使用壽命。

附圖說明

此處所說明的附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，構(gòu)成本發(fā)明的一部分，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中：

圖1為本發(fā)明實施例提供的蒸鍍設(shè)備的一種狀態(tài)示意圖；

圖2為本發(fā)明實施例提供的蒸鍍設(shè)備內(nèi)的棘輪機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為圖1所示的蒸鍍設(shè)備的A向結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明實施例提供的蒸鍍設(shè)置的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5a和圖5b為本發(fā)明實施例提供的遮擋板和托盤相對位置變化狀態(tài)示意圖。

圖中：

1-蒸發(fā)源 2-坩堝

3-轉(zhuǎn)軸 4-遮擋板

5-棘輪機構(gòu) 51-棘輪盤

52-棘爪 6-托盤

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。

如圖1、圖2、圖3、圖4、圖5a以及圖5b所示，其中：圖1為本發(fā)明實施例提供的蒸鍍設(shè)備的一種狀態(tài)示意圖；圖2為本發(fā)明實施例提供的蒸鍍設(shè)備內(nèi)的棘輪機構(gòu)5的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為圖1所示的蒸鍍設(shè)備的A向結(jié)構(gòu)示意圖；圖4為本發(fā)明實施例提供的蒸鍍設(shè)置的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；圖5a和圖5b為本發(fā)明實施例提供的遮擋板和托盤相對位置變化狀態(tài)示意圖。

本發(fā)明提供了一種蒸鍍設(shè)備，包括：蒸鍍腔室，位于蒸鍍腔室內(nèi)的蒸發(fā)源1，位于蒸發(fā)源1內(nèi)的坩堝2，位于蒸鍍腔室內(nèi)、且可繞自身軸線旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)軸3，與轉(zhuǎn)軸3固定連接的遮擋板4，遮擋板4可旋轉(zhuǎn)至蒸發(fā)源1的上方；還包括：

位于遮擋板4朝向坩堝2的一側(cè)的棘輪機構(gòu)5，棘輪機構(gòu)5中的棘爪52與轉(zhuǎn)軸3固定連接，棘輪機構(gòu)5中的棘輪盤51樞裝于轉(zhuǎn)軸3；

與棘輪機構(gòu)5的棘輪盤51固定連接的托盤6。

本發(fā)明提供的蒸鍍設(shè)備，通過設(shè)置的托盤6可以收集遮擋板4上蒸鍍的有機材料，遮擋板4在設(shè)定的角度內(nèi)往復(fù)擺動，通過設(shè)置的棘輪機構(gòu)5，使得遮擋板4逆時針旋轉(zhuǎn)時，棘爪52會推動棘輪盤51逆時針旋轉(zhuǎn)，托盤6會隨著慢慢轉(zhuǎn)動，而遮擋板4順時針旋轉(zhuǎn)時，棘爪52在棘輪盤51上滑動，棘輪盤不會旋轉(zhuǎn)，托盤6也不會旋轉(zhuǎn)，如圖5a所示，當遮擋板4開始逆時針擺動時，托盤6也隨著遮擋板4逆時針旋轉(zhuǎn)，當遮擋板4往回擺動時，托盤6就開始收集遮擋板上的有機材料，如圖5b所示，隨著遮擋板4的不斷擺動，托盤6會位于遮擋板4運動區(qū)域內(nèi)的下方，遮擋板4反復(fù)運動會產(chǎn)生振動，此時遮擋板4上蒸鍍的有機材料會被振落到托盤6上，減少遮擋板4上的有機材料被振動到蒸發(fā)源1和坩堝2內(nèi)現(xiàn)象的發(fā)生，待遮擋板4再反復(fù)擺動幾次后，托盤6會繼續(xù)逆時針旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)過坩堝2的上方，這樣就可以在基板上鍍膜。

故，本發(fā)明提供的蒸鍍設(shè)備，可以減少遮擋板4上的有機材料進入蒸發(fā)源1和坩堝2內(nèi)現(xiàn)象的發(fā)生，提高蒸發(fā)源1的使用壽命和坩堝2內(nèi)材料的品質(zhì)。

棘輪機構(gòu)(ratchet and pawl)，由棘輪和棘爪組成的一種單向間歇運動機構(gòu)。棘輪輪齒通常用單向齒，棘爪鉸接于搖桿上，當搖桿逆時針方向擺動時，驅(qū)動棘爪便插入棘輪齒以推動棘輪同向轉(zhuǎn)動；當搖桿順時針方向擺動時，棘爪在棘輪上滑過，棘輪停止轉(zhuǎn)動。

上述托盤6的具體形狀可以有多種，可選的，托盤6為具有凹槽扇形托盤6。扇形托盤6便于制備，且便于收集遮擋板4上的有機材料，凹槽的邊緣會阻擋托盤接到的有機材料滑落。當然，托盤6的具體形狀不限于扇形，也可以為矩形等，這里就不再一一贅述。

為了防止遮擋板4上蒸鍍的有機材料較厚時，與下方的托盤6產(chǎn)生干擾，影響托盤6旋轉(zhuǎn)，托盤6的底面與遮擋板4朝向坩堝2的一面之間的距離a大于等于50毫米。

本發(fā)明提供的一具體實施方式中，遮擋板4為圓形遮擋板4。

進一步的，如圖3所示，當遮擋板和托盤均未旋轉(zhuǎn)時，即均處于初始位置時，遮擋板4在托盤6的底面所在的平面內(nèi)的正投影的第一中心線相對托盤6在其底面所在的平面內(nèi)的正投影的第一邊逆時針旋轉(zhuǎn)的角度b大于等于0度小于等于所述遮擋板最大擺動角度的一半，其中第一中心線與轉(zhuǎn)軸3的軸線相交，第一邊靠近遮擋板4在托盤6的底面所在的平面內(nèi)的正投影。將角度b如此設(shè)置，可以使得遮擋板4至少在第一次逆時針旋轉(zhuǎn)時，托盤不會遮擋住蒸發(fā)源，即遮擋板可以收集不可以蒸鍍在基板上的有機材料，當遮擋板再次擺動會初始位置時，托盤便可以在遮擋板沿第一方向x的長度(即遮擋板遠離托盤的一側(cè)和靠近托盤的一側(cè)之間的距離)上覆蓋遮擋板在其上的投影。

優(yōu)選的，圓形遮擋板的直徑小于等于托盤的半徑，這樣在遮擋板在一次往復(fù)擺動完后才能后回到初始位置時，托盤便可以在遮擋板的沿第二方向y的長度(即遮擋板與轉(zhuǎn)軸連接的一端到遮擋板遠離轉(zhuǎn)軸的一端之間的距離)上覆蓋遮擋板在其上的投影。

本發(fā)明實施例提供的托盤的角度大于等于n倍的遮擋板的最大擺動角度且小于等于第一設(shè)定角度，其中n大于等于2，第一設(shè)定角度等于360度與遮擋板最大擺動角度的差值。這樣的設(shè)置可以使得遮擋板至少往復(fù)擺動兩次時，遮擋板在托盤的底面所在的平面內(nèi)的正投影完全位于托盤內(nèi)。

本發(fā)明實施了提供的扇形托盤6的角度大于等于180度小于等于270度。這樣的結(jié)構(gòu)設(shè)置便于制備。

本發(fā)明提供的實施例中，為了避免托盤6在旋轉(zhuǎn)時與坩堝2的上表面發(fā)生磕碰磨損，托盤6朝向坩堝2的一面與坩堝2朝向托盤6的一面之間的距離大于20毫米。

上述托盤6選用耐高溫耐腐蝕的材料形狀，可選的，托盤6為金屬材料的托盤6，且托盤6的表面設(shè)于噴砂層。金屬材料和噴砂層的設(shè)置可以防止收集的有機材料對托盤6造成腐蝕，提高托盤6的使用壽命。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。