技術特征：

技術總結
本發(fā)明提供一種真空蒸鍍用蒸發(fā)源，包括蒸發(fā)材料及碳納米管復合膜，該碳納米管復合膜為一載體，該蒸發(fā)材料設置在該碳納米管復合膜表面，通過該碳納米管復合膜承載，該碳納米管復合膜包括碳納米管膜結構及復合材料，該復合材料設置在該碳納米管膜結構表面。本發(fā)明還提供一種真空蒸鍍裝置和真空蒸鍍方法。

技術研發(fā)人員：魏洋;范守善
受保護的技術使用者：清華大學;鴻富錦精密工業(yè)（深圳）有限公司
技術研發(fā)日：2016.04.08
技術公布日：2017.10.20