真空鍍膜的加熱裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種真空鍍膜的加熱裝置，包括若干個通過支架（3）與真空鍍膜箱體（1）內(nèi)壁連接的加熱治具（2），所述加熱治具（2）包括與支架（3）一端連接的反射板（4）、設置于反射板（4）前側的可開啟的擋板（6）以及設置于擋板（6）與反射板（4）兩者之間的加熱器（5），所述反射板（4）內(nèi)側表面設有凹凸結構，反射板（4）兩端通過連接板（7）與擋板（6）兩端連接，本實用新型布置靈活，便于安裝，解決了受熱不均，加熱效率慢和加熱結束后和鍍膜的時候鍍膜源發(fā)出的金屬蒸汽沉積到加熱器表面的問題。
【專利說明】真空鍍膜的加熱裝置

【技術領域】
[0001] 本實用新型涉及一種真空鍍膜的加熱裝置，屬于真空鍍膜機械【技術領域】。

【背景技術】
[0002] 真空鍍膜技術作為薄膜設備的一種重要手段，在現(xiàn)代微電子技術和微器件設備中 占有特殊重要的地位；這種技術是指在真空環(huán)境下利用物理或化學手段在工件表面沉積一 層具有特殊用途膜層的表面處理方法。一般將真空鍍膜技術分為兩大類：一類是物理氣相 沉積，稱為PVD ;另一類是化學氣相沉積，稱為CVD ;其中最簡單最常用的就是熱蒸發(fā)，即利 用物質(zhì)受熱后的蒸發(fā)或升華將其轉(zhuǎn)化為氣態(tài)再沉積在基片表面。與此相應的真空鍍膜設備 一般包括蒸鍍室、轉(zhuǎn)架系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)、電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)和加熱裝置；所述加 熱裝置一般包括蒸鍍?nèi)萜骱图訜崞鳌Ｊ褂脮r，將基片固定于轉(zhuǎn)架系統(tǒng)上，將蒸鍍材料置于 蒸鍍?nèi)萜髦校倮眉訜崞骷訜嵩撜翦內(nèi)萜?，使其?nèi)的蒸鍍材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài)沉積在基片表 面，從而達到蒸鍍成膜的目的。在實際應用中，通常需要在基片上連續(xù)蒸鍍?nèi)舾蓪硬煌牧?的膜層，因而在一個真空鍍膜設備中通常設有復數(shù)個配套的蒸鍍?nèi)萜骱图訜崞鳎總€蒸鍍 容器中放置一種蒸鍍材料，按照實際需求依次將各種蒸鍍材料轉(zhuǎn)化為氣態(tài)再沉積在基片表 面，從而完成基片的復數(shù)層膜層的設備。
[0003] 真空鍍膜機是一種比較常用的設備，尤其在半導體器件工藝的電極制作工藝中更 是應用廣泛。真空鍍膜機分為常溫鍍膜及高溫鍍膜，在高溫鍍膜的工況條件下，需要在真空 鍍膜箱中對被鍍基片加熱?，F(xiàn)在用于真空鍍膜的加熱裝置多種多樣，但是現(xiàn)在的用于真空 鍍膜的加熱裝置大多有加熱效率不高，被鍍基片受熱不均等問題。 實用新型內(nèi)容
[0004] 本實用新型要解決的技術問題是提供一種真空鍍膜的加熱裝置，該真空鍍膜的加 熱裝置布置靈活，便于安裝，解決了受熱不均，加熱效率慢和加熱結束后和鍍膜的時候鍍膜 源發(fā)出的金屬蒸汽沉積到加熱器表面的問題。
[0005] 為了解決上述技術問題，本實用新型的真空鍍膜的加熱裝置，包括若干個通過支 架與真空鍍膜箱體內(nèi)壁連接的加熱治具，所述加熱治具包括與支架一端連接的反射板、設 置于反射板前側的可開啟的擋板以及設置于擋板與反射板兩者之間的加熱器，所述反射板 內(nèi)側表面設有凹凸結構，反射板兩端通過連接板與擋板兩端連接。采用這樣的真空鍍膜的 加熱裝置，由于若干個加熱治具通過支架與真空鍍膜箱體內(nèi)壁連接，可以使被鍍基片加熱 均勻；由于反射板內(nèi)側表面設有凹凸結構，這樣可以有效提高加熱器對基片的加熱效率，又 由于擋板是可開啟的，這樣在加熱結束后和鍍膜的時候可關閉擋板，以屏蔽鍍膜源發(fā)出的 金屬蒸汽沉積到加熱器表面。
[0006] 所述加熱器功率為lkw。這樣加熱熱量分布均勻，節(jié)能損耗，節(jié)約了資源。
[0007] 所述支架包括上支架片和下支架片，上支架片與真空鍍膜箱體內(nèi)壁連接，下支架 片與反射板連接，上支架片與下支架片通過轉(zhuǎn)軸連接。采用這種支架，可以通過轉(zhuǎn)動來調(diào)節(jié) 角度。
[0008] 所述支架是絕緣材料制成。采用絕緣材料，不容易導電。
[0009] 所述擋板包括框架、若干個葉片、若干根轉(zhuǎn)軸，葉片兩端通過轉(zhuǎn)軸與框架內(nèi)側連 接，采用這種擋板，開啟和關閉都比較方便。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010] 下面結合附圖和【具體實施方式】對本實用新型作進一步詳細的說明。
[0011] 圖1是本實用新型真空鍍膜的加熱裝置的整體示意圖。
[0012] 圖2是本實用新型真空鍍膜的加熱裝置的加熱治具示意圖。
[0013] 其中有：1.真空鍍膜箱體；2.加熱治具；3.支架；4.反射板；5.加熱器；6.擋 板；7.連接板。

【具體實施方式】
[0014] 圖1、圖2所示真空鍍膜的加熱裝置包括若干個通過支架3與真空鍍膜箱體1內(nèi)壁 連接的加熱治具2,所述每個加熱治具2包括與支架3 -端連接的反射板4、設置于反射板 4前側的可開啟的擋板6以及設置于擋板6與反射板4兩者之間的加熱器5,所述反射板4 內(nèi)側表面設有凹凸結構，反射板4兩端通過連接板7與擋板6兩端連接，所述加熱器5功率 為lkW，所述支架3包括上支架片和下支架片，上支架片與真空鍍膜箱體1內(nèi)壁連接，下支架 片與反射板4連接，上支架片與下支架片通過轉(zhuǎn)軸連接，所述支架3是絕緣材料制成，所述 擋板6包括框架、若干個葉片、若干根轉(zhuǎn)軸，葉片兩端通過轉(zhuǎn)軸與框架內(nèi)側連接。
[0015] 當需要調(diào)節(jié)加熱治具2的角度時，只需通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動下支架片即可；當加熱結束 后和進行鍍膜的時候，只需通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動擋板6上的葉片，使葉片閉合，這樣就屏蔽了鍍膜 源發(fā)出的金屬蒸汽沉積到加熱器5表面，當進行加熱時，只需通過轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動擋板6上的葉 片，使葉片打開即可。
[0016] 加熱治具2可以設置于真空鍍膜箱體1內(nèi)部角落處，加熱治具2可以設置成弧形， 加熱治具2的個數(shù)可以根據(jù)實際情況設置。
[0017] 以上實施方式是本實用新型優(yōu)選實施方式，在不脫離本實用新型原理的前提下， 還可以做出適當變化和修飾，這些變化和修飾也應視為本實用新型的保護范圍。
【權利要求】
1. 一種真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：包括若干個通過支架（3)與真空鍍膜箱體 (1)內(nèi)壁連接的加熱治具（2)，所述每個加熱治具（2)包括與支架（3)-端連接的反射板 (4)、設置于反射板（4)前側的可開啟的擋板（6)以及設置于擋板（6)與反射板（4)兩者之 間的加熱器（5)，所述反射板（4)內(nèi)側表面設有凹凸結構，反射板（4)兩端通過連接板（7)與 擋板（6)兩端連接。
2. 按照權利要求1所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述加熱器（5)功率為 lkW。
3. 按照權利要求1所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述支架（3)包括上支架 片和下支架片，上支架片與真空鍍膜箱體（1)內(nèi)壁連接，下支架片與反射板（4)連接，上支 架片與下支架片通過轉(zhuǎn)軸連接。
4. 按照權利要求1或3所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述支架（3)是絕緣 材料制成。
5. 按照權利要求1所述的真空鍍膜的加熱裝置，其特征在于：所述擋板（6)包括框架、 若干個葉片、若干根轉(zhuǎn)軸，葉片兩端通過轉(zhuǎn)軸與框架內(nèi)側連接。
【文檔編號】C23C14/24GK203938724SQ201420266441
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年5月22日 優(yōu)先權日:2014年5月22日
【發(fā)明者】王朝陽, 郭磊, 周佳 申請人:無錫啟暉光電科技有限公司