真空動(dòng)力沉積裝置制造方法
【專利摘要】提供了一種真空動(dòng)力沉積裝置，其包括：驅(qū)動(dòng)單元；線性運(yùn)動(dòng)單元，聯(lián)接至所述驅(qū)動(dòng)單元并且被配置為根據(jù)所述驅(qū)動(dòng)單元的操作而線性運(yùn)動(dòng)；以及角度限制單元，聯(lián)接至所述線性運(yùn)動(dòng)單元并且被配置為根據(jù)所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而在與所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向垂直的方向上運(yùn)動(dòng)。
【專利說明】真空動(dòng)力沉積裝置
[0001]相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用
[0002]本申請(qǐng)要求于2013年3月14日向韓國專利局提交的第10-2013-0027488號(hào)韓國專利申請(qǐng)的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，該韓國專利申請(qǐng)的全部內(nèi)容通過引用并入本文。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明的實(shí)施方式涉及真空動(dòng)力沉積裝置。

【背景技術(shù)】
[0004]運(yùn)動(dòng)電子設(shè)備被廣泛使用，運(yùn)動(dòng)電子設(shè)備的一些實(shí)施例包括平板設(shè)備和諸如運(yùn)動(dòng)電話的小型電子設(shè)備。這種運(yùn)動(dòng)電子設(shè)備包括用于向用戶提供視覺信息(諸如，靜止或運(yùn)動(dòng)的圖像)以支持各種功能的顯示單元。最近，隨著用于操作顯示單元的部件的尺寸越來越小，電子設(shè)備的顯示單元在電子設(shè)備中占據(jù)的相對(duì)部分逐漸增加。而且，還開發(fā)了一種用于使顯示單元彎曲以在平坦?fàn)顟B(tài)中具有一定角度的結(jié)構(gòu)。
[0005]這種顯示單元可具有有機(jī)發(fā)光設(shè)備，因此當(dāng)有機(jī)發(fā)光層使用外部施加的電流發(fā)出光時(shí)各種圖像/文字可被顯示。有機(jī)發(fā)光設(shè)備可以各種方法形成。例如，有機(jī)發(fā)光設(shè)備可通過例如有機(jī)物質(zhì)沉積方法、激光熱傳遞方法、絲網(wǎng)印刷方法等形成。有機(jī)物質(zhì)沉積方法被頻繁使用，因?yàn)橛袡C(jī)發(fā)光設(shè)備可由相對(duì)簡單的工序以相對(duì)便宜的成本形成。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實(shí)施方式提供了一種用于控制沉積材料的噴射角度的真空動(dòng)力沉積裝置。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供了一種真空動(dòng)力沉積裝置，其包括:驅(qū)動(dòng)單元；線性運(yùn)動(dòng)單元，聯(lián)接至所述驅(qū)動(dòng)單元并且被配置為根據(jù)所述驅(qū)動(dòng)單元的操作而線性運(yùn)動(dòng)；以及角度限制單元，聯(lián)接至所述線性運(yùn)動(dòng)單元并且被配置為根據(jù)所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而在與所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向垂直的方向運(yùn)動(dòng)。
[0008]所述驅(qū)動(dòng)單元包括:驅(qū)動(dòng)力生成單元，被配置為生成驅(qū)動(dòng)力；以及旋轉(zhuǎn)單元，聯(lián)接至所述驅(qū)動(dòng)力生成單元并且被配置為旋轉(zhuǎn)。
[0009]所述旋轉(zhuǎn)單元可包括正齒輪。
[0010]所述線性運(yùn)動(dòng)單元可包括運(yùn)動(dòng)塊，所述運(yùn)動(dòng)塊聯(lián)接至所述旋轉(zhuǎn)單元并且被配置為在所述旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)時(shí)線性運(yùn)動(dòng)。
[0011]所述線性運(yùn)動(dòng)單元可包括引導(dǎo)單元，所述引導(dǎo)單元被配置為在所述角度限制單元運(yùn)動(dòng)時(shí)引導(dǎo)所述角度限制單元的一部分。
[0012]所述引導(dǎo)單元可包括:第一引導(dǎo)部；第二引導(dǎo)部，聯(lián)接在所述第一引導(dǎo)部的第一端并且從所述第一引導(dǎo)部對(duì)角延伸；以及第三引導(dǎo)部，聯(lián)接至所述第二引導(dǎo)部的第二端。
[0013]所述第一引導(dǎo)部和所述第三引導(dǎo)部可垂直偏移。
[0014]所述引導(dǎo)單元可限定出橢圓形的孔。
[0015]所述角度限制單元可包括:角度限制板，位于所述源單元之間并且被配置為向上和向下線性運(yùn)動(dòng)；以及滑動(dòng)單元，聯(lián)接至所述角度限制板和所述線性運(yùn)動(dòng)單元，并且被配置為在所述線性運(yùn)動(dòng)單元運(yùn)動(dòng)時(shí)沿與所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向垂直的方向滑動(dòng)。
[0016]所述角度限制單元還可包括連接器，所述連接器用于聯(lián)接所述角度限制板和所述滑動(dòng)單元。
[0017]所述角度限制單元還可包括阻塞單元，所述阻塞單元位于所述角度限制板與所述滑動(dòng)單元之間并且被配置為封閉側(cè)護(hù)板處的槽。
[0018]所述真空動(dòng)力沉積裝置還可包括固定單元，所述固定單元被配置為使所述角度限制單元能夠滑動(dòng)。
[0019]所述真空動(dòng)力沉積裝置還可包括線性引導(dǎo)單元，所述線性引導(dǎo)單元位于所述固定單元與所述滑動(dòng)單元之間并且被配置為引導(dǎo)所述滑動(dòng)單元。
[0020]所述真空動(dòng)力沉積裝置還可包括輔助引導(dǎo)單元，所述輔助引導(dǎo)單元面向所述線性運(yùn)動(dòng)單元并且被配置為引導(dǎo)所述線性運(yùn)動(dòng)單元。
[0021]所述輔助引導(dǎo)單元可包括:固定支架；以及引導(dǎo)部，位于所述固定支架的外表面并且被配置為引導(dǎo)所述線性運(yùn)動(dòng)單元。
[0022]所述真空動(dòng)力沉積裝置還可包括位于所述固定支架的外表面處的加固肋。
[0023]所述線性運(yùn)動(dòng)單元可包括插入到所述引導(dǎo)部中的突起單元。
[0024]所述真空動(dòng)力沉積裝置還可包括指示單元，所述指示單元被配置為指示所述角度限制單元的位置。
[0025]所述指示單元可包括:運(yùn)動(dòng)單元，位于所述角度限制單元處并且被配置為與所述角度限制單元一起運(yùn)動(dòng)；以及位置顯示單元，被固定在外側(cè)并且被配置為指示所述運(yùn)動(dòng)單元的位置。
[0026]所述真空動(dòng)力沉積裝置還可包括蓋單元，所述蓋單元用于覆蓋所述驅(qū)動(dòng)單元和所述線性運(yùn)動(dòng)單元的一部分。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0027]通過參考附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，本發(fā)明的實(shí)施方式的上面和其它方面將變得更加顯而易見，在附圖中:
[0028]圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的真空動(dòng)力沉積裝置的立體視圖；
[0029]圖2是示出了圖1的區(qū)域A的局部放大立體視圖；以及
[0030] 圖3是示出了圖1的區(qū)域B的局部放大立體視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0031]現(xiàn)在參考附圖更完整地描述本發(fā)明的實(shí)施方式，在附圖中示出了本發(fā)明的示例性實(shí)施方式。然而，本發(fā)明可以許多不同的形式實(shí)施并且不應(yīng)該被解釋為限于本文中陳述的實(shí)施方式，而提供這些實(shí)施方式使得本公開全面和完整，并且向本領(lǐng)域技術(shù)人員傳遞本發(fā)明的概念。在本說明書中，單數(shù)形式還包括復(fù)數(shù)形式。諸如“包括”、“具有”或“由…構(gòu)成”的詞語可用于指示多個(gè)部件，除非這些詞語與詞語“僅” 一起使用。諸如“第一”和“第二”的詞語可用于描述各種部件，但是這些詞語僅用于區(qū)分一個(gè)部件與另一個(gè)，并且部件不受這些詞語限制。
[0032]圖1是示出了根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的真空動(dòng)力沉積裝置100的立體視圖。圖2是示出了圖1的區(qū)域A的局部放大立體視圖。圖3是示出了圖1的區(qū)域B的局部放大立體視圖。
[0033]參考圖1至圖3，真空動(dòng)力沉積裝置100可包括形成有空間的腔室。而且，真空動(dòng)力沉積裝置100可被安裝在腔室內(nèi)，并且可包括源單元以沉積材料(諸如，有機(jī)物質(zhì))。而且，真空動(dòng)力沉積裝置100可包括被安裝以固定源單元的源單元固定框架。
[0034]而且，參考圖2，真空動(dòng)力沉積裝置100可包括驅(qū)動(dòng)單元110和線性運(yùn)動(dòng)單元120，線性運(yùn)動(dòng)單元120聯(lián)接至驅(qū)動(dòng)單元110并且被配置為根據(jù)驅(qū)動(dòng)單元110的操作而線性運(yùn)動(dòng)。而且，真空動(dòng)力沉積裝置100可包括角度限制單元130，角度限制單元130聯(lián)接至線性運(yùn)動(dòng)單元120并且被配置為根據(jù)線性運(yùn)動(dòng)單元120的運(yùn)動(dòng)而垂直運(yùn)動(dòng)。在這方面，真空動(dòng)力沉積裝置100還可包括固定單元140，固定單元140被安裝為使得角度限制單元130可滑動(dòng)。真空動(dòng)力沉積裝置100還可包括側(cè)護(hù)板160。
[0035]而且，驅(qū)動(dòng)單元110可包括驅(qū)動(dòng)力生成單元111，驅(qū)動(dòng)力生成單元111生成或提供驅(qū)動(dòng)力。具體地，驅(qū)動(dòng)力生成單元111可包括電機(jī)，但驅(qū)動(dòng)力生成單元111不限于此，而是可包括生成驅(qū)動(dòng)力的其它設(shè)備。
[0036]驅(qū)動(dòng)單元110可包括旋轉(zhuǎn)單元112，旋轉(zhuǎn)單元112聯(lián)接至驅(qū)動(dòng)力生成單元111并且可旋轉(zhuǎn)。在這方面，旋轉(zhuǎn)單元112可以是正齒輪，但旋轉(zhuǎn)單元112不限于此，而是可包括根據(jù)驅(qū)動(dòng)力生成單元111的操作而傳遞驅(qū)動(dòng)力的其它設(shè)備。
[0037]而且，線性運(yùn)動(dòng)單元120可包括源護(hù)板121，源護(hù)板121根據(jù)驅(qū)動(dòng)單元110的運(yùn)動(dòng)而線性運(yùn)動(dòng)。而且，線性運(yùn)動(dòng)單元120可聯(lián)接至旋轉(zhuǎn)單元112并且可包括運(yùn)動(dòng)塊122，運(yùn)動(dòng)塊122根據(jù)旋轉(zhuǎn)單元112的運(yùn)動(dòng)而線性運(yùn)動(dòng)。在這方面，當(dāng)旋轉(zhuǎn)單元112是正齒輪時(shí)，運(yùn)動(dòng)塊122可以是與正齒輪嚙合且在正齒輪旋轉(zhuǎn)時(shí)運(yùn)動(dòng)的齒條。然而，運(yùn)動(dòng)塊122不限于此，可包括在旋轉(zhuǎn)單元112旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)時(shí)線性運(yùn)動(dòng)的其它設(shè)備和結(jié)構(gòu)。
[0038]線性運(yùn)動(dòng)單元120可包括引導(dǎo)單元123，當(dāng)角度限制單元130運(yùn)動(dòng)時(shí)引導(dǎo)單元123引導(dǎo)角度限制單元130的一部分。在這方面，引導(dǎo)單元123可包括引導(dǎo)體123d。具體地，弓丨導(dǎo)體123d可以是板狀，并且引導(dǎo)體123d的一部分可以是彎曲的。
[0039]而且，引導(dǎo)單元123可包括在引導(dǎo)體123d處形成或限定的第一、第二和第二引導(dǎo)部123a、123b和123c。第一引導(dǎo)部123a可聯(lián)接至第二引導(dǎo)部123b，并且第一和第二引導(dǎo)部123a和123b可形成一定角度。同樣地，第三引導(dǎo)部123c可聯(lián)接至第二引導(dǎo)部123b。
[0040]第一、第二和第三引導(dǎo)部123a、123b和123c可采用各種形式。例如，第一、第二和第三引導(dǎo)部123a、123b和123c可以是槽或孔。而且，第一、第二和第三引導(dǎo)部123a、123b和123c可被形成為與孔或槽對(duì)應(yīng)的突起。然而，在本實(shí)施方式中，第一、第二和第三引導(dǎo)部123a、123b和123c是孔狀/槽狀。
[0041]槽可以是橢圓形。在這方面，第一引導(dǎo)部123a和第三引導(dǎo)部123c可形成于具有不同高度的位置處，第二引導(dǎo)部123b可在對(duì)角方向延伸以聯(lián)接第一引導(dǎo)部123a和第三引導(dǎo)部123c。
[0042]此外，線性運(yùn)動(dòng)單元120可包括安裝在引導(dǎo)單元123處或引導(dǎo)單元123中的突起單元124。在這方面，突起單元124從引導(dǎo)體123d突起，并且可在引導(dǎo)體123d運(yùn)動(dòng)時(shí)維持引導(dǎo)體123d的路徑。具體地，突起單元124可包括多個(gè)突起，即第一突起124a和第二突起124b。第一突起124a和第二突起124b可被形成為軸承形狀，并且可在引導(dǎo)體123d運(yùn)動(dòng)時(shí)通過與輔助引導(dǎo)單元170 (見圖1和圖3)的接觸而減小或最小化摩擦力。
[0043]而且，角度限制單元130可被安裝在對(duì)應(yīng)的源單元之間，并且可包括在垂直方向線性運(yùn)動(dòng)的角度限制板132。而且，角度限制單元130可與角度限制板132和線性運(yùn)動(dòng)單元120聯(lián)接，并且可包括垂直于線性運(yùn)動(dòng)單元120的運(yùn)動(dòng)方向滑動(dòng)的滑動(dòng)單元131。在這方面，滑動(dòng)單元131可通過連接器聯(lián)接至角度限制板132。
[0044]而且，滑動(dòng)單元131可聯(lián)接至滑動(dòng)單元123并且可垂直于引導(dǎo)單元123的運(yùn)動(dòng)方向滑動(dòng)，如上所述。特別地，滑動(dòng)單元131可包括插入突起131a，插入突起131a可插入作為第一、第二和第三引導(dǎo)部123a、123b和123c的槽中。在本實(shí)施方式中，插入突起131a可被形成為軸承形狀。
[0045]滑動(dòng)單元131可相對(duì)于固定單元140滑動(dòng)。在本發(fā)明的其它實(shí)施方式中，可提供多個(gè)固定單元，并且多個(gè)固定單元可以規(guī)則的間隔被布置和固定。
[0046]而且，線性引導(dǎo)單元150 (見圖2)可被安裝在滑動(dòng)單元131與固定單元140之間以引導(dǎo)滑動(dòng)單元131的運(yùn)動(dòng)。在本實(shí)施方式中，線性引導(dǎo)單元150可包括一般的線性運(yùn)動(dòng)(LM)引導(dǎo)部。在其它實(shí)施方式中，可提供多個(gè)線性引導(dǎo)單元150，并且多個(gè)線性引導(dǎo)單元150可分別安裝在固定單元140處以將每個(gè)固定單元140聯(lián)接至滑動(dòng)單元131。
[0047]上述的側(cè)護(hù)板16 0可被安裝在固定單元140內(nèi)。在這方面，側(cè)護(hù)板160可形成有槽，并且連接器可被插入槽中。具體地，角度限制單元130可包括阻塞單元133，阻塞單元133被安裝在角度限制板132與側(cè)護(hù)板160之間以封閉形成于側(cè)護(hù)板160中的槽。在這方面，阻塞單元133可在與連接器的縱向方向垂直的方向上延伸。
[0048]而且，真空動(dòng)力沉積裝置100可被安裝為面向線性運(yùn)動(dòng)單元120，并且可包括引導(dǎo)線性運(yùn)動(dòng)單元120的運(yùn)動(dòng)的輔助引導(dǎo)單元170。具體地，輔助引導(dǎo)單元170可被布置在引導(dǎo)單元123外側(cè)以引導(dǎo)引導(dǎo)單元123的運(yùn)動(dòng)。
[0049]在這方面，輔助引導(dǎo)單元170可包括固定在外部的固定支架171。而且，輔助引導(dǎo)單元170可形成于固定支架171處，并且可包括引導(dǎo)引導(dǎo)單元123的運(yùn)動(dòng)的引導(dǎo)部172。
[0050]具體地，引導(dǎo)部172可形成于固定支架171的外表面使得引導(dǎo)單元123的一部分可被插入。特別地，引導(dǎo)部172可以是槽或孔，使得線性運(yùn)動(dòng)單元120的一部分可被插入引導(dǎo)部172中。而且，引導(dǎo)部172可以是突起，使得線性運(yùn)動(dòng)單元120的一部分可被插入引導(dǎo)部172中。具體地，當(dāng)引導(dǎo)部172是突起時(shí)，引導(dǎo)部172可被形成為一對(duì)突起使得線性運(yùn)動(dòng)單元120的一部分可被插入引導(dǎo)部172的一對(duì)突起之間的空間內(nèi)。在這方面，引導(dǎo)部172不限于此，可包括引導(dǎo)線性運(yùn)動(dòng)單元120運(yùn)動(dòng)的各種結(jié)構(gòu)和設(shè)備。然而，本實(shí)施方式的引導(dǎo)部172被形成為一對(duì)突起。
[0051]在這方面，第一突起124a和第二突起124b (見圖2)可被插入引導(dǎo)部172中，并且可線性運(yùn)動(dòng)。而且，第一突起124a和第二突起124b可在沿引導(dǎo)部172運(yùn)動(dòng)的同時(shí)維持引導(dǎo)單元123的線性運(yùn)動(dòng)路徑。
[0052]輔助引導(dǎo)單元170可包括加固肋173，加固肋173形成于固定支架171的外表面。在這方面，可形成多個(gè)加固肋173，多個(gè)加固肋173可以規(guī)則的間隔形成于固定支架171的外表面上。
[0053]而且，當(dāng)角度限制單元130在垂直方向線性運(yùn)動(dòng)時(shí)，真空動(dòng)力沉積裝置100可包括指示單元180,指示單元180指示角度限制單元130的位置(例如,垂直位置、或高度)。指示單元180可被安裝在角度限制單元130處并且可包括運(yùn)動(dòng)單元181，當(dāng)角度限制單元130在垂直方向線性運(yùn)動(dòng)時(shí)運(yùn)動(dòng)單元181與角度限制單元130 —起運(yùn)動(dòng)。而且，指示單元180可包括位置顯示單元182，位置顯示單元182被固定在外部并且顯示運(yùn)動(dòng)單元181的位置。
[0054]運(yùn)動(dòng)單元181可被安裝為固定在滑動(dòng)單元131處。而且，用于顯示運(yùn)動(dòng)單元181高度的刻度可形成于位置顯示單元182處，因此運(yùn)動(dòng)單元181的高度可經(jīng)由其接近于位置顯示單元182的刻度而被確定。
[0055]真空動(dòng)力沉積裝置100可包括蓋單元190，蓋單元190被形成為覆蓋驅(qū)動(dòng)單元110和線性運(yùn)動(dòng)單元120的一部分。例如，蓋單元190可覆蓋源護(hù)板121、驅(qū)動(dòng)力生成單元111和旋轉(zhuǎn)單元112，并且可防止源護(hù)板121、驅(qū)動(dòng)力生成單元111和旋轉(zhuǎn)單元112被沉積材料污染/玷污。
[0056]而且，當(dāng)真空動(dòng)力沉積裝置100被操作時(shí)，來自源單元的沉積材料可被加熱和沉積，因此可在襯底上執(zhí)行沉積工序。在這方面，可提供多個(gè)源單元，并且角度限制板132可被安裝在如上所述的多個(gè)源單元之間。
[0057]角度限制板132的預(yù)設(shè)高度可根據(jù)沉積工序的階段/進(jìn)度而被調(diào)節(jié)。特別地，驅(qū)動(dòng)單元110可根據(jù)預(yù)設(shè)高度而被操作。在這方面，旋轉(zhuǎn)單元112可通過驅(qū)動(dòng)力生成單元111的操作而旋轉(zhuǎn)。
[0058]通過使旋轉(zhuǎn)單元112旋轉(zhuǎn)，旋轉(zhuǎn)單元112可控制與旋轉(zhuǎn)單元112聯(lián)接的運(yùn)動(dòng)塊122在一個(gè)方向線性運(yùn)動(dòng)。同樣地，當(dāng)運(yùn)動(dòng)塊122運(yùn)動(dòng)時(shí)，與運(yùn)動(dòng)塊122聯(lián)接的源護(hù)板121也可在與運(yùn)動(dòng)塊122運(yùn)動(dòng)方向相同的方向運(yùn)動(dòng)。
[0059]詳細(xì)地，如果旋轉(zhuǎn)單元112沿逆時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)，則它可使運(yùn)動(dòng)塊122向前運(yùn)動(dòng)，并且源護(hù)板121還可與運(yùn)動(dòng)塊122 —起向前運(yùn)動(dòng)。同樣地，當(dāng)源護(hù)板121向前運(yùn)動(dòng)時(shí)，引導(dǎo)單元123也可與源護(hù)板121 —起向前運(yùn)動(dòng)。
[0060]而且，當(dāng)引導(dǎo)單元123向前運(yùn)動(dòng)時(shí)，第一突起124a和第二突起124b可沿引導(dǎo)部172運(yùn)動(dòng)。也就是說，第一突起124a和第二突起124b的運(yùn)動(dòng)可受到引導(dǎo)部172的限制，因此可防止引導(dǎo)單元123偏離預(yù)期的路徑。
[0061]同樣地，當(dāng)引導(dǎo)單元123運(yùn)動(dòng)時(shí)，插入突起131a可從第一引導(dǎo)部123a運(yùn)動(dòng)至第三引導(dǎo)部123c。詳細(xì)地，插入突起131a可從第一引導(dǎo)部123a運(yùn)動(dòng)至第二引導(dǎo)部123b，然后可沿第三引導(dǎo)部123c運(yùn)動(dòng)。在本實(shí)施方式中，在運(yùn)動(dòng)至第三引導(dǎo)部123c的過程中，插入突起131a的高度增加。也就是說，插入突起131a的高度可隨著插入突起131從第一引導(dǎo)部123a運(yùn)動(dòng)至第三引導(dǎo)部123c而逐漸增加。
[0062]同樣地，當(dāng)插入突起131a在由第一、第二和第三引導(dǎo)部123a、123b和123c限定的槽中運(yùn)動(dòng)時(shí)，滑動(dòng)單元131還可向上線性運(yùn)動(dòng)。在這方面，線性引導(dǎo)單元150可引導(dǎo)滑動(dòng)單元131的運(yùn)動(dòng)，并且可防止滑動(dòng)單元131偏離預(yù)期的運(yùn)動(dòng)路徑。
[0063]同樣地，當(dāng)滑動(dòng)單元131運(yùn)動(dòng)時(shí)，連接器、阻塞單元133和角度限制板132也可與滑動(dòng)單元131 —起運(yùn)動(dòng)。因此，角度限制板132可向上運(yùn)動(dòng)，并且從源單元噴射的沉積材料的沉積角度可因襯底接近源單元而減小。
[0064]同樣地，當(dāng)角度限制板132向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，側(cè)護(hù)板160中的槽可被打開。在這方面，當(dāng)阻塞單元133與角度限制板132 —起向上運(yùn)動(dòng)時(shí)，阻塞單元133可封閉槽。具體地，阻塞單元133的高度可高于角度限制板132，因此，即使角度限制板132向上運(yùn)動(dòng)，槽可被完全封閉。
[0065]而且，當(dāng)角度限制板132向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，可執(zhí)行上述操作的相反操作。詳細(xì)地，如果驅(qū)動(dòng)力生成單元111與上述操作相反地操作，旋轉(zhuǎn)單元112可沿順時(shí)針方向旋轉(zhuǎn)。
[0066]運(yùn)動(dòng)塊122可因旋轉(zhuǎn)單元112的順時(shí)針旋轉(zhuǎn)而向后運(yùn)動(dòng)，運(yùn)動(dòng)塊122可與源護(hù)板121 一起向后運(yùn)動(dòng)，并且源護(hù)板121可使引導(dǎo)單元123向后運(yùn)動(dòng)。
[0067]當(dāng)引導(dǎo)單元123向后運(yùn)動(dòng)時(shí)，第一突起124a和第二突起124b可沿引導(dǎo)部172線性運(yùn)動(dòng)。而且，插入突起131a可從第三引導(dǎo)部123c運(yùn)動(dòng)至第一引導(dǎo)部123a。也就是說，插入突起131a可順序地從第三引導(dǎo)部123c沿第二引導(dǎo)部123b向下運(yùn)動(dòng)，然后從第二引導(dǎo)部123b沿第一引導(dǎo)部123a向下運(yùn)動(dòng)。
[0068]如果插入突起131a如上所述向下運(yùn)動(dòng)，則滑動(dòng)單元131將與插入突起131a —起向下運(yùn)動(dòng)。在這方面，線性引導(dǎo)單元150可在引導(dǎo)滑動(dòng)單元131的運(yùn)動(dòng)的同時(shí)防止滑動(dòng)單元131與固定單元140分離。當(dāng)滑動(dòng)單元131如上所述運(yùn)動(dòng)時(shí)，連接器、阻塞單元133和角度限制板132可與滑動(dòng)單元131 —起向下運(yùn)動(dòng)。在這方面，阻塞單元133可通過如上所述完全封閉側(cè)護(hù)板160的槽而防止沉積材料外流。
[0069]而且，當(dāng)角度限制板132向上或向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，角度限制板132的高度可由指示單元180測(cè)量，指示單元 180可被安裝為由人們通過腔室的窗口從外部觀察。
[0070]具體地，當(dāng)滑動(dòng)單元131如上所述向上或向下運(yùn)動(dòng)時(shí)，運(yùn)動(dòng)單元181可與滑動(dòng)單元131 一起運(yùn)動(dòng)。在這方面，運(yùn)動(dòng)單元181可被布置在位置顯示單元182的一側(cè)，因此可觀察與運(yùn)動(dòng)單元181的位置對(duì)應(yīng)的位置顯示單元182的測(cè)量值。例如，工作人員等可通過根據(jù)角度限制板132的預(yù)設(shè)位置檢查運(yùn)動(dòng)單元181的位置，來確定角度限制板132的位置是否精確。
[0071]根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，可通過自動(dòng)改變?cè)磫卧g的角度限制板的高度，減少與用于不同工序的角度限制板的更換相關(guān)的時(shí)間和成本。根據(jù)本發(fā)明的本實(shí)施方式，不需要打開腔室來更換角度限制板，因此可連續(xù)保持腔室的真空狀態(tài)。而且，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，可執(zhí)行連續(xù)的沉積，因此可增強(qiáng)設(shè)施的工作效率。
[0072]盡管已經(jīng)參考本發(fā)明的示例性實(shí)施方式具體地顯示和描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解，可進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)的各種改變而不背離由權(quán)利要求及其等同限定的本發(fā)明的精神和范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種真空動(dòng)力沉積裝置，包括: 驅(qū)動(dòng)單元； 線性運(yùn)動(dòng)單元，聯(lián)接至所述驅(qū)動(dòng)單元并且被配置為根據(jù)所述驅(qū)動(dòng)單元的操作而線性運(yùn)動(dòng)；以及 角度限制單元，聯(lián)接至所述線性運(yùn)動(dòng)單元并且被配置為根據(jù)所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)而在與所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向垂直的方向上運(yùn)動(dòng)。
2.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述驅(qū)動(dòng)單元包括: 驅(qū)動(dòng)力生成單元，被配置為生成驅(qū)動(dòng)力；以及 旋轉(zhuǎn)單元，聯(lián)接至所述驅(qū)動(dòng)力生成單元并且被配置為旋轉(zhuǎn)。
3.如權(quán)利要求2所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述旋轉(zhuǎn)單元包括正齒輪。
4.如權(quán)利要求2所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述線性運(yùn)動(dòng)單元包括運(yùn)動(dòng)塊，所述運(yùn)動(dòng)塊聯(lián)接至所述旋轉(zhuǎn)單元并且被配置為在所述旋轉(zhuǎn)單元旋轉(zhuǎn)時(shí)線性運(yùn)動(dòng)。
5.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述線性運(yùn)動(dòng)單元包括引導(dǎo)單元，所述引導(dǎo)單元被配置為在所述角度限制單元運(yùn)動(dòng)時(shí)引導(dǎo)所述角度限制單元的一部分。
6.如權(quán)利要求5所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述引導(dǎo)單元包括: 第一引導(dǎo)部； 第二引導(dǎo)部，在第一端與所述第一引導(dǎo)部聯(lián)接，并且從所述第一引導(dǎo)部對(duì)角延伸；以及 第三引導(dǎo)部，聯(lián)接至所述第二引導(dǎo)部的第二端。
7.如權(quán)利要求6所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述第一引導(dǎo)部和所述第三引導(dǎo)部垂直偏移。
8.如權(quán)利要求5所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述引導(dǎo)單元限定出橢圓形的孔。
9.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述角度限制單元包括: 角度限制板，位于所述源單元之間并且被配置為向上和向下線性運(yùn)動(dòng)；以及 滑動(dòng)單元，聯(lián)接至所述角度限制板和所述線性運(yùn)動(dòng)單元，并且被配置為在所述線性運(yùn)動(dòng)單元運(yùn)動(dòng)時(shí)在與所述線性運(yùn)動(dòng)單元的運(yùn)動(dòng)方向垂直的方向上滑動(dòng)。
10.如權(quán)利要求9所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述角度限制單元還包括連接器，所述連接器用于使所述角度限制板與所述滑動(dòng)單元聯(lián)接。
11.如權(quán)利要求9所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述角度限制單元還包括阻塞單元，所述阻塞單元位于所述角度限制板與所述滑動(dòng)單元之間并且被配置為封閉側(cè)護(hù)板處的槽。
12.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置，還包括固定單元，所述固定單元被配置為使所述角度限制單元能夠滑動(dòng)。
13.如權(quán)利要求12所述的真空動(dòng)力沉積裝置，還包括線性引導(dǎo)單元，所述線性引導(dǎo)單元位于所述固定單元與所述滑動(dòng)單元之間并且被配置為引導(dǎo)所述滑動(dòng)單元。
14.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置，還包括輔助引導(dǎo)單元，所述輔助引導(dǎo)單元面向所述線性運(yùn)動(dòng)單元并且被配置為引導(dǎo)所述線性運(yùn)動(dòng)單元。
15.如權(quán)利要求14所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述輔助引導(dǎo)單元包括: 固定支架；以及 引導(dǎo)部，位于所述固定支架的外表面并且被配置為引導(dǎo)所述線性運(yùn)動(dòng)單元。
16.如權(quán)利要求15所述的真空動(dòng)力沉積裝置，還包括位于所述固定支架外表面處的加固肋。
17.如權(quán)利要求15所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述線性運(yùn)動(dòng)單元包括插入到所述引導(dǎo)部中的突起單元。
18.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置,還包括指示單元,所述指示單元被配置為指示所述角度限制單元的位置。
19.如權(quán)利要求18所述的真空動(dòng)力沉積裝置，其中所述指示單元包括: 運(yùn)動(dòng)單元，位于所述角度限制單元處并且被配置為與所述角度限制單元一起運(yùn)動(dòng)；以及 位置顯示單元，被固定在外側(cè)并且被配置為指示所述運(yùn)動(dòng)單元的位置。
20.如權(quán)利要求1所述的真空動(dòng)力沉積裝置，還包括蓋單元，所述蓋單元用于覆蓋所述驅(qū)動(dòng)單元和所述線性 運(yùn)動(dòng)單元的一部分。
【文檔編號(hào)】C23C24/04GK104046980SQ201310464725
【公開日】2014年9月17日 申請(qǐng)日期:2013年10月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年3月14日
【發(fā)明者】李英昱, 韓政洹 申請(qǐng)人:三星顯示有限公司