專利名稱：玻璃板的研磨方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及玻璃板的研磨方法。
背景技術(shù)：
專利文獻1、2等公開了采用通過使熔融玻璃流入熔融錫浴上來制造玻璃板的浮法的玻璃板的制造裝置。并且，以往還公知有將采用浮法制造的玻璃板研磨成液晶顯示器或等離子體顯示器等FPD (Flat Panel Display :平板顯示器)用玻璃基板的研磨裝置。采用浮法制造的玻璃板，在其表面存在微小的凹凸或波紋(在3 30mm程度的間距內(nèi)，最大高度為0.3 程度的波紋)，而這種微小的凹凸或波紋是導致圖像變形或色相不均性的原因。因此，需要通過研磨將微小的凹凸或波紋除去。專利文獻3中公開的研磨裝置，在安裝于研磨工具保持平臺的研磨工具上，抵接被玻璃保持部件保持的玻璃板，并且使研磨工具保持平臺和玻璃保持部件相對地移動，將玻璃板的微小的凹凸或波紋除去。現(xiàn)有技術(shù)文獻專利文獻專利文獻I :日本國特開2008-239370號公報專利文獻2 :日本國特開2009-46366號公報專利文獻3 W0 2007/020859號公報

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明解決的課題現(xiàn)有技術(shù)尚未充分掲示如下的研磨方法將采用浮法制造的玻璃板、即表面存在微小的凹凸或波紋的玻璃板研磨成適于作為圖像中無變形或色相不均性的Fro用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明有鑒于此而做出，其目的在于提供玻璃板的研磨方法，將采用浮法制造的玻璃板研磨成適于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明為了實現(xiàn)上述目的，提供ー種玻璃板的研磨方法，以通過使熔融玻璃流入熔融錫浴上來制造的玻璃板，且厚度為0. 7mm以下、I邊長度為IOOOmm以上、楊氏模量為65GPa以上的玻璃板為研磨對象的玻璃板，通過玻璃保持部件保持上述玻璃板的非研磨面,通過研磨工具研磨該玻璃板的研磨面上存在的高度0. 3 y m以下的波紋而使該波紋降低為0. 05 y m以下，從而制造平板顯示器用玻璃基板。 采用浮法制造的玻璃板，且作為Fro用玻璃基板使用的、厚度為0. 7mm以下、I邊長度為IOOOmm以上、楊氏模量為65GPa以上的玻璃板，其表面(研磨面)上在3 30mm程度的間距內(nèi)存在最大高度0. 3 ii m程度的波紋。因此，在本發(fā)明中，利用研磨工具對玻璃板的研磨面上存在的高度0. 3 y m以下的波紋進行研磨，使該波紋的最大高度降低為0. 05 y m以下。由此，能夠制造適于作為圖像中不會產(chǎn)生變形或色相不均性的Fro用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明的上述研磨工具，優(yōu)選A硬度為20以上，D硬度為99以下，厚度為I. 0
2.5mm,厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明，如上所述規(guī)定研磨工具的硬度、厚度、厚度分布，從而能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ筛舆m于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明的上述玻璃保持部件，優(yōu)選壓縮率為10 70%，壓縮彈性模量為70 98，A硬度為2 20，厚度為0. 3 2. 0mm，厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明，如上所述規(guī)定玻璃保持部件的壓縮率、壓縮彈性模量、硬度、厚度、厚度分布，從而能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ筛舆m于作為FPD用玻璃基板的玻璃 板。本發(fā)明的上述玻璃保持部件，優(yōu)選經(jīng)由密封件安裝于玻璃保持平臺，該玻璃保持平臺的評價長度為30mm時的波紋度曲線的最大截面高度為20iim以下。根據(jù)本發(fā)明，如上所述規(guī)定玻璃保持平臺的波紋度曲線的最大截面高度，從而能夠通過玻璃保持部件良好地吸收玻璃板的非研磨面上存在的波紋，因此能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ筛舆m于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明的上述研磨工具，優(yōu)選經(jīng)由密封件安裝于研磨工具保持平臺，該研磨工具保持平臺的評價長度為30_時的截面曲線的最大截面高度為IOOym以下。根據(jù)本發(fā)明，如上所述規(guī)定研磨工具保持平臺的截面曲線的最大截面高度，從而能夠抑制研磨工具的表面的波紋，因此能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ筛舆m于作為Fro用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明的上述研磨工具，優(yōu)選被以一定的載荷相對于上述玻璃板按壓，該載荷的偏差為平均載荷的10%以下。根據(jù)本發(fā)明，如上所述規(guī)定研磨工具相對于玻璃板的載荷，從而能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ蛇m于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。本發(fā)明的上述研磨工具，優(yōu)選在修整吋，使修整用砂輪和以包圍該修整用砂輪的方式配置的無研磨能力的框架抵接于上述研磨工具來進行修整。根據(jù)本發(fā)明，通過規(guī)定的壓カ將修整用砂輪和框架按壓于研磨工具，利用修整用砂輪對研磨工具的表面進行磨削。此時，上述壓カ集中于位于修整用砂輪的外周的框架，而框架不具有磨削能力，因此與框架接觸的研磨工具的一部分表面不會被磨削。即，能夠僅通過均勻施加壓カ的修整用砂輪對研磨工具的表面進行磨削。由此，研磨工具的整個表面被平坦地磨削，從而能夠改善利用修整用砂輪的修整。發(fā)明效果通過本發(fā)明的玻璃板的研磨方法，能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ蛇m于作為Fro用玻璃基板的玻璃板。


圖I為表示適用本發(fā)明實施方式的研磨工具的研磨裝置的整體構(gòu)造的立體圖。圖2為圖I所示研磨裝置的側(cè)視圖。
圖3為表示現(xiàn)有的采用修整用砂輪的研磨工具的修整方法的示意圖。圖4為采用圖3所示修整方法進行修整的研磨工具的俯視圖。圖5為表示采用本發(fā)明實施方式的修整用砂輪的修整方法的示意圖。圖6為采用圖5所示修整方法進行修整的研磨工具的俯視圖。圖7為表示利用修整用水噴嘴的研磨工具的修整方法的側(cè)視圖。標號說明G :玻璃板；10 :研磨裝置；12 :研磨頭；14 :平臺；16 :玻璃保持部件；18 :密封件；20 :玻璃保持平臺；22 :帆布；23 :空氣室；24 :旋轉(zhuǎn)軸；26 :研磨工具；28 :密封件；30 :研磨工具保持平臺；40 :修整用砂輪；42 :框架；44 :水噴嘴；46 :噴射孔；48 :清洗水
具體實施例方式以下參照附圖對本發(fā)明的玻璃板的研磨方法的優(yōu)選實施方式進行詳細說明。圖I為表示適用本發(fā)明實施方式的玻璃板的研磨方法的研磨裝置10的整體構(gòu)成的立體圖。圖2為圖I所示研磨裝置10的側(cè)視圖。這些圖中所示的研磨裝置10，是對采用浮法制造的玻璃板、例如厚度為0. 7mm以下、I邊長度為IOOOmm以上、楊氏模量為65GPa以上的玻璃板G的表面(研磨面)，使用研磨工具研磨達到FH)用玻璃基板所需的平坦度的研磨裝置。即，該研磨裝置10是如下裝置對在3 30mm程度的間距內(nèi)存在最大高度為0. 3 y m程度的波紋的玻璃板G的研磨面進行研磨，使該波紋的最大高度降低為0. 05 y m以下，從而制造適于作為圖像中不會產(chǎn)生變形或色相不均性的FPD用玻璃基板的玻璃板。并且，上述波紋的測定方法，是JIS B0031 :1982和JIS B0601 :1982記載的方法。并且，使上述波紋為0. 05 y m以下所需的研磨量根據(jù)研磨工具的硬度決定。研磨工具的硬度越高，則能夠以越少的研磨量降低波紋。研磨裝置10由研磨頭12和平臺14構(gòu)成。研磨頭12具有保持玻璃板G的非研磨面的玻璃保持部件16、經(jīng)由密封件18安裝有玻璃保持部件16的保持平臺20以及安裝有玻璃保持平臺20的帆布22。在帆布22上固定有旋轉(zhuǎn)軸24，旋轉(zhuǎn)軸24以其軸心P1為中心旋轉(zhuǎn)從而使研磨頭12旋轉(zhuǎn)，并且旋轉(zhuǎn)軸24以公轉(zhuǎn)軸P2為中心公轉(zhuǎn)從而使研磨頭12公轉(zhuǎn)。并且，在帆布22的空氣室23內(nèi)，經(jīng)由中空的旋轉(zhuǎn)軸24供給壓縮空氣，該壓縮空氣的壓カ經(jīng)由玻璃保持平臺20、密封件18以及玻璃保持部件16傳遞到玻璃板G。上述平臺14具有研磨工具26、經(jīng)由密封件28安裝有研磨工具26的研磨工具保持平臺30。密封件28為軟質(zhì)井能夠提高吸附保持性的樹脂制(例如聚氨酯制)的密封件。因此，本實施方式的研磨裝置10，利用上述壓縮空氣的壓カ將玻璃板G的研磨面按壓于研磨工具26，并且通過使研磨頭12自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)，對玻璃板G的研磨面進行研磨。研磨工具26優(yōu)選A硬度(依據(jù)ISO 7619 :1997)為20以上，D硬度(依據(jù)ISO7619)為99以下，厚度為I. 0 2. 5mm，厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。 當研磨工具26的A硬度不足20時，則無法減小玻璃板G的波紋，而研磨工具26的D硬度超過99則容易導致玻璃板G破裂。并且，當研磨工具26的厚度不足I. Omm吋，則無法對研磨工具26進行槽加工。特別是對于大面積的研磨工具26無法進行槽加工時，會導致磨粒分布不均勻而在玻璃板G的加工中產(chǎn)生問題。與此相対，當研磨工具26的厚度超過2. 5mm時，則會導致研磨工具26的變形量增大而降低玻璃板G的加工品質(zhì)。并且，研磨工具26的厚度分布是除去槽加工部分的區(qū)域上的(最大厚度)-(最小厚度)。該厚度分布超過±0. 05mm吋，則會導致壓カ分布增大而降低玻璃板的加工品質(zhì)。這樣如上所述規(guī)定研磨工具26的硬度、厚度、厚度分布，從而能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО錑研磨成更加適于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。另ー方面，本申請發(fā)明人努力研究后，結(jié)果發(fā)現(xiàn)，為了使研磨后的玻璃板的波紋為
0.05 i! m以下，除了如上所述管理研磨工具26的A硬度以外，還管理玻璃保持部件16的壓縮率、壓縮彈性模量、A硬度、厚度以及分布，會更加有效。例如，當玻璃保持部件16的A硬度過低時，則玻璃保持部件16的耐久性降低，無法重復使用玻璃保持部件16。并且，在玻璃保持部件16的A硬度適度降低的情況下，玻璃 保持部件16能夠吸收玻璃板G的非研磨面上存在的波紋，因此能夠利用研磨工具26良好地研磨玻璃板G的研磨面上存在的波紋。與此相対，當玻璃保持部件16的A硬度過高吋，則會在無法通過玻璃保持部件16吸收玻璃板G的非研磨面上存在的波紋的狀態(tài)下用玻璃保持部件16保持玻璃板G，利用研磨工具26對玻璃板G的研磨面進行研磨。因此，在將玻璃板G從玻璃保持部件16取下吋，玻璃板G發(fā)生回弾，其結(jié)果是有時會在玻璃板G的研磨面上殘留超過0. 05 m的波紋。并且，當玻璃保持部件16的厚度分布比±0. 05mm大時，會由于玻璃保持部件16的緩沖性在玻璃板G的面內(nèi)產(chǎn)生不均，有時會產(chǎn)生波紋無法均勻去除的問題。為了解決上述問題，玻璃保持部件16優(yōu)選壓縮率(依據(jù)JIS L1021-6 :2007附件I)為10 70%，壓縮彈性模量(依據(jù)JIS L1021-6 :2007附件1，其中，初始載荷為IOOgf/cm2，最終載荷為1120gf/cm2)為70 98，A硬度為2 20，厚度為0. 3 2. 0mm，厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。壓縮率表示追隨初始的玻璃板G的緩沖性，壓縮彈性模量為表示重復使用時的復原程度的參數(shù)。并且，在本實施方式中，玻璃保持部件16優(yōu)選為發(fā)泡聚氨酯制，但是也可以適當選擇通常使用的材質(zhì)的部件來使用。并且，當玻璃板G變薄吋，玻璃保持部件16的管理特別需要縮小管理范圍。例如，板厚為0. 5mm以下的玻璃板G時的玻璃保持部件16，優(yōu)選壓縮率為10 70%，壓縮彈性模量為70 98，A硬度為2 20，厚度為0. 5 I. 5mm,厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。并且，板厚為0. 3mm以下的玻璃板G時的玻璃保持部件16，優(yōu)選壓縮率為10 70%，壓縮彈性模量為70 98，A硬度為2 20，厚度為0. 7 I. 2mm，厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。如上所述規(guī)定玻璃保持部件16的壓縮率、壓縮彈性模量、A硬度、厚度、厚度分布，從而能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО錑研磨成更加適于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。另ー方面，已判明存在如下情況即使對玻璃保持部件16進行管理，在玻璃保持平臺20的波紋度曲線的最大截面高度過高的情況下，也無法通過玻璃保持部件16良好地吸收玻璃板G的非研磨面上存在的波紋，無法將玻璃板G的研磨面的波紋研磨至0. 05 ii m以下。為了解決上述問題，優(yōu)選對于經(jīng)由密封件18安裝玻璃保持部件16的玻璃保持平臺20的表面，使評價長度為30mm時的波紋度曲線的最大截面高度為20iim以下。
如上所述規(guī)定玻璃保持平臺20的波紋度曲線的最大截面高度，從而能夠通過玻璃保持部件16良好地吸收玻璃板G的非研磨面上存在的波紋，因此能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ筛舆m于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。并且已判明，即使對研磨工具26進行管理，在研磨工具保持平臺30的截面曲線的最大截面高度過高的情況下，也會在研磨工具26的表面產(chǎn)生較大的波紋，無法將玻璃板G的研磨面的波紋研磨至0. 05 ii m以下。
為了解決上述問題，優(yōu)選對于經(jīng)由密封件28安裝研磨工具26的研磨工具保持平臺30的表面，使評價長度為30_時的截面曲線的最大截面高度為100 ii m以下。如上所述規(guī)定研磨工具保持平臺30的截面曲線的最大截面高度，從而能夠抑制研磨工具26的表面的波紋，因此能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО逖心コ筛舆m于作為FH)用玻璃基板的玻璃板。另外，波紋度曲線的最大截面高度記載于JIS B0601 2001o波紋度曲線的最大截面高度以測定長度30mm、A C = 0. 8mm的測定條件采用株式會社東京精密制的沙富考姆(商品名サーフコム)“1400-D64，，進行測定。并且，將玻璃板G的研磨面相對于研磨工具26按壓的載荷的偏差，優(yōu)選為平均載荷的10%以下。如上所述規(guī)定研磨工具26相對于玻璃板G的載荷，從而能夠?qū)⒉捎酶》ㄖ圃斓牟ＡО錑研磨成更加適于作為FPD用玻璃基板的玻璃板。并且，作為載荷分布的測定手段，可以采用尼塔(ニッタ)株式會社制大面積壓カ分布測定系統(tǒng)的“BIG-MAT”或“HUGE-MAT”。如上所述，根據(jù)本實施方式的研磨裝置10，以采用浮法制造的玻璃板G、且厚度為
0.7mm以下、I邊長度為IOOOmm以上、楊氏模量為65GPa以上的玻璃板G為研磨対象，利用玻璃保持部件16保持玻璃板G的非研磨面，利用研磨工具26研磨玻璃板G的研磨面上存在的高度為0. 3 y m以下的波紋，從而使其降低為0. 05 y m以下，來制造平板顯示器用玻璃基板。由此，能夠制造研磨面上存在的波紋的最大高度為0. 05 y m以下，且圖像中不會產(chǎn)生變形或色相不均性的適于作為FPD用玻璃基板的玻璃板G。以下示出研磨規(guī)格的一例。研磨壓カ2kPa 25kPa研磨漿料從研磨工具保持平臺的漿料供給孔供給氧化鈰水溶液研磨工具軟質(zhì)聚氨酯制絨面革狀且表面具有流過漿料的槽(槽間距4. 5mm、槽寬
1.5mm、槽深 I I. 5mm)玻璃板的厚度0. 2mm 0. 7_玻璃板的形狀I邊超過IOOOmm的矩形玻璃板玻璃板的非研磨面用玻璃保持部件進行緊貼保持以上為研磨規(guī)格的一例。另外，在本實施方式的研磨裝置10中，為了維持玻璃板G的研磨速率，利用含有金剛石磨粒的修整用砂輪定期地對研磨工具26的表面進行磨削，實施修整。以往，如圖3的示意圖所示，將與玻璃板G大致相同尺寸且為板狀的修整用砂輪40安裝于玻璃保持部件16。并且，通過向圖I所示的帆布22的空氣室23內(nèi)供給的壓縮空氣的氣壓，將圖3的修整用砂輪40按壓于研磨工具26，對研磨工具26的表面進行磨削。此時，修整用砂輪40與玻璃板G的研磨同樣地通過研磨頭12的動作而自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)，同時對研磨工具26的表面進行磨削。在利用現(xiàn)有的修整用砂輪40進行磨削時，會發(fā)生上述氣壓集中于修整用砂輪40的邊緣部分40A的現(xiàn)象。因此，與邊緣部分40A接觸的研磨工具26的表面的一部分26A比其它部分26B更多地受到磨削，因此存在無法將研磨工具26的表面整體磨削平坦的不良情況。并且，與邊緣部分40A接觸的上述一部分表面26A由于修整用砂輪40的自轉(zhuǎn)、公轉(zhuǎn)，如圖4的俯視圖所示在研磨工具26的表面上呈現(xiàn)環(huán)狀。為了防止這種不良情況，在本實施方式的研磨裝置10中，在修整時，如圖5所示，將沒有金剛石磨粒而無磨削能力的矩形的框架42如圖6的俯視圖所示以包圍修整用砂輪40的方式安裝于玻璃保持部件16。并且，通過向帆布22的空氣室23內(nèi)供給的壓縮空氣的氣壓，將修整用砂輪40和框架42按壓于研磨工具26，利用修整用砂輪40對研磨工具26的表面進行磨削(修整)。 此時，上述氣壓集中于位于修整用砂輪40的外周的框架42，而框架42不具有磨削能力，因此研磨工具26的與框架42接觸的部分不會被磨削。即，僅通過被均勻提供氣壓的修整用砂輪40對研磨工具26的表面進行磨削。由此，可將研磨工具26的表面整體磨削平坦，從而能夠改善利用修整用砂輪40的修整。另外優(yōu)選，不僅在研磨工具26的修整時使用框架42，還在玻璃板G的研磨時使用框架42。由此，能夠在玻璃板G的研磨時防止氣壓集中于玻璃板G的邊緣，從而能夠防止玻璃板G的邊緣磨削過多。作為框架42的材質(zhì)，可以例示不銹鋼、鐵、鋁、聚こ烯、聚氨酯等無研磨能力的材質(zhì)。并且，在實施方式的研磨裝置10中，為了維持玻璃板G的研磨速率，定期地對研磨工具26的表面進行水洗，從而實施將附著于研磨工具26的表面的研磨液中的氧化鈰等殘渣除去的修整?，F(xiàn)有的水洗裝置，在研磨工具26的上方配置有噴射孔朝向下側(cè)的修整用水噴嘴。從該水噴嘴的上述噴射孔將清洗水向與研磨工具26的表面垂直的方向噴射，并且使研磨工具26和水噴嘴在水平方向上相對移動來實施研磨工具26的修整。但是，在現(xiàn)有的清洗裝置中存在如下問題，即無法高效地將附著于研磨工具26的表面的上述殘渣除去，并且無法高效地將除去的殘渣沖洗到研磨工具26的系統(tǒng)外。為了防止這種問題，在本實施方式的研磨裝置10中，如圖7的側(cè)視圖所示使修整用水噴嘴44傾斜，將從噴射孔46噴射的清洗水48的噴射角度0設定為銳角。并且，使水噴嘴44和研磨工具26在水平方向上相對地往復移動，從而將附著于研磨工具26的表面的殘渣除去。由此，附著于研磨工具26的表面的殘渣通過傾斜噴射的清洗水48的壓カ被掘出，因此可高效地除去。并且，除去的殘渣通過傾斜噴射的清洗水48被高效地沖洗到研磨工具26的系統(tǒng)外。由此，能夠改善利用水噴嘴166的修整。并且，清洗水48的噴射角度0從殘渣的掘出效率和殘渣的沖洗效率的觀點出發(fā)優(yōu)選為10 45度，更優(yōu)選為30度。并且，清洗水48沖擊研磨工具26時的沖擊カ如果較弱則會降低殘渣的除去效率，如果較高則可能損壞研磨工具26，因此優(yōu)選為5 50kPa。另夕卜，研磨工具26與水噴嘴44的相対速度如果較慢則會降低研磨工具26的修整效率，如果較快則會降低殘渣的除去效率，因此優(yōu)選為3 20m/min。以上參照特定的實施方式對本發(fā)明詳細地進行了說明，但是在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的前提下，可以進行各種變更或修正，這對于 本領域技術(shù)人員是顯而易見的。本申請基于2011年3月I日提出的日本專利申請2011-044250，并在此引入其內(nèi)容作為參照。
權(quán)利要求
1.ー種玻璃板的研磨方法，以厚度為o. 7mm以下、I邊長度為IOOOmm以上、楊氏模量為65GPa以上的玻璃板為研磨對象的玻璃板， 通過玻璃保持部件保持上述玻璃板的非研磨面，通過研磨工具研磨該玻璃板的研磨面上存在的高度為0. 3 y m以下的波紋而使該波紋降低為0. 05 y m以下。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的玻璃板的研磨方法，其中， 上述研磨工具的A硬度為20以上，D硬度為99以下，厚 度為I. 0 2. 5mm,厚度分布為±0. 05mm 以內(nèi)。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的玻璃板的研磨方法，其中， 上述玻璃保持部件的壓縮率為10 70%，壓縮彈性模量為70 98，A硬度為2 20，厚度為0. 3 2. Omm,厚度分布為±0. 05mm以內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I 3中任一項所述的玻璃板的研磨方法，其中， 上述玻璃保持部件經(jīng)由密封件安裝于玻璃保持平臺，該玻璃保持平臺的評價長度為30mm時的波紋度曲線的最大截面高度為20iim以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求I 4中任一項所述的玻璃板的研磨方法，其中， 上述研磨工具經(jīng)由密封件安裝于研磨工具保持平臺，該研磨工具保持平臺的評價長度為30_時的截面曲線的最大截面高度為100 V- m以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求I 5中任一項所述的玻璃板的研磨方法，其中， 上述研磨工具被以一定的載荷相對于上述玻璃板按壓，該載荷的偏差為平均載荷的10%以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求I 6中任一項所述的玻璃板的研磨方法，其中， 上述研磨工具在修整時，使修整用砂輪和以包圍該修整用砂輪的方式配置的無研磨能力的框架抵接于上述研磨工具來進行修整。
全文摘要
本發(fā)明涉及玻璃板的研磨方法，以通過使熔融玻璃流入熔融錫浴上來制造的玻璃板、且厚度為0.7mm以下、1邊長度為1000mm以上、楊氏模量為65GPa以上的玻璃板為研磨對象的玻璃板，利用玻璃保持部件保持上述玻璃板的非研磨面，利用研磨工具研磨該玻璃板的研磨面上存在的高度為0.3μm以下的波紋而使其降低至0.05μm以下，從而制造平板顯示器用玻璃基板。
文檔編號B24B37/26GK102653074SQ20121005223
公開日2012年9月5日 申請日期2012年3月1日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月1日
發(fā)明者中谷嘉孝, 城山厚, 福田真, 鈴木健雄 申請人:旭硝子株式會社