專利名稱：真空鍍膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空鍍膜裝置，尤其涉及一種在給反光鏡片鍍膜時具有修正板的真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)：
反光鏡片在鍍膜生產(chǎn)時，需要在反光鏡片的基片上鍍上光學(xué)薄膜，而膜層的均勻性的好壞，則直接影響著膜系的特性及反光鏡片的質(zhì)量。而反光鏡片常用的鍍膜裝置如圖I所示，包括鍍膜室I、承載架2及鍍膜源3。在鍍膜室I的頂部配置有旋轉(zhuǎn)馬達(圖中未示出)，承載架2通過連接軸與旋轉(zhuǎn)馬達相連，并懸掛在鍍膜室I的中央位置；鍍膜源3設(shè)置在鍍膜室I的底部。鍍膜時，將反光鏡片8基片放置在鍍膜室內(nèi)承載架的夾具上，承載架通過旋轉(zhuǎn)馬達的帶動，按一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，同時，在鍍膜源上施加電流，使其散發(fā)蒸氣，從而對反光鏡片進行鍍膜。但是由于系統(tǒng)配置及蒸發(fā)源蒸發(fā)特性的原因，夾具上不同位置處淀積到薄膜的厚度是不完全相同的，由于鍍膜源與承載架上各夾具位置不均衡，使得在鍍膜過程中，反光鏡片不能有很好的膜層均勻性，鏡片左右兩邊的膜厚分布不均勻，從而使得制得的反光鏡質(zhì)量較差，在使用時，照射出來的光是五顏六色的。為了提高產(chǎn)業(yè)化鍍膜效率，僅僅利用系統(tǒng)的自然均勻性是不行的。因此，如何提高鍍膜室內(nèi)光學(xué)薄膜厚度分布的均勻性，從而提高光學(xué)薄膜元件的質(zhì)量和成品率，是本實用新型要研究的內(nèi)容。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型提供一種真空鍍膜裝置，其目的是解決現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜室內(nèi)的光學(xué)薄膜厚度分布的不均勻的問題，從而提高光學(xué)薄膜元件的質(zhì)量和成品率。為達到上述目的，本實用新型采用的技術(shù)方案是一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室、承載架及鍍膜源，所述真空鍍膜室的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達，承載架與旋轉(zhuǎn)馬達相連，并懸掛在真空鍍膜室的中央位置；所述鍍膜源設(shè)置在鍍膜室的底部；所述承載架上連接設(shè)有至少兩個行星工件盤；還包括一修正板，該修正板固設(shè)于鍍膜源和行星工件盤的之間。上述技術(shù)方案中的有關(guān)內(nèi)容解釋如下I、上述方案中，所述至少兩個的行星工件盤繞真空鍍膜室的周向上均布。2、上述方案中，所述每個行星工件盤設(shè)有至少三個的待鍍元件裝夾位。3、上述方案中，所述真空鍍膜室的底部固設(shè)一支撐桿，該支撐桿的頂部與修正板固定連接。4、上述方案中，所述修正板為弧形。本實用新型的原理是光學(xué)薄膜元件賦予光學(xué)元件各種使用性能，對光學(xué)儀器的質(zhì)量起著重要的作用，其中，光學(xué)薄膜的厚度均勻性便是最為突出的一個。光學(xué)薄膜厚度均勻性是指光學(xué)薄膜的厚度隨著夾具表面位置的變化而變化的一種性質(zhì)。在實際的鍍膜生產(chǎn)中，就要求在鍍膜裝置的夾具上盡可能多地放置基片，并鍍制的光學(xué)薄膜同時達到質(zhì)量要求。本實用新型修正板的作用就是采用截流蒸氣云靜止擋板技術(shù)，來消除真空鍍膜室內(nèi)膜厚分布的不均勻性。將特定形狀的靜止修正板，置于鍍膜源和行星工件盤(被鍍光學(xué)元件) 之間，以改變真空鍍膜室中膜厚分布，使行星工件盤各個位置上的膜厚達到均勻的要求。由于上述技術(shù)方案運用，本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點I、由于本實用新型使用，消除了真空鍍膜室內(nèi)膜厚分布的不均勻性。將特定形狀的靜止修正板，置于鍍膜源和行星工件盤(被鍍光學(xué)元件)之間，以改變真空鍍膜室中膜厚分布，使行星工件盤各個位置上的膜厚達到均勻的要求。本實用新型工藝簡單、方便可靠。

附圖I為現(xiàn)有技術(shù)結(jié)構(gòu)示意圖；附圖2為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖。以上附圖中1、真空鍍膜室；2、承載架；3、鍍膜源；4、修正板；5、行星工件盤；6、 待鍍元件裝夾位；7、支撐桿；8反光鏡片。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步描述實施例如圖2所示，一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室I、承載架2及鍍膜源3，所述真空鍍膜室I的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達，承載架2與旋轉(zhuǎn)馬達相連，并懸掛在真空鍍膜室I的中央位置；所述鍍膜源3設(shè)置在鍍膜室的底部；所述承載架2上連接設(shè)有至少兩個行星工件盤 5 ;這至少兩個的行星工件盤5繞真空鍍膜室I的周向上均布。所述每個行星工件盤5設(shè)有至少三個的待鍍元件裝夾位6。還包括一修正板4，該修正板4為弧形，并固設(shè)于鍍膜源3和行星工件盤5的之間。 所述真空鍍膜室I的底部固設(shè)一支撐桿7，該支撐桿7的頂部與修正板4固定連接。在鍍膜時鍍膜時，將反光鏡片8基片裝夾在行星工件盤5的待鍍元件裝夾位6上， 啟動旋轉(zhuǎn)馬達(圖中未示出)，帶動承載架2按一定轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，同時，在鍍膜源3上施加電流，使其散發(fā)蒸氣，靠近修正板4位置的蒸汽會被修正板4吸收掉一部分，從而使得整個真空鍍膜室I內(nèi)的膜厚分布均勻，使行星工件盤5各個位置上的待鍍元件裝夾位6膜厚達到均勻的要求，完成對反光鏡片的鍍膜。上述實施例只為說明本實用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人士能夠了解本實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍。 凡根據(jù)本實用新型精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室(I)、承載架(2)及鍍膜源(3)，所述真空鍍膜室(I)的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達，承載架(2)與旋轉(zhuǎn)馬達相連，并懸掛在真空鍍膜室(I)的中央位置；所述鍍膜源(3)設(shè)置在鍍膜室的底部；其特征在于所述承載架(2)上連接設(shè)有至少兩個行星工件盤(5);還包括一修正板(4)，該修正板(4)固設(shè)于鍍膜源(3)和行星工件盤(5)的之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述至少兩個的行星工件盤(5) 繞真空鍍膜室(I)的周向上均布。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述每個行星工件盤(5)設(shè)有至少三個的待鍍元件裝夾位(6)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述真空鍍膜室(I)的底部固設(shè)一支撐桿(7)，該支撐桿(7)的頂部與修正板(4)固定連接。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置，其特征在于所述修正板(4)為弧形。
專利摘要一種真空鍍膜裝置，包括真空鍍膜室、承載架及鍍膜源，所述真空鍍膜室的頂部設(shè)有旋轉(zhuǎn)馬達，承載架與旋轉(zhuǎn)馬達相連，并懸掛在真空鍍膜室的中央位置；所述鍍膜源設(shè)置在鍍膜室的底部；所述承載架上連接設(shè)有至少兩個行星工件盤；還包括一修正板，該修正板固設(shè)于鍍膜源和行星工件盤的之間。本方案解決了現(xiàn)有技術(shù)中鍍膜室內(nèi)的光學(xué)薄膜厚度分布的不均勻的問題，從而提高光學(xué)薄膜元件的質(zhì)量和成品率。
文檔編號C23C14/24GK202347082SQ20112041698
公開日2012年7月25日 申請日期2011年10月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年10月28日
發(fā)明者朱文斌 申請人:蘇州靈菱照明鍍膜科技有限公司