專利名稱：化學(xué)機械研磨設(shè)備、方法及系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種化學(xué)機械研磨系統(tǒng)及其方法，且更具體地講，涉及一種化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，在該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)中，即使基板載體單元在裝載有基板時移動通過穿過復(fù)數(shù)個研磨壓板的循環(huán)路徑，也防止用于將壓縮空氣供應(yīng)至旋轉(zhuǎn)式管套的空氣壓力供應(yīng)管扭轉(zhuǎn)，因此能夠在該復(fù)數(shù)個研磨壓板上連續(xù)地研磨裝載于該基板載體單元處的所述基板。
背景技術(shù)：
一般而言，將化學(xué)機械研磨程序(CMP)稱為用以研磨基板的表面的標準程序，其中，基板(比如，具有研磨層的晶圓)相抵于研磨壓板相對地旋轉(zhuǎn)以用于制造半導(dǎo)體。圖1至圖3為已知的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的示意圖。如圖1及圖2所示，該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)包含研磨壓板10，研磨壓板10經(jīng)驅(qū)動以與在其上部表面上附接至壓板基座14 的壓板墊16及背襯墊15 —起旋轉(zhuǎn)；基板載體單元20，基板55裝載于基板載體單元20處以用于在向下方向22d'上予以按壓且在方向22d上旋轉(zhuǎn)；及研磨漿供應(yīng)部件30，其用于將研磨漿30a提供于壓板墊16的上部表面上。關(guān)于研磨壓板10，由馬達12產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力經(jīng)由動力傳輸帶11遞送至軸件 13，使得壓板基座14與軸件13 —起旋轉(zhuǎn)。分別將由軟材料制成的背襯層15及用于研磨程序的壓板墊16施加于壓板基座14的上部表面上?；遢d體單元20包括載體頭21，其用于裝載并固持基板55 ；旋轉(zhuǎn)軸件22，其經(jīng)驅(qū)動以與載體頭21 —體式地旋轉(zhuǎn)；馬達23，其用于驅(qū)動旋轉(zhuǎn)軸件22 ；小齒輪(pinion) 24， 其緊固至馬達軸件及齒輪25，齒輪25固定至旋轉(zhuǎn)軸件22以用于將馬達23的驅(qū)動力傳輸至旋轉(zhuǎn)軸件22 ；驅(qū)動支撐件沈，其用于以可旋轉(zhuǎn)方式收納旋轉(zhuǎn)軸件22 ；及汽缸27，其用于向上及向下移動驅(qū)動支撐件26且相抵于壓板墊16向下按壓基板55。在如上所構(gòu)造的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)中，基板55旋轉(zhuǎn)，且在被向下按壓于遠離壓板墊16的旋轉(zhuǎn)中心的位置處的同時接觸壓板墊16，且壓板墊16也同時地旋轉(zhuǎn)。當經(jīng)由研磨漿供應(yīng)管30將含有研磨劑及化學(xué)材料的研磨漿30a供應(yīng)于壓板墊16上時，引入該研磨漿以經(jīng)由在壓板墊16的上部表面上于X-Y方向上具有預(yù)定寬度及深度的凹槽圖案接觸基板 55與壓板墊16之間的表面，以研磨基板55的表面。同時，可通過旋轉(zhuǎn)式管套來體現(xiàn)用以相抵于壓板墊16向下按壓基板55的構(gòu)造，該旋轉(zhuǎn)式管套在接收到電信號后隨即驅(qū)動該旋轉(zhuǎn)式管套中的流體，該旋轉(zhuǎn)式管套的構(gòu)造在第 2004-75114號韓國特許公開專利中予以充分地揭示。在如上文所描述的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)中，可通過在經(jīng)由基板載體單元20的載體頭21裝載并固持一個基板之后接觸壓板墊16而逐一研磨基板55。然而，或者，可以以可同時地研磨復(fù)數(shù)個基板陽的方式來構(gòu)造化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，如在第2005-12586號韓國特許公開專利中所說明。換句話說，如圖3所示，已使用化學(xué)機械研磨系統(tǒng)1，其中提供劃分成復(fù)數(shù)個分支且圍繞旋轉(zhuǎn)中心41以可旋轉(zhuǎn)方式予以安裝的載體輸送器40，基板載體單元20安裝于載體輸送器40的末端40A、40B及40C處，且當通過基板裝載/卸載單元K將新基板5 及55 ‘ 裝配于基板載體單元20上時，載體輸送器40旋轉(zhuǎn)以在各個研磨壓板10、10'及10"上同時地研磨裝配于載體輸送器40的末端40A、40B及40C處的復(fù)數(shù)個基板55。然而，雖然圖3所示的已知的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)1能夠在復(fù)數(shù)個研磨壓板10、10' 及10"上同時地研磨復(fù)數(shù)個基板55，但該系統(tǒng)必須將用于驅(qū)動馬達23、汽缸27或旋轉(zhuǎn)式管套的電或壓縮空氣供應(yīng)至安置于載體輸送器40的末端40A、40B及40C處的每個基板載體單元20。因此，由于空氣壓力供應(yīng)管沿著分支延伸，所以該系統(tǒng)所具有的缺點在于空氣壓力供應(yīng)管可能會歸因于載體輸送器40的旋轉(zhuǎn)而變得圍繞彼此扭轉(zhuǎn)，該扭轉(zhuǎn)需要特定操作以使所述管恢復(fù)至其初始位置，因此降低研磨程序的效率。另外，該系統(tǒng)所具有的缺點在于隨著空氣壓力供應(yīng)管重復(fù)地扭轉(zhuǎn)，當長時期使用所述管時，顯現(xiàn)疲勞破裂的可能性增加。因此，該系統(tǒng)通過降低必須以預(yù)定壓力在研磨壓板上向下按壓基板的旋轉(zhuǎn)式管套的操作可信度而引起問題。

發(fā)明內(nèi)容
通過本發(fā)明克服現(xiàn)有技術(shù)的這樣的劣勢。本發(fā)明的一個目標在于提供一種化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，在該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)中，即使基板載體單元在裝載有基板時移動通過穿過復(fù)數(shù)個研磨壓板的循環(huán)路徑，也防止用于將壓縮空氣供應(yīng)至旋轉(zhuǎn)式管套的空氣壓力供應(yīng)管扭轉(zhuǎn)，因此能夠在該復(fù)數(shù)個研磨壓板上連續(xù)地研磨裝載于該基板載體單元處的所述基板。此外，本發(fā)明的另一目標在于提供一種化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)允許連續(xù)地研磨兩個或兩個以上基板以提高生產(chǎn)率，且實質(zhì)上防止電布線在同時研磨程序期間扭轉(zhuǎn)，因此確保該系統(tǒng)在無破壞的情況下被長時期可靠地使用。另外，本發(fā)明的又一目標在于提供一種化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)實現(xiàn)僅在一個方向上移動復(fù)數(shù)個基板的控制，因此提高用以同時地研磨復(fù)數(shù)個基板的程序的效率。為了達成上文所提及的目標，本發(fā)明提供一種化學(xué)機械研磨設(shè)備，該化學(xué)機械研磨設(shè)備包含至少一個研磨壓板，該至少一個研磨壓板以可旋轉(zhuǎn)方式予以安裝，其中，壓板墊裝配于所述至少一個研磨壓板的上部表面上；導(dǎo)軌，其沿著預(yù)定的路徑予以安置；基板載體單元，其包括用以在研磨程序期間向下按壓基板的旋轉(zhuǎn)式管套，該基板載體單元在裝載有該基板時沿著所述導(dǎo)軌移動；及銜接單元，其經(jīng)安裝以銜接至所述基板載體單元，以便在所述基板載體單元定位于所述研磨壓板上方時將空氣壓力供應(yīng)至向下按壓由所述基板載體單元固持的所述基板的所述旋轉(zhuǎn)式管套。因此，即使以分離路徑而非連續(xù)路徑形成第一路徑及第二路徑，也可通過載體固持器的移動在彼此分離的該第一路徑與該第二路徑之間輸送該基板載體單元，此情形使得可在不提供占用大空間的曲形路徑的情況下以循環(huán)路徑形成該基板載體單元的行進路徑。 也就是說，可了解，可以以循環(huán)形狀構(gòu)造該基板載體單元的該行進路徑，而可最小化該行進路徑的占用空間。另外，由于該基板載體單元的該行進路徑并非以連續(xù)形狀形成且以將經(jīng)由該載體固持器的該移動選擇性地連接所述分離路徑的方式構(gòu)造，因此可以以各種形狀自由地設(shè)計該基板載體單元的該行進路徑。舉例而言，可以以矩形形狀、正方形形狀、圓形形狀或任何其它形狀形成該基板載體單元的該行進路徑。具體地講，當以循環(huán)行進路徑形成該基板載體單元的該行進路徑時，該行進路徑所具有的優(yōu)點在于其具有極佳的可擴充性。換句話說，如果將該循環(huán)行進路徑構(gòu)造為單一回路狀導(dǎo)軌，則該回路狀導(dǎo)軌必須為可拆卸的，以便在需要添加新研磨壓板的狀況下將新研磨壓板插入至該循環(huán)行進路徑中。然而，根據(jù)本發(fā)明的該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，由于該第一路徑與該第二路徑分離且可以以直角彼此連接，因此可通過在筆直行進路徑中插入具備研磨壓板的框架而容易地擴充該系統(tǒng)。同時，本發(fā)明提供一種用于在裝配于沿著預(yù)定的路徑移動的基板載體單元上的基板的研磨程序期間使用旋轉(zhuǎn)式管套向下按壓該基板的方法，該方法包括以下步驟在不具有空氣壓力產(chǎn)生源的情況下將該基板移動至研磨壓板上方的預(yù)定位置；將安置于預(yù)定位置中的銜接單元銜接至該基板載體單元；將壓縮空氣從該銜接單元供應(yīng)至該基板載體單元； 及驅(qū)動供應(yīng)有壓縮空氣的該基板載體單元以向下按壓已裝配的該基板。因而，本發(fā)明的該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的該基板載體單元不需要用于移動該基板載體單元或旋轉(zhuǎn)該基板的驅(qū)動源，或用于將壓縮空氣供應(yīng)至該旋轉(zhuǎn)式管套的空氣壓力產(chǎn)生源，而僅需要遞送動力的部件。因此，該基板載體單元能夠通過控制配置于其外部的線圈的電流及通過與該銜接單元銜接且接著供應(yīng)有用于驅(qū)動該基板以旋轉(zhuǎn)的空氣壓力而沿著預(yù)定的路徑行進。因此，即使該基板載體單元沿著該循環(huán)路徑重復(fù)地行進，所述電布線或所述空氣壓力供應(yīng)管也不扭轉(zhuǎn)。換句話說，可注意，由于該基板載體單元是不同位置控制的且可獨立地移動而不受所述電布線或其類似者的影響，故可相對于復(fù)數(shù)個研磨壓板構(gòu)造單一循環(huán)路徑，且因此同時地研磨復(fù)數(shù)個基板。如在上文中所描述，以如下方式構(gòu)造本發(fā)明不需要且接著移除遵循該基板載體單元的該移動的所述空氣壓力供應(yīng)管，且在一位置中將該銜接單元銜接至該基板載體單元以將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力遞送至該基板載體單元，在該位置中，研磨裝載于該基板載體單元上的該基板。因此，應(yīng)了解，即使當該基板載體單元行進以在復(fù)數(shù)個研磨壓板上連續(xù)地研磨所述基板時，也可能具有實質(zhì)上消除所述空氣壓力供應(yīng)管歸因于該基板載體單元的該移動而變得扭轉(zhuǎn)的現(xiàn)象的優(yōu)點。另外，應(yīng)注意，本發(fā)明允許連續(xù)地研磨兩個或兩個以上基板，此情形提高該研磨程序的生產(chǎn)率，且實質(zhì)上防止所述空氣壓力供應(yīng)管在兩個或兩個以上基板的同時研磨程序期間扭轉(zhuǎn)，因此確保該系統(tǒng)在所述電布線無破壞的情況下被長時期可靠地使用。另外，本發(fā)明使得可控制復(fù)數(shù)個基板僅在任何一個方向上移動，而所述電布線或其類似者不會扭轉(zhuǎn)，此情形提高該復(fù)數(shù)個基板的同時研磨程序的效率。


圖1為說明現(xiàn)有技術(shù)中的一般化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的構(gòu)造的示意圖；圖2為圖1的研磨壓板及載體單元的構(gòu)造的詳細橫截面圖；圖3為圖1的平面圖；圖4為說明根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的配置的平面圖；圖5為說明圖4中的循環(huán)路徑的示意5
圖6為不包括研磨壓板的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的構(gòu)造的透視仰視圖；圖7為圖4的側(cè)視圖；圖8為根據(jù)圖7的切割線A-A的縱向橫截面圖；圖9為圖6中的X的放大透視圖；圖10為圖9的基板載體單元的剖示透視圖；圖11為圖10的側(cè)視圖；圖12為說明構(gòu)造的示意圖，在該構(gòu)造中，銜接單元的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力遞送至基板載體單元的被驅(qū)動軸件；及圖13為說明銜接單元的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的電力至基板載體單元的遞送的示意圖。主要組件符號說明1化學(xué)機械研磨系統(tǒng)
10研磨壓板/框架
10'研磨壓板/框架
10"研磨壓板/框架
11動力傳輸帶
12馬達
13軸件
14壓板基座
15背襯墊/背襯層
16壓板墊
20基板載體單元
21載體頭
22旋轉(zhuǎn)軸件
22d方向
22d'向下方向
23馬達
24小齒輪
25齒輪
26驅(qū)動支撐件
27汽缸
30研磨漿供應(yīng)部件/
30a研磨漿
30G托架
40載體輸送器
40A載體輸送器的末端
40B載體輸送器的末端
40C載體輸送器的末端
41旋轉(zhuǎn)中心
55基板0068]55'基板0069]55s基板0070]90線圈0071]100化學(xué)機械研磨0072]110研磨壓板0073]120基板載體單元0074]120d方向0075]120dl方向0076]120d2方向0077]120d4方向0078]120d5方向0079]121載體頭0080]122草冗0081]123旋轉(zhuǎn)式管套0082]123a空氣壓力接收埠0083]123X空氣壓力接收埠0084]124被驅(qū)動軸件0085]124s永久磁條0086]124r方向0087]125動力傳輸組件0088]125a小齒輪0089]125b傳動齒輪0090]125w蝸輪箱0091]126組件0092]127組件/導(dǎo)引滾筒0093]127U上部導(dǎo)引滾筒0094]127L下部導(dǎo)引滾筒0095]128永久磁條0096]128sS極永久磁體0097]128nN極永久磁體0098]130預(yù)定路徑/循環(huán) 0099]131第二路徑0100]131R固定軌0101]132第一路徑0102]132R第一導(dǎo)軌0103]133第二路徑0104]133R固定軌0105]134第三路徑0106]134R第三導(dǎo)軌0107]135載體固持器
0108]135R 第二導(dǎo)軌
0109]136載體固持器
0110]136d方向
0111]136R 第二導(dǎo)軌
0112]140調(diào)節(jié)器
0113]140d方向
0114]150研磨漿供應(yīng)單元
0115]160基板裝載單元
0116]170基板卸載單元
0117]180銜接單元
0118]181銜接馬達
0119]182導(dǎo)螺桿
0120]183移動區(qū)塊
0121]184支撐本體
0122]185驅(qū)動馬達
0123]185d方向
0124]186耦接軸件/中空部件
0125]186s永久磁條
0126]186r方向
0127]187壓縮空氣埠/空氣壓力連接埠
0128]187a空氣壓力供應(yīng)管
0129]220基板載體單元
0130]222馬達
0131]223旋轉(zhuǎn)式管套
0132]224連接器
0133]280銜接單元
0134]281a電力源
0135]282連接器
0136]287空氣壓力連接埠
0137]287a空氣壓力供應(yīng)管
0138]G隔音軌
0139]G'隔音軌
0140]K基板裝載/卸載單元
0141]Pl位置
0142]P2位置
0143]P3位置
0144]P4位置
0145]P5位置
P6 位置P7 位置
具體實施例方式因此，將經(jīng)由考慮及參照附圖(結(jié)合本文中所涉及的[具體實施方式
]予以檢視) 來最佳地理解本發(fā)明，在附圖中，貫穿各種圖的類似標號表示類似結(jié)構(gòu)。通過下面結(jié)合附圖對本發(fā)明進行的詳細描述，本發(fā)明的前述及其它目標、特征、方面及優(yōu)點將變得更顯而易見。在描述本發(fā)明時，省略公開功能或結(jié)構(gòu)的詳細描述，以便闡明本發(fā)明的要旨。圖4為說明根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的配置的平面圖，圖5 為說明圖4中的循環(huán)路徑的示意圖，圖6為不包括研磨壓板的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的構(gòu)造的透視仰視圖，圖7為圖4的側(cè)視圖，圖8為根據(jù)圖7的切割線A-A的縱向橫截面圖，圖9為圖6中的X的放大透視圖，圖10為圖9的基板載體單元的剖示透視圖，圖11為圖10的側(cè)視圖，且圖12為說明構(gòu)造的示意圖，在該構(gòu)造中，銜接單元的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力遞送至基板載體單元的被驅(qū)動軸件；及圖13為說明銜接單元的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的電力至基板載體單元的遞送的示意圖。如圖所示，根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)100包括復(fù)數(shù)個研磨壓板110，其以可旋轉(zhuǎn)方式安裝于框架10處且在其上部表面上裝配有壓板墊；基板載體單元120，其具備旋轉(zhuǎn)式管套123，基板載體單元120與裝配于其下部部分上的基板55 —起移動以在研磨壓板110上研磨已裝配基板55 ；導(dǎo)軌132R、134R、135R及136R，其用于沿著預(yù)定路徑130移動或固持基板載體單元120 ；研磨漿供應(yīng)單元150，其用于當基板55旋轉(zhuǎn)以在研磨壓板110上予以研磨時將研磨漿供應(yīng)于壓板墊上；調(diào)節(jié)器140，其用于將由研磨漿供應(yīng)單元150供應(yīng)的研磨漿均勻地供應(yīng)于壓板墊上；基板裝載單元160，其用于將待研磨的基板55 提供至定位于路徑130上的基板載體單元120 ；基板卸載單元170，其用于從基板載體單元 120卸載經(jīng)研磨的基板55 ；及銜接單元180，其銜接至基板載體單元120，以便在基板載體單元120定位于研磨壓板110上方時將空氣壓力供應(yīng)至基板載體單元120的旋轉(zhuǎn)式管套123 且遞送旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力以轉(zhuǎn)動基板陽。研磨壓板110以可旋轉(zhuǎn)方式緊固至框架10、10'及10"以研磨諸如晶圓或其類似者的基板陽。用于研磨基板陽的壓板墊附接至該基板的最上層上，且由軟材料制成的背襯層插入于該壓板墊之下，該背襯層的個別構(gòu)造與圖3所示的研磨壓板10類似或相同。本文中，復(fù)數(shù)個研磨壓板110配置于來自循環(huán)路徑130的第一路徑132中，循環(huán)路徑130包括用筆直圖案以非連續(xù)且分離的方式排列的路徑。參照圖5，在第一路徑132中， 操作基板載體單元120以僅在一個(左邊)方向上移動基板55以在研磨壓板110上予以研磨。因而，僅在一個方向上均勻地移動待研磨的基板55以執(zhí)行基板55的研磨程序，因此提高研磨程序的效率。當將研磨漿從研磨漿供應(yīng)單元150供應(yīng)于研磨壓板110的壓板墊上時，調(diào)節(jié)器140 在如圖中的標號140d所指示的方向上執(zhí)行掃掠移動(swe印ing movement)以允許壓板墊上的研磨漿均勻地分布。因此，所供應(yīng)的研磨漿以足夠量均勻地涂覆于基板陽上，而裝配于載體頭121上的基板55接觸壓板墊且相對于壓板墊旋轉(zhuǎn)。
研磨漿供應(yīng)單元150經(jīng)設(shè)計以將研磨漿供應(yīng)至研磨壓板110的壓板墊上。在需要用兩種或兩種以上研磨漿執(zhí)行研磨程序以研磨基板陽的狀況下，必須在各個不同的研磨壓板110上進行研磨程序。為此目的，不均勻地涂覆待供應(yīng)至研磨壓板110上的研磨漿，且取決于研磨程序，選擇適當?shù)难心{且將其依次供應(yīng)至研磨壓板110上。如圖4至圖6所示，循環(huán)路徑130包括穿過復(fù)數(shù)個研磨壓板110的兩列第一路徑 132、平行于第一路徑132安置于兩列第一路徑132之間的第三路徑134，及配置于第一路徑 132及第三路徑134的對置末端處的一對第二路徑131及133。此處，第一路徑132由第一導(dǎo)軌132R界定，第二路徑131及133由固定軌131R及133R界定，且第三路徑134由第三導(dǎo)軌134R界定。各個路徑131至134以彼此未連接的復(fù)數(shù)個路徑的形式予以配置。載體固持器 135及136使基板載體單元120橫越所述未連接路徑行進，這是因為載體固持器135及136 可容納基板載體單元120且橫越所述未連接路徑而與基板載體單元120 —起移動。因此， 可將載體固持器135及136提供于第二路徑131及133中，使得基板載體單元120可處于如下狀態(tài)下僅當載體固持器135及136到達位置P1、P4、P5及P7 (在這些位置處，基板載體單元120可轉(zhuǎn)移至第一路徑132或第三路徑134)時，基板載體單元才可行進通過分段路徑131至134。換句話說，基板載體單元120可分別在第一路徑132及第三路徑134中單獨地沿著第一導(dǎo)軌132R及第三導(dǎo)軌134R移動。然而，基板載體單元120不能在第二路徑131 及133中獨自地沿著固定軌131R及133R移動，且基板載體單元120僅可在處于被容納于載體固持器135及136的狀態(tài)下之后通過載體固持器135及136的移動沿著固定軌131R 及133R移動。在這一點上，更有效的是，當基板載體單元120沿著循環(huán)路徑130行進時始終在選定方向上定向基板載體單元120，以便控制基板載體單元120的移動，且其在下文中所描述的銜接單元180的配置方面是有利的。為此目的，如圖6所示，載體固持器135具備一對第二導(dǎo)軌135R，載體固持器136具備一對第二導(dǎo)軌136R，所述第二導(dǎo)軌面對相同方向且具有與用以界定第一路徑132及第三路徑134的第一導(dǎo)軌132R及第三導(dǎo)軌134R的尺寸及間隔相同的尺寸及間隔。因此，可將基板載體單元120面對的方向維持為恒定，而不考慮基板載體單元120的位置。S卩，位于第二導(dǎo)軌135R和136R上的基板載體單元120面對的方向與位于第一導(dǎo)軌132R或位于第三導(dǎo)軌134R上的基板載體單元120面對的方向相同。由于第一導(dǎo)軌132R及第三導(dǎo)軌134R以相同尺寸及間隔形成，因此基板載體單元120可平穩(wěn)且容易地從第一路徑132及第三路徑134到第二路徑131及133來回地行進。同時，在本發(fā)明的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)中，隔開且以直角配置于第一路徑132及第三路徑134的對置末端處的第二路徑131及133彼此分離。然而，可在這樣的路徑中移動基板載體單元120，在該路徑中，循環(huán)路徑130的方向性轉(zhuǎn)動點依靠經(jīng)由載體固持器135及 136的選擇性連接而形成為類似于頂點，此情形使得可以以矩形、三角形或其類似者的形狀排列循環(huán)路徑130。因此，如圖7所示，用于導(dǎo)引第三路徑134的第三導(dǎo)軌134R可被緊密地配置，而與用于導(dǎo)引第一路徑132的第一導(dǎo)軌132R沒有任何間隙。換句話說，可以以緊湊且緊密的方式制造基板載體單元120的路徑。由于本發(fā)明的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)的配置具有載體固持器135及136，因此可以以矩形形狀排列所述載體固持器，以體現(xiàn)緊湊的設(shè)施。另外，如圖4所示，其所具有的優(yōu)點在于本發(fā)明的系統(tǒng)可通過將具有研磨壓板110、第一導(dǎo)軌132R及第三導(dǎo)軌134R的框架10" 插入至現(xiàn)有設(shè)施/從現(xiàn)有設(shè)施抽取該框架而容易地增加或減少研磨壓板的數(shù)目。類似地， 可經(jīng)由相對于圖5所示的構(gòu)造選擇性地添加或移除第一路徑132及第三路徑134而簡單地調(diào)整研磨壓板的數(shù)目。因而，本發(fā)明的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)允許取決于生產(chǎn)方案而容易地擴充研磨設(shè)施。出于如所指的目的，平行于且面對基板載體單元120的行進路徑排列(更具體地講，沿著經(jīng)定位有復(fù)數(shù)個研磨壓板110的第一路徑132及第三路徑134排列)的線圈90并非與單一路徑形成為整體構(gòu)件，而是以分段圖案排列。因此，在需要增加化學(xué)機械研磨系統(tǒng) 100的研磨壓板110的數(shù)目的狀況下，可插入具備研磨壓板110及分段線圈90的框架模塊。 因此，基板載體單元120可沿著新插入框架的分段線圈90及現(xiàn)有框架的分段線圈90連續(xù)地移動，此情形使得易于擴充研磨壓板的數(shù)目且其所具有的優(yōu)點在于每個框架可由一個模塊的一個單元制造。具有固定于基板載體單元120的罩殼122內(nèi)的各種組件123至127的基板載體單元120經(jīng)控制以沿著路徑130移動，且復(fù)數(shù)個基板載體單元120經(jīng)獨立地控制以個別地移動。在圖4中，基板載體單元120由密集垂直線指示。在基板載體單元120正沿著循環(huán)路徑130在由標號120d指示的方向上移動的程序期間，基板載體單元120沿著配置于其對置側(cè)處的筆直導(dǎo)軌132R、133R、134R、135R及 136R行進。因此，基板載體單元120將其姿勢維持為始終面對恒定方向，因此，該基板載體單元在其輸送期間僅經(jīng)歷平移移動，而不經(jīng)歷旋轉(zhuǎn)移動。參照圖10，每個基板載體單元120包括載體頭121，其用于固持基板55 ；旋轉(zhuǎn)式管套123，其用于允許在基板55旋轉(zhuǎn)時在該基板的表面方向上按壓該基板；被驅(qū)動軸件 124，其具有用以從銜接單元180接收旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力的中空部件；動力傳輸組件125，其由軸件、齒輪或其類似者構(gòu)成以用于傳輸遞送至被驅(qū)動軸件124的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；從動齒輪，其安裝于載體頭121的旋轉(zhuǎn)軸件上以用于經(jīng)由通過動力傳輸組件125遞送的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力來驅(qū)動載體頭121 ；導(dǎo)引滾筒，其以可旋轉(zhuǎn)方式安裝于基板載體單元120的對置上部部分及下部部分處，以用于將導(dǎo)軌132R、134R、135R及136R收納于在該上部部分與該下部部分之間所形成的空間中；及永久磁條128，其在基板載體單元120的上部表面上以N極永久磁體128η及 S極永久磁體128s交替地排列，以用于使用線性馬達原理來移動基板載體單元120。此處，旋轉(zhuǎn)式管套123以類似于第2004-75114號韓國特許公開專利中所揭示的構(gòu)造及操作予以構(gòu)造。同時，第一路徑132的第一導(dǎo)軌132R、第三路徑134的第三導(dǎo)軌134R以及第二路徑131及133的固定軌131R及133R以固定方式緊固至框架10。在這一點上，第一導(dǎo)軌 132R及第三導(dǎo)軌134R連接并固定至從框架10向下延伸的托架30G。為了沿著第一路徑132及第三路徑1；34輸送基板載體單元120，線圈90經(jīng)配置且與沿著路徑132及133的方向提供于基板載體單元120的上部部分上的永久磁條1 隔開。 因此，通過調(diào)整施加至線圈90的電流的強度及方向，利用線性馬達的操作原理經(jīng)由線圈90 與永久磁條的相互作用而借助于導(dǎo)軌132R及134R沿著第一路徑132及第三路徑134予以導(dǎo)引，由此使基板載體單元120移動。此外，為了沿著第二路徑131及133移動固持基板載體單元120的載體固持器135及136，線圈90經(jīng)排列且與提供于基板載體單元120的上部
11部分上的永久磁條(圖中未顯示)隔開。因此，通過調(diào)整施加至線圈90的電流的強度及方向，利用線性馬達的操作原理經(jīng)由線圈90與永久磁條的相互作用而借助于固定軌131R及 133R沿著第二路徑131及133予以導(dǎo)引，由此使載體固持器135及136移動。類似地，為了允許基板載體單元120通過載體固持器135及136在第一路徑132 與第三路徑134之間來回地移動，將線圈90配置于載體固持器135及136的上部部分上， 使得基板載體單元120可通過線圈90與排列于基板載體單元120的上部部分上的永久磁條128的相互作用而在載體固持器135及136的內(nèi)部及外部移動。就被收納于基板載體單元120的上部導(dǎo)引滾筒127U與下部導(dǎo)引滾筒127L之間的導(dǎo)軌132R、134R、135R及136R而言，由橡膠材料制成的隔音軌G及G'附接至與導(dǎo)引滾筒 127U及127L接觸的導(dǎo)軌132R、134R、135R及136R的末端部分(如圖9所示)，以便允許該基板載體單元更加無聲地移動。如圖9所示，銜接單元180緊固至框架10。當感測到基板載體單元120到達預(yù)定位置時，將銜接單元180銜接至基板載體單元120以傳輸用于旋轉(zhuǎn)基板55的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力及旋轉(zhuǎn)式管套123所需要的空氣壓力。為此目的，銜接單元180包括銜接馬達181，其用于實現(xiàn)或釋放與基板載體單元120的銜接狀態(tài)；導(dǎo)螺桿182，其通過銜接馬達181而旋轉(zhuǎn)；移動區(qū)塊183，其具備與導(dǎo)螺桿182嚙合的陰螺紋，其中，移動區(qū)塊183在其旋轉(zhuǎn)受限制的情況下予以安裝且經(jīng)由導(dǎo)螺桿182的旋轉(zhuǎn)在由標號185d指示的方向上移動；支撐本體184，其與移動區(qū)塊183耦接，支撐本體184以整體方式與移動區(qū)塊183 —起移動；驅(qū)動馬達185，其固定至支撐本體184以用于產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力；耦接軸件186，其連接至驅(qū)動馬達185且通過驅(qū)動馬達185而旋轉(zhuǎn)；及復(fù)數(shù)個壓縮空氣埠187，其連接至支撐本體184且與支撐本體184 一起移動，以用于經(jīng)由空氣壓力供應(yīng)管187a將壓縮空氣供應(yīng)至基板載體單元120的旋轉(zhuǎn)式管套U3。參照圖9，基板載體單元120不具備用以產(chǎn)生旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力或空氣壓力的驅(qū)動源，因此，該基板載體單元需要從外部被供應(yīng)有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力或空氣壓力以執(zhí)行裝配于基板載體單元120處的基板55的研磨程序。因此，當裝配于基板載體單元120處的基板55到達研磨壓板110上的預(yù)定位置時，研磨壓板110向上移動，且接著，研磨壓板110的壓板墊接觸基板55。當銜接單元180的銜接馬達181在法線方向上轉(zhuǎn)動時，旋轉(zhuǎn)已受限制的移動區(qū)塊 183經(jīng)由導(dǎo)螺桿182的旋轉(zhuǎn)而朝著基板載體單元120移動。支撐本體183、耦接至支撐本體 183的驅(qū)動馬達185及耦接軸件186根據(jù)移動區(qū)塊183的移動而一起朝著基板載體單元120 移動，使得耦接軸件186以特定間隔被收納于被驅(qū)動軸件124內(nèi)，且壓縮空氣埠187插入至基板載體單元120的空氣壓力接收埠123X中，此情形構(gòu)成銜接狀態(tài)。在這一點上，如圖12所示，由交替排列的N極永久磁體與S極永久磁體組成的大約六個至十二個永久磁條186s配置于耦接軸件186的外部周邊上，而由交替排列的N極永久磁體與S極永久磁體組成的約六個至十二個永久磁條12如配置于具有中空部件186的被驅(qū)動軸件1 的內(nèi)部周邊上。因此，當耦接軸件186在由標號186i 指示的方向上旋轉(zhuǎn)時， 將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力從銜接單元180的耦接軸件186轉(zhuǎn)移至被驅(qū)動軸件124以在與由標號124r 指示的方向相同的方向上一起轉(zhuǎn)動該耦接軸件及該被驅(qū)動軸件，該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力由配置于被驅(qū)動軸件124的中空部件的內(nèi)部周邊上的永久磁條12 的磁力與配置于耦接軸件186的外部周邊上的永久磁條186s的磁力的相互作用產(chǎn)生。換句話說，在外部周邊處具備交替排列的N極永久磁體與S極永久磁體的耦接軸件186及在內(nèi)部周邊處具備交替排列的N極永久磁體與S極永久磁體的被驅(qū)動軸件IM構(gòu)成磁性耦接件(magnetic coupling)，且將由驅(qū)動馬達185產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力轉(zhuǎn)移至基板載體單元120。將遞送至基板載體單元120的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力傳輸至與被驅(qū)動軸件1 一起旋轉(zhuǎn)的小齒輪125a，且經(jīng)由蝸輪箱125w傳輸至傳動齒輪125b，由此驅(qū)動裝配有基板55的載體頭121。如上文所描述，使用由軸件IM及186形成的磁性耦接件將驅(qū)動馬達185的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力轉(zhuǎn)移至基板載體單元120。因此，可了解，即使當基板載體單元120未確切地定位于預(yù)定位置處而留下小的位置誤差時，也可容易地執(zhí)行基板載體單元120的位置控制，這是因為通過由軸件IM及186形成的非接觸式磁性耦接件轉(zhuǎn)移旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力。另外，可將從基板載體單元120外部所產(chǎn)生的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力穩(wěn)定地遞送至基板載體單元120內(nèi)部。如說明本發(fā)明的另一實施例的圖13所示，在銜接單元280銜接至基板載體單元 220的狀態(tài)下，有可能的是，銜接單元觀0的空氣壓力供應(yīng)管的空氣壓力連接埠287 連接至基板載體單元220的空氣壓力接收埠123X，以供應(yīng)基板載體單元220的旋轉(zhuǎn)式管套 223所必要的空氣壓力。圖13顯示本發(fā)明的另一類型的構(gòu)造，其中，用于旋轉(zhuǎn)基板55的馬達222裝配于基板載體單元220上，且用于驅(qū)動馬達222的電力源^la及控制信號經(jīng)由連接器2M及282而從銜接單元280傳輸至基板載體單元220。返回圖9，當銜接單元120的空氣壓力連接埠187連接至基板載體單元120的空氣壓力接收埠123X時(但圖中未顯示基板載體單元120內(nèi)的空氣壓力供應(yīng)管)，分別經(jīng)由空氣壓力供應(yīng)管187a將壓縮空氣供應(yīng)至復(fù)數(shù)個空氣壓力接收埠123a。如圖9所示，由于必須將壓縮空氣遞送至在不同高度處的旋轉(zhuǎn)式管套123，因此必須同時以與空氣壓力接收埠 123X的數(shù)目相同的數(shù)目連接空氣壓力供應(yīng)管187a及空氣壓力連接埠187，從而將空氣壓力從外部遞送至旋轉(zhuǎn)式管套123。當基板載體單元120完成對裝配于其上的預(yù)定位置處的基板55的所有研磨程序時，銜接馬達181在反向方向上旋轉(zhuǎn)以釋放銜接單元180與基板載體單元120之間的銜接狀態(tài)。接著，基板載體單元120移動至用于執(zhí)行下一研磨程序的另一研磨壓板，否則，當完成所有研磨程序時，該基板載體單元通過另一第二路徑133及第三路徑134移動至第二路徑131的基板卸載單元170。在下文中，將參照圖5詳細地說明根據(jù)本發(fā)明的較佳實施例的化學(xué)機械研磨設(shè)備的基板轉(zhuǎn)移系統(tǒng)的操作原理。步驟1 首先，使在定位于載體固持器135中的狀態(tài)下的基板載體單元120裝載有來自基板裝載單元160的基板55。接著通過調(diào)整施加至載體固持器135的上部的線圈的電流，沿著界定第二路徑131的固定軌131R移動載體固持器135以到達位置P1。在位置Pl 處，由于排列于載體固持器135處的第二導(dǎo)軌135R與第一路徑132的第一導(dǎo)軌132R實質(zhì)上連續(xù)地配置，因此載體固持器135可在無任何影響的情況下從第二路徑131平穩(wěn)地轉(zhuǎn)移至第一路徑132。步驟2 通過調(diào)整在安裝于載體固持器135的上部部分處的線圈中流動的電流，以線性馬達方式將定位于載體固持器135中的基板載體單元120從第二路徑131輸送至由標號120dl指示的方向，從而到達第一路徑132。然后，基板載體單元120移動至待首先研磨的第一研磨壓板I，從而到達位置P2。當感測到基板載體單元120到達第一研磨壓板I時，驅(qū)動銜接單元180的銜接馬達181以產(chǎn)生銜接單元180的驅(qū)動馬達185的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力可傳輸至基板載體單元120的狀態(tài)。同時，將銜接單元180的空氣壓力遞送至旋轉(zhuǎn)式管套123以產(chǎn)生可朝著壓板墊向下按壓基板陽的狀態(tài)。同時，當將空氣壓力遞送至旋轉(zhuǎn)式管套123時，使旋轉(zhuǎn)式管套123的內(nèi)部腔室膨脹以向下移動裝配于載體頭121上的基板55，從而產(chǎn)生基板55接觸壓板墊的狀態(tài)。 此后，從銜接單元180轉(zhuǎn)移旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力以轉(zhuǎn)動基板55，因此，可相抵于裝配于基板載體單元 120上的基板55執(zhí)行化學(xué)機械研磨程序。此處，即使不存在用于旋轉(zhuǎn)基板載體單元120中的基板陽的驅(qū)動源或用于將空氣壓力供應(yīng)至旋轉(zhuǎn)式管套123的壓縮空氣源，也可經(jīng)由銜接單元180的銜接而在研磨壓板I上執(zhí)行基板55的化學(xué)機械研磨程序。即使在研磨程序完成之后輸送基板載體單元，但由于可經(jīng)由安裝于基板載體單元處的止回閥而將旋轉(zhuǎn)式管套的空氣壓力維持在負壓狀態(tài)，因此可使基板載體單元保持以旋轉(zhuǎn)式管套的空氣壓力固持基板。因而，根據(jù)本發(fā)明的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)具有如下構(gòu)造其中移除了遵循基板載體單元的移動的用于旋轉(zhuǎn)裝配于基板載體單元120中的基板55的已知的電布線及空氣壓力供應(yīng)管，且另外，在研磨位置P2(在該位置中，基板55裝配于基板載體單元120上)中將銜接單元180銜接至基板載體單元120，以將旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力及空氣壓力遞送至基板載體單元 120。因此，本發(fā)明實質(zhì)上解決空氣壓力供應(yīng)管經(jīng)由基板載體單元120的移動而扭轉(zhuǎn)的現(xiàn)象，此情形使得可在復(fù)數(shù)個研磨壓板I、II及III上連續(xù)地研磨基板55。另外，由于可執(zhí)行在任何一個方向上移動復(fù)數(shù)個基板55的循環(huán)移動控制而電布線或其類似者不會扭轉(zhuǎn)，因此其可增加每單位小時經(jīng)歷研磨程序的基板的數(shù)目，從而提高研磨程序的生產(chǎn)力。步驟3 此后，取決于基板的種類，在來自第一研磨壓板I、第二研磨壓板II、第三研磨壓板III等等當中的一個或復(fù)數(shù)個研磨壓板上執(zhí)行研磨程序。同時，盡管圖中未顯示， 但根據(jù)本發(fā)明的另一實施例，除了研磨壓板Iio上在研磨操作下的基板載體單元120以外， 提供另一等待基板載體單元，由此提高研磨壓板110處的研磨效率。步驟4 接下來，當完成基板55的研磨程序時，基板載體單元120經(jīng)由第一路徑 132中的線圈的電流的控制而移動至位置Ρ3。當基板載體單元120到達位置Ρ3時，第二路徑133的載體固持器136移動至位置Ρ4且使載體固持器136的第二導(dǎo)軌136R能夠與第一路徑132的第一導(dǎo)軌132R成連續(xù)配置。因此，第一路徑132的基板載體單元120可在由標號120d2指示的方向上平穩(wěn)地轉(zhuǎn)移至第二路徑133。然后，收納基板載體單元120的載體固持器136在由標號136d指示的方向上移動，且第三路徑134的第三導(dǎo)軌134R與載體固持器136的第二導(dǎo)軌136R連續(xù)地配置。步驟5 此后，在上部第一路徑132中執(zhí)行研磨程序的基板載體單元120及在下部第一路徑132中執(zhí)行研磨程序的基板載體單元120均通過第三路徑134釋放基板。為此目的，第二路徑133中的基板載體單元120在由標號120d4指示的方向上移動且轉(zhuǎn)移至第三路徑134，且接著，該基板載體單元沿著第三路徑134移動至位置P6。當基板載體單元120到達位置P6時，第二路徑131的載體固持器135移動至位置 P7，且使載體固持器135的第二導(dǎo)軌135R能夠與第三路徑134的第三導(dǎo)軌134R成連續(xù)配置。因此，第三路徑134的基板載體單元120可在由標號120d5指示的方向上平穩(wěn)地轉(zhuǎn)移
14至第二路徑133。步驟6 接著，被收納于第二路徑131的載體固持器135中的基板載體單元120移動至基板卸載單元170，且釋放完成研磨程序的基板。此后，重復(fù)步驟1至6。產(chǎn)業(yè)上的可利用性如上文中所描述，僅在基板55的研磨程序(其需要電信號及空氣壓力)中將基板載體單元120銜接至銜接單元180，以便接收驅(qū)動旋轉(zhuǎn)式管套123所必要的電信號、旋轉(zhuǎn)驅(qū)動力及空氣壓力。因此，此情形所具有的優(yōu)點在于基板載體單元120可沿著路徑130自由地移動而不會引起電布線及空氣壓力供應(yīng)管183a扭轉(zhuǎn)。此外，如果基板載體單元120未將馬達承載于其中，則此情形可防止電布線扭轉(zhuǎn)，以及降低基板載體單元120的重量。因此， 可了解，易于控制歸因于基板載體單元120的輕量的該基板載體單元的移動，且可減少移動基板載體單元120所必要的電力消耗。由于可在不脫離本發(fā)明的精神或基本特性的情況下以若干形式體現(xiàn)本發(fā)明，因此還應(yīng)理解，除非另有規(guī)定，否則上述實施例不受前述細節(jié)中的任何一個的限制，而是應(yīng)在權(quán)利要求中所界定的本發(fā)明的精神及范疇內(nèi)廣泛地解釋這些實施例，且因此，屬于權(quán)利要求的界限或該界限的等效物的所有改變及修改意欲為權(quán)利要求所涵蓋。
權(quán)利要求
1.一種化學(xué)機械研磨設(shè)備，該化學(xué)機械研磨設(shè)備包含至少一個研磨壓板，該至少一個研磨壓板以可旋轉(zhuǎn)方式予以安裝，其中，壓板墊裝配于所述至少一個研磨壓板的上部表面上；導(dǎo)軌，沿著預(yù)定的路徑予以安置；基板載體單元，包括用以在研磨程序期間向下按壓基板的旋轉(zhuǎn)式管套，該基板載體單元在裝載有該基板時沿著所述導(dǎo)軌移動；及銜接單元，經(jīng)安裝以銜接至所述基板載體單元，以便在所述基板載體單元定位于所述研磨壓板上方時將空氣壓力供應(yīng)至向下按壓由所述基板載體單元固持的所述基板的所述旋轉(zhuǎn)式管套。
2.如權(quán)利要求1所述的化學(xué)機械研磨設(shè)備，其中，復(fù)數(shù)個研磨壓板沿著所述路徑予以提供，且所述導(dǎo)軌經(jīng)配置以允許所述基板載體單元穿過所述復(fù)數(shù)個研磨壓板。
3.如權(quán)利要求2所述的化學(xué)機械研磨設(shè)備，其中，所述路徑為循環(huán)路徑。
4.如權(quán)利要求3所述的化學(xué)機械研磨設(shè)備，其中，所述導(dǎo)軌以封閉回路而形成。
5.如權(quán)利要求3所述的化學(xué)機械研磨設(shè)備，其中，具有第一路徑及第二路徑的所述路徑包括在該第一路徑與該第二路徑之間的未連接路徑，所述基板載體單元通過橫越該未連接路徑的載體固持器予以承載，該載體固持器容納所述基板載體單元且橫越所述未連接路徑而與所述基板載體單元一起移動，從而使所述基板載體單元行進通過所述路徑。
6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的化學(xué)機械研磨設(shè)備，其中，所述基板載體單元既未承載驅(qū)動源也未承載電力源，其中，空氣壓力供應(yīng)管在基板研磨程序期間連接至所述基板載體單元。
7.一種用于在裝載于沿著預(yù)定的路徑移動的基板載體單元上的基板的研磨程序期間使用旋轉(zhuǎn)式管套向下按壓該基板的化學(xué)機械研磨方法，該化學(xué)機械研磨方法包含以下步驟在不具有空氣壓力產(chǎn)生源的情況下將所述基板移動至研磨壓板上方的預(yù)定位置；將安置于預(yù)定位置處的銜接單元銜接至所述基板載體單元；將壓縮空氣從所述銜接單元供應(yīng)至所述基板載體單元；及驅(qū)動供應(yīng)有該壓縮空氣的所述基板載體單元以向下按壓已裝配的所述基板。
8.如權(quán)利要求7所述的化學(xué)機械研磨方法，其中，所述基板載體單元在循環(huán)路徑中移動。
9.一種化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，其中，基板載體單元在裝載有基板時沿著預(yù)定的路徑移動， 且在來自復(fù)數(shù)個研磨壓板中的一個或多個研磨壓板上研磨該基板，其中，所述基板載體單元不具備驅(qū)動馬達或電力源。
10.如權(quán)利要求9所述的化學(xué)機械研磨系統(tǒng)，其中，所述基板載體單元具備能夠向下按壓所述基板的旋轉(zhuǎn)式管套，其中，用于將空氣壓力供應(yīng)至該旋轉(zhuǎn)式管套的空氣壓力供應(yīng)管僅在所述基板載體單元定位于研磨位置處時才連接至所述基板載體單元。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種化學(xué)機械研磨設(shè)備、方法及系統(tǒng)，該化學(xué)機械研磨系統(tǒng)包含至少一個研磨壓板，以可旋轉(zhuǎn)方式予以安裝，其中，壓板墊裝配于該至少一個研磨壓板的上部表面上；導(dǎo)軌，沿著預(yù)定的路徑予以安置；基板載體單元，包括用以在研磨程序期間向下按壓基板的旋轉(zhuǎn)式管套，該基板載體單元在裝載有該基板時沿著該導(dǎo)軌移動；銜接單元，經(jīng)安裝以銜接至該基板載體單元，以便在該基板載體單元定位于該研磨壓板上方時，將空氣壓力供應(yīng)至向下按壓由基板載體單元固持的基板的旋轉(zhuǎn)式管套，因此，即使移動該基板載體單元以在該復(fù)數(shù)個研磨壓板上連續(xù)地研磨該基板，該基板載體單元也實質(zhì)上消除由該基板載體單元的移動所引起的空氣壓力供應(yīng)管的扭轉(zhuǎn)的現(xiàn)象。
文檔編號B24B37/00GK102233542SQ20111011626
公開日2011年11月9日 申請日期2011年5月3日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月30日
發(fā)明者全燦云, 具滋鐵, 夫在弼, 徐建植, 潘俊昊, 金東秀 申請人:K.C.科技股份有限公司, 三星電子株式會社