專利名稱：設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種原子層沉積設(shè)備，尤其涉及如權(quán)利要求I的前序部分所述的設(shè)備，用于通過對襯底表面進(jìn)行交替的起始物料表面反應(yīng)而在襯底表面上進(jìn)行原子層沉積，該設(shè)備包括兩個(gè)或更多個(gè)低壓室；兩個(gè)或更多個(gè)獨(dú)立的可動反應(yīng)室，這些反應(yīng)室設(shè)置用于放在低壓室內(nèi)部；以及至少一個(gè)起始物料輸入系統(tǒng)，它由兩個(gè)或更多個(gè)低壓室共用，用于進(jìn)行原子層沉積。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)有技術(shù)的原子層沉積設(shè)備中，通過將兩種或更多種氣態(tài)起始物料交替輸入到涂覆室內(nèi)，對待處理的襯底進(jìn)行起始物料的交替的飽和表面反應(yīng)，從而涂覆襯底或?qū)Χ嗫滓r底進(jìn)行摻雜。在各次起始物料輸入之間，可以用沖洗氣體對涂覆室進(jìn)行沖洗。根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)，這種原子層沉積設(shè)備可以包括氣體輸入系統(tǒng)，用于向涂覆室輸送起始物料和沖洗氣體；加熱裝置，用于將裝載到涂覆室內(nèi)的襯底加熱到處理溫度；裝載裝置，用于給涂覆室裝
載和卸載襯底；以及控制單元，用于控制氣體輸入和加熱以及給該設(shè)備裝載和卸載襯底。該設(shè)備還可以包括幾個(gè)低壓室，它們能夠同時(shí)或不同時(shí)地用于處理不同反應(yīng)室內(nèi)的許多不同襯底。在這些眾多的低壓室中，有兩個(gè)或更多個(gè)可以連接至共用的起始物料輸入系統(tǒng)。當(dāng)該設(shè)備包括操作性地連接至共用的起始物料輸入系統(tǒng)和控制系統(tǒng)的數(shù)個(gè)涂覆室時(shí)，可以將襯底裝載到數(shù)個(gè)涂覆室內(nèi)，并可以同時(shí)地、交替地或者順序地用氣態(tài)起始物料對不同涂覆室內(nèi)的這些襯底進(jìn)行處理。這能夠使該原子層沉積設(shè)備被做成能夠基本連續(xù)操作，以便利用原子層沉積方法在一個(gè)涂覆室內(nèi)同時(shí)地處理這些襯底。這就能夠基本連續(xù)地處理襯底，在一個(gè)或多個(gè)涂覆室內(nèi)的襯底被同時(shí)處理，并且其他涂覆室內(nèi)的襯底被裝載到涂覆室或者從涂覆室卸載。這樣能夠從該設(shè)備更均勻地供應(yīng)處理過的襯底，從而進(jìn)一步有助于應(yīng)對后勤要求和減少對例如中間庫存的需求。在包括多個(gè)平行涂覆室的現(xiàn)有技術(shù)設(shè)備中，存在與復(fù)雜的襯底裝載裝置有關(guān)的問題。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種用于在襯底表面上進(jìn)行原子層沉積的設(shè)備，以便能夠解決上述問題。本發(fā)明的目的通過權(quán)利要求I特征部分所述的設(shè)備來實(shí)現(xiàn)。本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例在從屬權(quán)利要求中公開。本發(fā)明的基本思想是，原子層沉積設(shè)備設(shè)置有兩個(gè)或更多個(gè)涂覆室，這些涂覆室操作性地連接至該設(shè)備的起始物料輸入系統(tǒng)和控制系統(tǒng)。在此情況下，待處理的襯底可以裝載到數(shù)個(gè)涂覆室內(nèi)，位于不同涂覆室內(nèi)的這些襯底可以被同時(shí)、交替或者順序地加熱和用氣態(tài)起始物料進(jìn)行處理。根據(jù)一個(gè)實(shí)施例，襯底可以例如在三個(gè)涂覆室內(nèi)加熱，同時(shí)通過對一個(gè)涂覆室內(nèi)的襯底的表面進(jìn)行交替的氣態(tài)起始物料表面反應(yīng)而用原子層沉積方法對襯底進(jìn)行處理。當(dāng)在所述一個(gè)涂覆室內(nèi)的襯底處理完成并結(jié)束之后，從該涂覆室中取出處理過的襯底并用新的襯底代替,并開始加熱新的襯底。同時(shí),根據(jù)原子層沉積方法,開始處理第二涂覆室內(nèi)的已加熱襯底。類似地，在第二涂覆室內(nèi)的處理結(jié)束之后，開始處理第三涂覆室內(nèi)已經(jīng)被加熱過的襯底，將待加熱的新襯底裝載到第二涂覆室內(nèi)，等等。本發(fā)明的方法和系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)是，數(shù)個(gè)涂覆室能夠使原子層沉積設(shè)備基本連續(xù)操作，以便在一個(gè)涂覆室內(nèi)利用原子層沉積方法同時(shí)處理襯底。這就使得能夠基本連續(xù)地處理襯底，當(dāng)在一個(gè)涂覆室內(nèi)的襯底被同時(shí)處理的同時(shí)，其他涂覆室內(nèi)的襯底同時(shí)已經(jīng)正在被加熱從而準(zhǔn)備處理。這使得從該設(shè)備能夠更均勻地供應(yīng)經(jīng)過處理的襯底，從而進(jìn)一步有助于解決后勤要求和減少對例如中間庫存的需求。同時(shí)，當(dāng)一個(gè)起始物料輸入系統(tǒng)和襯底裝載系統(tǒng)可以服務(wù)于多個(gè)涂覆室時(shí)，可以減少該設(shè)備的輔助裝置的數(shù)量。此外，一個(gè)設(shè)備的各個(gè)涂覆室例如可以彼此疊置，這就能夠減小該設(shè)備的表面積，從而進(jìn)一步節(jié)省了生產(chǎn)空間的地板面積。本發(fā)明的技術(shù)方案還能夠?qū)ο嗤囊r底處理量使用較小的涂覆室。在較小的涂覆室內(nèi)，能夠以更好的方式均勻地輸入氣體，這就提高了襯底處理質(zhì)量。


現(xiàn)在將結(jié)合優(yōu)選實(shí)施例并參照附圖I和附圖2對本發(fā)明進(jìn)行更詳細(xì)描述，附圖I和附圖2是表示本發(fā)明一些實(shí)施例的示意圖。
具體實(shí)施例方式附圖I表示本發(fā)明的設(shè)備I的一個(gè)實(shí)施例，用于實(shí)施原子層沉積。該設(shè)備包括主體，該主體具有起始物料輸入系統(tǒng)5、控制系統(tǒng)4和四個(gè)低壓室2。換言之，根據(jù)本發(fā)明，同一個(gè)原子層沉積設(shè)備設(shè)置有數(shù)個(gè)低壓室2。該設(shè)備I可以具有兩個(gè)或兩個(gè)以上的低壓室2。在圖I中，低壓室2置于設(shè)備I內(nèi)，沿豎直方向疊置，但是替代地，低壓室2也可以沿水平方向并列設(shè)置在設(shè)備內(nèi)。此外，如果該設(shè)備包括大量低壓室2，那么它們可以例如以矩陣方式設(shè)置，其中，低壓室2既沿水平方向并列，又沿豎直方向疊置。這些低壓室2可以是任何形狀或形式的，例如可以是圓筒形的，如圖I所示。該設(shè)備I還包括起始物料輸入系統(tǒng)5，用于給低壓室2輸入氣態(tài)起始物料，以便實(shí)施原子層沉積。該起始物料輸入系統(tǒng)5包括一個(gè)或多個(gè)起始物料源，例如氣體容器或坩堝，以及將起始物料引向低壓室2的管道。換言之，起始物料以氣態(tài)輸入反應(yīng)器內(nèi)，但是在起始物料罐中它們可以是氣體、液體或者固體。起始物料輸入系統(tǒng)5至少部分地被兩個(gè)或更多個(gè)或所有低壓室2共用。例如，至少一些氣態(tài)起始物料源或沖洗氣體源可以被所有低壓室2共用，或者替代地，每個(gè)低壓室2還可以具有其自己的一些起始物料源。用于從低壓室2排出起始物料或沖洗氣體并屬于起始物料輸入系統(tǒng)5的抽吸裝置也可以被兩個(gè)或更多個(gè)或所有低壓室2共用。在一具體例子中，設(shè)備I可以設(shè)置有兩個(gè)或更多個(gè)起始物料輸入系統(tǒng)5，以便一個(gè)起始物料輸入系統(tǒng)5至少部分地被至少兩個(gè)低壓室2共用。換言之，要點(diǎn)是該起始物料輸入系統(tǒng)5的至少一部分(包括與輸入和排出起始物料相關(guān)的所有元件在內(nèi))由至少兩個(gè)與其操作性連接的涂覆室2共用。設(shè)備I優(yōu)選包括用于在低壓室2內(nèi)產(chǎn)生低壓的低壓裝置。該低壓裝置優(yōu)選由所有或至少兩個(gè)低壓室2共用，或者替代地，每個(gè)低壓室2可以包括其自己的低壓裝置。該設(shè)備I還包括多個(gè)內(nèi)部放置有襯底的獨(dú)立反應(yīng)室8。這些反應(yīng)室8放在低壓室2內(nèi)部，以便在反應(yīng)室8內(nèi)部執(zhí)行在襯底表面上的原子層沉積。在此情況下，反應(yīng)室8構(gòu)成本發(fā)明的涂覆室。在根據(jù)附圖I的技術(shù)方案中，反應(yīng)室8是可動的，以便它們可以裝入低壓室2并從中取出。此外，當(dāng)反應(yīng)室8位于低壓室2外部時(shí)，襯底放置在反應(yīng)室8內(nèi)并從中取出。這樣，在置于一個(gè)低壓室2內(nèi)的反應(yīng)室8內(nèi)同時(shí)執(zhí)行利用原子層沉積方法對襯底的處理的同時(shí)，加熱位于其他低壓室2內(nèi)的反應(yīng)室8中的襯底。反應(yīng)室8還可以固定地設(shè)置在低壓室2內(nèi)，以便將襯底直接裝入低壓室2內(nèi)部的反應(yīng)室8內(nèi)，以執(zhí)行原子層沉積。反應(yīng)室8可以做成能夠同時(shí)接納一個(gè)或多個(gè)襯底。襯底還可以裝到獨(dú)立的裝載運(yùn)載器上，該裝載運(yùn)載器被插入反應(yīng)室8內(nèi)。該裝載運(yùn)載器可以做成接納一個(gè)或多個(gè)襯底。該裝載運(yùn)載器還可以裝入設(shè)置在低壓室2內(nèi)部的固定反應(yīng)室2內(nèi)，或者替代地，該裝載運(yùn)載器可以裝入位于低壓室2外部的可動反應(yīng)室8內(nèi)。該裝載運(yùn)載器還可以設(shè)置有氣體分配 部，用于在反應(yīng)室內(nèi)和裝載運(yùn)載器內(nèi)均勻分配氣態(tài)起始物料。在本發(fā)明的可選實(shí)施例中，設(shè)備I只包括一個(gè)低壓室2，但是包括多個(gè)反應(yīng)室8，因此反應(yīng)室構(gòu)成了本發(fā)明的涂覆室，在其內(nèi)部，通過原子層沉積方法對襯底進(jìn)行處理。在此情況下，低壓室2可以設(shè)置成同時(shí)接納兩個(gè)或更多個(gè)反應(yīng)室。通過原子層沉積方法對襯底的處理是在低壓室2內(nèi)部的一個(gè)反應(yīng)室8內(nèi)同時(shí)進(jìn)行，同時(shí)低壓室2內(nèi)部反應(yīng)室內(nèi)的其他襯底被加熱。當(dāng)一個(gè)反應(yīng)室8內(nèi)襯底的處理完成時(shí)，可以打開該低壓室，從該低壓室2和該特定反應(yīng)室8中取出處理過的襯底，并可裝入新的襯底以取代之前的襯底。接著，關(guān)閉低壓室2，開始處理在下一個(gè)反應(yīng)室8內(nèi)已經(jīng)加熱的襯底，同時(shí)開始加熱新的裝入的襯底。此外，在該實(shí)施例中，反應(yīng)室8可以固定安裝在低壓室2內(nèi)，在此情況下，襯底可以直接裝入低壓室2內(nèi)部的反應(yīng)室8內(nèi)。在另一個(gè)實(shí)施例中，該設(shè)備可以包括一個(gè)或多個(gè)低壓室2、用作涂覆室的兩個(gè)或更多個(gè)反應(yīng)室8、以及一個(gè)或多個(gè)加熱室(例如加熱爐或加熱工位)。根據(jù)該實(shí)施例，可以在對安裝在一個(gè)低壓室2中的反應(yīng)室8內(nèi)的襯底同時(shí)進(jìn)行處理的同時(shí)，對加熱室內(nèi)的其他反應(yīng)室8中的襯底加熱。可選地，反應(yīng)室被固定地安裝。在對該一個(gè)反應(yīng)室8內(nèi)的襯底進(jìn)行處理之后,從該特定的低壓室2中取出處理過的襯底以及反應(yīng)室8，并將容納有已加熱襯底的新反應(yīng)室8從加熱室裝到該低壓室2內(nèi)。如果該設(shè)備包括兩個(gè)或更多個(gè)低壓室2，那么就可以在處理一個(gè)低壓室2內(nèi)的襯底的同時(shí),從另一個(gè)低壓室2內(nèi)取出處理過的襯底并裝入新的襯底。因此，加熱、裝載和取出襯底這些耗時(shí)的工序在設(shè)備運(yùn)行過程中將不會產(chǎn)生空閑時(shí)間，而是可以基本連續(xù)地處理襯底。在所有前面的實(shí)施例中，其中，反應(yīng)室8被放置或?qū)⒈环胖糜诘蛪菏?內(nèi)，每個(gè)低壓室2可以同時(shí)設(shè)置有兩個(gè)或更多個(gè)反應(yīng)室8。根據(jù)圖I，該設(shè)備還包括用于給低壓室2裝載襯底的裝載裝置6。該裝載裝置6優(yōu)選做成服務(wù)于兩個(gè)或更多個(gè)低壓室2，優(yōu)選服務(wù)于設(shè)備I的所有低壓室2。該裝載裝置6因此設(shè)置成向一個(gè)或多個(gè)低壓室2裝載襯底和從一個(gè)或多個(gè)低壓室2卸載襯底。該裝載裝置6還設(shè)置成向一個(gè)或多個(gè)低壓室2裝載獨(dú)立的可動反應(yīng)室8和從一個(gè)或多個(gè)低壓室2卸載獨(dú)立的可動反應(yīng)室8。在此情況下，裝載裝置6還可以做成向可動反應(yīng)室8裝載襯底和從可動反應(yīng)室8卸載襯底。圖I表示裝載裝置6的示意圖，其中，在襯底裝載工位處把襯底裝載到反應(yīng)室8中。接著，利用裝載裝置6將反應(yīng)室8裝載在低壓室2中進(jìn)行原子層沉積。在低壓室2內(nèi)進(jìn)行處理之后，從低壓室2中取出反應(yīng)室8并傳送到襯底裝載工位，在此處，將處理過的襯底取出反應(yīng)室8，進(jìn)一步例如轉(zhuǎn)送、裝載到運(yùn)送運(yùn)載器上。因此，同一裝載裝置6可以用來服務(wù)于設(shè)備I的所有低壓室和/或反應(yīng)室?？蛇x地，該裝載裝置6還可以設(shè)置成服務(wù)于兩個(gè)或更多個(gè)相鄰的設(shè)備I。低壓室2可以設(shè)置成包括裝載口，用裝載裝置6可以把襯底或反應(yīng)室8通過該裝載口裝載到低壓室2內(nèi)以及從中取出。在可選實(shí)施例中，低壓室2分別包括用于將反應(yīng)室8和/或襯底裝載到涂覆室2內(nèi)的裝載口，以及用于從低壓室2取出反應(yīng)室8和/或襯底的卸載口。在此情況下，裝載裝置6可以包括分別用于對低壓室2裝載和卸載的獨(dú)立致動器。優(yōu)選地，裝載口和卸載口設(shè)置在低壓室2的相對側(cè)，以便襯底或反應(yīng)室8可以穿過低壓室2。設(shè)備I還設(shè)置有加熱裝置，用于將裝載到低壓室2內(nèi)的襯底加熱到期望的溫度。為了進(jìn)行原子層沉積，通常在可以有效執(zhí)行原子層沉積之前將襯底加熱到明顯高于環(huán)境溫度的溫度。加熱必須以受控方式執(zhí)行，因此相對于實(shí)際原子層沉積工序而言通常要花費(fèi)很多時(shí)間，尤其是當(dāng)在襯底上沉積多個(gè)薄層時(shí)。優(yōu)選地，加熱裝置設(shè)置用于獨(dú)立于其他涂覆室2地加熱裝載在各涂覆室2內(nèi)的襯底。換言之，加熱裝置和氣體輸入系統(tǒng)5優(yōu)選設(shè)置成使各
涂覆室2的操作獨(dú)立于其他涂覆室，這就能夠在一個(gè)或多個(gè)涂覆室2內(nèi)加熱襯底的同時(shí)，利用起始物料輸入系統(tǒng)5在一個(gè)或多個(gè)其他涂覆室內(nèi)進(jìn)行原子層沉積。每個(gè)涂覆室2可以具有獨(dú)立的加熱裝置；或者可選地，加熱裝置可以至少部分地由兩個(gè)或更多個(gè)涂覆室2共用。本發(fā)明的設(shè)備I還包括控制系統(tǒng)4，用于控制涂覆室2和/或起始物料輸入系統(tǒng)5和/或裝載裝置6和/或加熱裝置的操作?？刂葡到y(tǒng)4能夠根據(jù)需要來控制設(shè)備的操作，以便設(shè)備I能夠按照需要全部地進(jìn)行襯底的處理。在此情況下，控制系統(tǒng)4例如可以設(shè)置成能夠同時(shí)地利用加熱裝置加熱一個(gè)或多個(gè)涂覆室2內(nèi)的襯底以及利用起始物料輸入裝置5同時(shí)完成一個(gè)或多個(gè)其他涂覆室2內(nèi)的涂覆處理。這樣，可以實(shí)施該設(shè)備的操作，例如使各涂覆室2在稍微不同的階段操作，以便在對一個(gè)涂覆室2內(nèi)的襯底進(jìn)行處理時(shí)，其他涂覆室2是用于執(zhí)行要在加熱襯底的不同階段進(jìn)行的對襯底的處理。可選地，起始物料輸入系統(tǒng)5可以設(shè)置成同時(shí)向一個(gè)或多個(gè)涂覆室2輸入起始物料。因此，起始物料輸入系統(tǒng)5還可以設(shè)置成同時(shí)或不同時(shí)地向兩個(gè)或更多個(gè)涂覆室2輸入相同的或不同的起始物料。因此，可以沒有長時(shí)間休止停頓地高效使用起始物料輸入系統(tǒng)5和裝載裝置。圖2表示本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例，其中，用于執(zhí)行原子層沉積的設(shè)備I包括彼此平行設(shè)置和/或疊置的兩個(gè)或更多個(gè)低壓室2。低壓室2內(nèi)設(shè)置有固定反應(yīng)室8，反應(yīng)室8操作性地連接至起始物料輸入系統(tǒng)5。裝載裝置包括裝載工位10，從該裝載工位接納新的襯底
11。襯底11還可以已安裝在支撐件(未表示)上，該支撐件進(jìn)一步安裝在裝載運(yùn)載器12上?？蛇x地，襯底11直接裝載到裝載運(yùn)載器12上。裝載裝置包括預(yù)熱工位13，在襯底11裝載到低壓室2內(nèi)部的反應(yīng)室8內(nèi)進(jìn)行處理之前，襯底11在預(yù)熱工位13內(nèi)加熱。預(yù)熱工位13可以包括爐或相應(yīng)的加熱室，用于在襯底11或者載有襯底11的裝載運(yùn)載器12被裝載到反應(yīng)室8和低壓室2內(nèi)之前，接納襯底11或者帶有襯底11的裝載運(yùn)載器12以進(jìn)行加熱。在預(yù)熱工位13內(nèi)，襯底11優(yōu)選被加熱到處理溫度。該裝載運(yùn)載器12優(yōu)選設(shè)置成使其形成反應(yīng)室8的一部分，在此情況下，將裝載運(yùn)載器12放入反應(yīng)室8內(nèi)的同時(shí)將使反應(yīng)室8關(guān)閉。在被裝載到低壓室2內(nèi)之前，裝載運(yùn)載器12優(yōu)選還具有氣體分配部分(未表示)。同樣地，在從低壓室2取出時(shí)，從裝載運(yùn)載器12上取下該氣體分配部分(例如氣體分配板)。該氣體分配部分安裝在襯底11頂部，以便將氣態(tài)起始物料均勻分布在襯底11上。
把在預(yù)熱工位13內(nèi)加熱后的襯底11裝載到在裝載運(yùn)載器12上的反應(yīng)室8內(nèi)，并關(guān)閉低壓室2進(jìn)行處理。同時(shí)，將后續(xù)的襯底11裝載到新的裝載運(yùn)載器12上，將該裝載運(yùn)載器放在預(yù)熱工位13內(nèi)以便對襯底11進(jìn)行加熱。在處理之后，打開低壓室2，打開反應(yīng)室8，從反應(yīng)室8內(nèi)取出裝載運(yùn)載器12并將其放置在裝載工位10。在裝載工位10中，將襯底11或者帶有襯底11的支撐件從裝載運(yùn)載器12取出，并運(yùn)送到冷卻工位14，處理過的襯底11留在冷卻工位進(jìn)行冷卻。一旦處理后的襯底11已冷卻，就可以將其從冷卻工位14運(yùn)送到運(yùn)送工位15以便繼續(xù)轉(zhuǎn)送。在根據(jù)圖2的技術(shù)方案中，前述所有工序都由一個(gè)自動機(jī)械16進(jìn)行，該自動機(jī)械包括一個(gè)或多個(gè)機(jī)械手17。裝載裝置優(yōu)選放置在低壓室2外，處于大氣壓力下，即在標(biāo)準(zhǔn)大氣壓下。本發(fā)明的裝載裝置的要點(diǎn)在于同一裝載裝置能夠?qū)⒁r底11裝載到獨(dú)立的可動反應(yīng)室8中或者裝載到該反應(yīng)室的可動部分(例如裝載運(yùn)載器12)上，還能夠?qū)⒎磻?yīng)室8或者其一部分裝載到低壓室內(nèi)。同樣地，該裝載裝置能夠?qū)⒎磻?yīng)室8或其一部分12從低壓室
中取出，并進(jìn)一步從反應(yīng)室8和其一部分12取出襯底11。要注意的是，在本申請中，可動反應(yīng)室指放置襯底的整個(gè)反應(yīng)室，或反應(yīng)室的一部分，即，例如構(gòu)成整個(gè)反應(yīng)室一部分的裝載運(yùn)載器12。本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將明白，隨著技術(shù)進(jìn)步，本發(fā)明的基本理念可以按很多不同方式實(shí)施。因此，本發(fā)明及其實(shí)施例不限于上述實(shí)例，而是可以在權(quán)利要求書的范圍內(nèi)改變。
權(quán)利要求
1.一種用于在襯底(11)表面上進(jìn)行原子層沉積的設(shè)備(I)，通過對襯底(11)表面進(jìn)行交替的起始物料表面反應(yīng)來進(jìn)行原子層沉積，該設(shè)備包括兩個(gè)或更多個(gè)低壓室(2);兩個(gè)或更多個(gè)獨(dú)立的可動反應(yīng)室(8，12)，這些可動反應(yīng)室設(shè)置用于放在低壓室(2)內(nèi)部；以及至少ー個(gè)起始物料輸入系統(tǒng)(5)，它由兩個(gè)或更多個(gè)低壓室(2)共用，其特征在于該設(shè)備包括至少ー個(gè)裝載裝置出)，該裝載裝置設(shè)置成給可動反應(yīng)室(8，12)裝載和卸載襯底(11)，以及進(jìn)ー步給低壓室(2)裝載和卸載可動反應(yīng)室(8，12)。
2.如權(quán)利要求I的設(shè)備(I)，其特征在于裝載裝置(6)放置在低壓室(2)外部，處于大氣壓。
3.如權(quán)利要求I或2的設(shè)備(I)，其特征在于裝載裝置(6)設(shè)置成服務(wù)于兩個(gè)或更多個(gè)低壓室⑵。
4.如權(quán)利要求1-3之任一的設(shè)備(1)，其特征在于裝載裝置(6)包括自動機(jī)械(16)，該 自動機(jī)械設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)機(jī)械手(17)，用于移動襯底(11)以及可動反應(yīng)室(8，12)。
5.如權(quán)利要求1-4之任一的設(shè)備(I)，其特征在于裝載裝置(6)包括預(yù)熱エ位(13)，用于在將襯底裝載到低壓室(2)內(nèi)之前加熱襯底(11)。
6.如權(quán)利要求1-5之任一的設(shè)備(I)，其特征在干裝載裝置(6)包括冷卻エ位(14)，用于冷卻在低壓室(2)內(nèi)處理過的襯底(U)。
7.如權(quán)利要求1-6之任一的設(shè)備(I)，其特征在于裝載裝置(6)還包括裝載運(yùn)載器(12)，襯底(11)被放置在該裝載運(yùn)載器上，以便在低壓室(2)內(nèi)處理。
8.如權(quán)利要求7的設(shè)備(I)，其特征在于安裝運(yùn)載器(12)構(gòu)成可動反應(yīng)室。
9.如權(quán)利要求8的設(shè)備(I)，其特征在于安裝運(yùn)載器(12)構(gòu)成整個(gè)可動反應(yīng)室(8)的一部分。
10.如權(quán)利要求7-9之任一的設(shè)備(I)，其特征在于安裝運(yùn)載器(12)包括將被安裝在襯底(11)頂部的獨(dú)立的氣體分配部分。
11.如權(quán)利要求1-10之任一的設(shè)備(I)，其特征在干低壓室(2)平行地、疊置地或以矩陣形式設(shè)置在該設(shè)備內(nèi)。
12.如權(quán)利要求1-11之任一的設(shè)備(I)，其特征在于低壓室(2)設(shè)置成用于接納ー個(gè)或多個(gè)可動反應(yīng)室(8，12)。
13.如權(quán)利要求1-12之任一的設(shè)備(I)，其特征在干可動反應(yīng)室(8，12)設(shè)置成用于接納ー個(gè)或多個(gè)襯底(11)。
14.如權(quán)利要求1-13之任一的設(shè)備(I)，其特征在于該設(shè)備(I)包括加熱裝置，用于獨(dú)立于其他低壓室(2)來加熱裝載在各低壓室(2)內(nèi)的襯底。
15.如權(quán)利要求14的設(shè)備(I)，其特征在于每個(gè)低壓室(2)包括獨(dú)立的加熱裝置。
16.如權(quán)利要求1-15之任一的設(shè)備(I)，其特征在于起始物料輸入系統(tǒng)(5)設(shè)置成同時(shí)向ー個(gè)或多個(gè)低壓室(2)輸送起始物料。
17.如權(quán)利要求16的設(shè)備(I)，其特征在于起始物料輸入系統(tǒng)(5)設(shè)置成同時(shí)或不同時(shí)向兩個(gè)或更多個(gè)低壓室(2)輸送相同的起始物料或不同的起始物料。
18.如權(quán)利要求1-17之任一的設(shè)備(I)，其特征在于該設(shè)備(I)包括控制系統(tǒng)(4)，用于控制低壓室⑵和/或反應(yīng)室⑶和/或起始物料輸入系統(tǒng)(5)和/或裝載裝置(6)和/或加熱裝置和/或加熱室的工作。
19.如權(quán)利要求1-18之任一的設(shè)備(I)，其特征在于低壓室(2)包括用于將可動反應(yīng)室(8)裝載到低壓室(2)的裝載ロ以及用于從低壓室(2)卸載可動反應(yīng)室(8)的卸載ロ。
20.如權(quán)利要求19的設(shè)備(I)，其特征在于裝載口和卸載ロ設(shè)置在低壓室(2)的相對偵れ
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于在襯底表面上進(jìn)行原子層沉積的設(shè)備(1)，通過對襯底(11)表面進(jìn)行交替的起始物料表面反應(yīng)來進(jìn)行原子層沉積，該設(shè)備包括兩個(gè)或更多個(gè)低壓室(2)；兩個(gè)或更多個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)室(8，12)，這些反應(yīng)室設(shè)置用于放在低壓室(2)內(nèi)部；以及至少一個(gè)起始物料輸入系統(tǒng)(5)，它由兩個(gè)或更多個(gè)低壓室(2)共用，以進(jìn)行原子層沉積。根據(jù)本發(fā)明，該設(shè)備包括至少一個(gè)裝載裝置(6，16)，設(shè)置成給反應(yīng)室(8，12)裝載和卸載襯底(11)，以及進(jìn)一步給低壓室(2)裝載和卸載反應(yīng)室(8，12)。
文檔編號C23C16/54GK102803558SQ201080026506
公開日2012年11月28日 申請日期2010年6月14日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月15日
發(fā)明者P·索伊尼寧, J·斯卡普 申請人:Beneq有限公司