專利名稱：一種類金剛石鍍膜玻璃及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及鍍膜玻璃技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種類金剛石鍍膜玻璃及其制備方法。

背景技術(shù)：
目前，鍍膜玻璃由于其優(yōu)良的性能已經(jīng)在各個(gè)領(lǐng)域得到了廣泛的應(yīng)用，然而，其在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中，基片膜層容易劃傷、磨損，并且，其銀層容易氧化，另外，鍍膜玻璃在進(jìn)行各種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層等處理后，物理化學(xué)性能容易發(fā)生改變，針對此問題，目前國內(nèi)大部分玻璃深加工企業(yè)使用PE有機(jī)貼膜保護(hù)基片膜層，它可以起到一定的保護(hù)效果。然而，使用基片時(shí)，需人工揭膜，該保護(hù)膜不能重復(fù)利用且不易降解，批量使用會(huì)造成大量的固體廢物，而這對環(huán)境造成了嚴(yán)重的負(fù)面影響。
因此，找到一種合適的環(huán)保材料替代PE有機(jī)保護(hù)膜對于本領(lǐng)域而言已經(jīng)勢在必行。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種類金剛石鍍膜玻璃及其制備方法，以克服現(xiàn)有PE有機(jī)保護(hù)膜需人工揭膜，不易降解而造成大量的固體廢物的缺陷。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種類金剛石鍍膜玻璃，包括玻璃基片；功能膜層，鍍制于玻璃基片表面；以及類金剛石膜層，鍍制于功能膜層表面。
其中，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽光控制膜層。
其中，較佳地，該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。
其中，該功能膜層最外層的厚度較佳為10～120nm。
其中，該類金剛石膜層的材料較佳為C或CN4。
其中，該類金剛石膜層的厚度較佳為5～40nm，更佳為10～30nm，最佳為15～20nm。
而且，為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出一種類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，包括以下步驟 步驟1提供一玻璃基片； 步驟2在玻璃基片表面沉積功能膜層； 步驟3在該功能膜層表面沉積一類金剛石膜層。
其中，該步驟2及步驟3中的沉積方式為磁控濺射沉積。
較佳地，該磁控濺射沉積在真空級數(shù)為10-610-3mbar級的工作氣氛下，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下以及在8KW的濺射功率下進(jìn)行。
其中，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽光控制膜層。
較佳地，該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。
其中，該功能膜層最外層的沉積厚度為10～120nm。
其中，該類金剛石膜層的材料較佳為C或CN4。
其中，該類金剛石膜層的沉積的厚度較佳為5～40nm。
其中，于步驟2中，沉積該功能膜層或者該功能薄膜的最外層所使用的靶材較佳為Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn，該功能膜層的內(nèi)層可以包括TiO2層、NiCr層、Ag層、Cu層、SiO2層、ZnO層、SnZnO3層等常規(guī)的膜層材料。
其中，于步驟3中，沉積該類金剛石膜層的靶材較佳為石墨。
本發(fā)明所提供的類金剛石鍍膜玻璃及其制備方法，由于類金剛石薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，該膜層可避免PE有機(jī)貼膜的一系列問題，該薄膜對基片膜層起到很好的保護(hù)效果，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中，可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。并且，本發(fā)明采用磁控濺射方式制備，鍍制膜層具有硬度高、膜面外觀均勻等優(yōu)點(diǎn)，并且與功能膜層之間附著力好，同時(shí)，鍍制該膜層的基片仍可進(jìn)行各種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層、合中空玻璃等。另外，該薄膜可通過鋼化、半鋼化或彎鋼化等熱處理方式去除，去除后基片恢復(fù)原有膜層結(jié)構(gòu)及性能。



圖1為本發(fā)明類金剛石鍍膜玻璃的簡單結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的類金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖3為本發(fā)明實(shí)施例2的類金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖4為本發(fā)明實(shí)施例3的類金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖5為本發(fā)明實(shí)施例4的類金剛石鍍膜玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖6為本發(fā)明類金剛石鍍膜玻璃制備方法的流程示意圖。
其中，附圖標(biāo)記 100玻璃基片 200功能膜層 300類金剛石膜層 0玻璃基片 1功能膜層 2Si3N4層 3、6、9、12類金剛石膜層 4功能膜層5SiO2層 7功能膜層8TiO2層 10功能膜層 11SnZnO3層
具體實(shí)施例方式 本發(fā)明闡述了一種鍍膜玻璃的保護(hù)方法，即在鍍膜玻璃的外表面鍍制一層類金剛石薄膜，類金剛石(diamond-like carbon，簡稱DLC)薄膜的碳原子鍵主要以sp2和sp3兩種雜化方式存在，石墨是無定形碳中含sp3鍵的亞穩(wěn)態(tài)結(jié)構(gòu)，它的光學(xué)透過率、硬度、折射率與金剛石十分接近，其化學(xué)惰性和抗腐蝕能力用于基片的最外層，可以起到防潮和防化學(xué)試劑腐蝕的作用。此外，該薄膜具有較低的成膜溫度、原子光滑表面以及較大的硬度，因此，類金剛石薄膜易于均勻而大面積濺射沉積，鍍制成膜后具有較高的穩(wěn)定性，可滿足工業(yè)化生產(chǎn)。鍍膜玻璃的外表面鍍制一層類金剛石薄膜后，在耐磨性、防劃傷、延緩氧化時(shí)間等方面保護(hù)原有膜層結(jié)構(gòu)。并且該膜層可通過厚度的調(diào)節(jié)，控制顏色值變化，使玻璃整體外觀顏色不受影響。膜層鍍制后，在運(yùn)輸過程中可省去玻璃之間的保護(hù)措施，如珍珠棉、瓦楞紙等。
基于上述，本發(fā)明提供了一種類金剛石鍍膜玻璃，圖1為本發(fā)明類金剛石鍍膜玻璃的簡單結(jié)構(gòu)示意圖，如圖1所示，包括玻璃基片100；功能膜層200，鍍制于玻璃基片表面；以及類金剛石膜層300，鍍制于功能膜層表面。
其中，該功能膜層200為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽光控制膜層。
較佳地，該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。并且，最佳為最外層物質(zhì)為Si3N4，因?yàn)槠滗摶?，類金剛石層即可以去除，其表面沒有任何的顏色差異，也沒有膜層之間的相互侵入，并且Si3N4層與C層之間的附著力較強(qiáng)。
較佳地，該功能膜層最外層的厚度為10～120nm。
其中，該類金剛石膜層300鍍制于鍍膜玻璃的最外層，該膜層材料為C或CN4，且更優(yōu)選為C。
其中，該類金剛石膜層300優(yōu)選厚度為5-40nm，更優(yōu)選厚度為10-30nm，最優(yōu)選厚度為15-20nm。
其中，該CN4膜層優(yōu)選厚度為5-40nm，更優(yōu)選厚度為10-30nm，最優(yōu)選厚度為15-20nm。
本發(fā)明在鍍膜玻璃的外表面鍍制一層類金剛石薄膜，在耐磨性、防劃傷、延緩氧化時(shí)間等方面保護(hù)原有膜層結(jié)構(gòu)，其可以通過鍍類金剛石層以及未鍍金剛石層的鍍膜玻璃經(jīng)鹽霧、研磨、室外暴露等方式所測試的數(shù)據(jù)進(jìn)行比較說明。
下表中可以顯示鍍石墨層通過Abraser研磨機(jī)研磨前后的透過值變化，其中 1為未鍍制類金剛石膜層普通可鋼化低輻射鍍膜玻璃； 2為鍍制類金剛石膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
表1 研磨前后數(shù)值比較 從表1中我們可以看出，無論是50轉(zhuǎn)還是200轉(zhuǎn)，鍍制類金剛石膜層都遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于未鍍類金剛石膜層的可鋼化低輻射鍍膜玻璃。
表2為鍍制不同厚度μ的類金剛石膜層，比較其耐磨性，其中 1μ＝35nm 2μ＝20nm 3μ＝15nm 4μ＝6nm 表2 不同厚度的耐磨性能比較 從表2中，我們可以看出，并不是膜層越厚，其耐磨性就越好。樣片1中，類金剛石膜層厚度為35nm時(shí)，其耐磨性在200轉(zhuǎn)的時(shí)候就表現(xiàn)的相對較差，當(dāng)類金剛石膜層厚度為15～20nm時(shí)，其效果反而可以達(dá)到比較好的效果。因此類金剛石膜層要想達(dá)到最佳效果，并且綜合考慮材料利用率，厚度最優(yōu)選為15～20nm。
下表是鹽霧試驗(yàn)記錄，進(jìn)一步驗(yàn)證類金剛石膜層在抗氧化能力方面的效果。
表3 不同厚度的類金剛石膜氧化時(shí)間 從表3中也可以看出，具有類金剛石膜層的基片，其抗氧化能力明顯增強(qiáng)。另外，對于具有類金剛石膜層的玻璃基片而言，并不是類金剛石膜層越厚，其抗氧化性能效果最好，而厚度為15nm～20nm的類金剛石薄膜，在抗氧化性能方面達(dá)到了最佳的效果。
上述三個(gè)表格，可以得出，類金剛石膜層厚度最優(yōu)選15-20nm。
另外，本發(fā)明提供了該類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，圖6為本發(fā)明類金剛石鍍膜玻璃制備方法的流程示意圖，如圖6所示，該方法包括以下步驟 步驟1提供玻璃基片； 步驟2在玻璃基片表面沉積功能膜層； 步驟3在該功能膜層表面沉積一類金剛石膜層。
其中，該步驟2及步驟3中，對于沉積工藝和沉積工藝的工藝參數(shù)沒有具體的限制，其中，能夠沉積各膜層的多種已知的沉積方法都可以選用，例如，化學(xué)氣相沉積及陰極電弧蒸鍍方式沉積等，在本發(fā)明中實(shí)施例以磁控濺射方法沉積所有膜層。同時(shí)，對于可形成本發(fā)明的包括磁控濺射在內(nèi)的多種已知的沉積方法，本領(lǐng)域技術(shù)人員是完全有能力根據(jù)目標(biāo)膜層的組成和厚度選擇合適的沉積工藝參數(shù)。其中工藝參數(shù)包括例如磁控濺射中可能涉及到的濺射氣氛、濺射真空度、靶材材質(zhì)、濺射功率以及濺射時(shí)間等。因此，在本說明書中給出的有關(guān)沉積工藝及其參數(shù)的選擇均為示例性的，并不構(gòu)成對本發(fā)明的限制。
并且，本發(fā)明所優(yōu)選的磁控濺射沉積方式，該磁控濺射沉積在真空級數(shù)為10-6～10-3mbar級的工作氣氛下，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下以及在8KW的濺射功率下進(jìn)行。
其中，步驟2中，該膜層可為可鋼化的低輻射鍍膜玻璃膜層、不可鋼化的低輻射鍍膜玻璃膜層或陽光控制鍍膜玻璃膜層。
其中，該功能膜層為單層時(shí)，其膜層物質(zhì)較佳為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3；該功能膜層為多層時(shí)，其內(nèi)層可以包括TiO2層、NiCr層、Ag層、Cu層、SiO2層、ZnO層、SnZnO3層等常規(guī)的膜層材料，其最外層的物質(zhì)較佳為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3，最佳為Si3N4。并且，于步驟2的磁控濺射沉積過程中，沉積該功能膜層或者該功能薄膜最外層所使用的靶材為Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn，并且，該功能膜層最外層的沉積厚度較佳為10～120nm。
其中，該類金剛石膜層的材料為C或CN4，于步驟3中，磁控濺射沉積該類金剛石膜層的靶材為純度為99.99％的石墨靶材，濺射得到C或CN4膜層，作為鍍膜玻璃的最外層，具有防劃傷、疏油、防水等特點(diǎn)，在后續(xù)加工中，膜層結(jié)構(gòu)可得到很好的保護(hù)。并且，沉積該類金剛石膜層的沉積的厚度較佳為5～40nm，更佳為10-30nm，最佳為15-20nm。
本發(fā)明所提供的類金剛石保護(hù)膜層，可以通過650度以上的熱處理去除，更優(yōu)選為670度以上，最優(yōu)選為690度以上。經(jīng)過熱處理后，類金剛石膜層可以揮發(fā)去除，基片恢復(fù)原有膜層結(jié)構(gòu)及性能。該特點(diǎn)可用于可鋼化低輻射鍍膜玻璃及可鋼化陽光控制鍍膜玻璃膜層的保護(hù)。
另外，該膜層也可以應(yīng)用在不可熱處理的低輻射鍍膜玻璃玻璃中，提高磨蹭結(jié)構(gòu)的耐磨性，防止劃傷，延緩銀層氧化時(shí)間。
本發(fā)明的由類金剛石層做最外層保護(hù)的鍍膜玻璃，其基片可以是任何鍍膜玻璃玻璃，例如單銀、雙銀以及三銀玻璃，可鋼化或不可鋼化的低輻射鍍膜玻璃，也可以是陽光控制型鍍膜玻璃，換句話講，該基片可以直接為上述各種鍍膜玻璃，并在該鍍膜玻璃表面直接鍍制類金剛石薄膜，以制備該類金剛石鍍膜玻璃。即，類金剛石薄膜的制備方法，包括步驟 1、提供玻璃基片。該基片可以為低輻射鍍膜玻璃、陽光控制鍍膜玻璃以及相關(guān)的各種鍍膜玻璃； 2、在該基片上，沉積一層類金剛石薄膜。
其中，本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選方式是鍍膜玻璃玻璃的最外層為Si3N4，Ti3N4，TiO2，SnO2，SiO2，ZnO等物質(zhì)，一個(gè)最優(yōu)選方式是其原鍍膜玻璃玻璃的最外層是Si3N4。因?yàn)槠滗摶?，類金剛石層即可以去除，其表面沒有任何的顏色差異，也沒有膜層之間的相互侵入，并且Si3N4層與C層之間的附著力較強(qiáng)。
下面以磁控濺射方式為例說明制備類金剛石薄膜的方法。
首先，提供玻璃基片，并可選的對玻璃基片進(jìn)行拋光和清洗，拋光和清洗的具體方式是為本領(lǐng)域技術(shù)人員所熟知的，這里不作具體說明。
其次，將玻璃基片裝入磁控濺射室，準(zhǔn)備磁控濺射室，磁控濺射室的本底真空度優(yōu)選為10-6-10-5mbar級的工作氣氛。
然后，在玻璃基片上濺射所需要的功能膜層，包括可鋼化與不可鋼化的低輻射膜層與陽光控制膜層，其中該膜層最外層物質(zhì)的靶材優(yōu)選為Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn，更優(yōu)選為Si。
最后，在該功能膜層上鍍制類金剛石薄膜，沉積該膜層所使用的靶材優(yōu)選為石墨，其純度為99.99％。
對于該類金剛石薄膜，可滿足如下加工要求，在經(jīng)過如下的加工處理后，其各項(xiàng)性能保持不變 1)濺射沉積類金剛石膜層后的基片可以滿足機(jī)械或人工切割，粗磨或精磨等加工，其玻璃光學(xué)性能基本不變，并且表面無任何劃傷膜層侵蝕等缺陷，其保護(hù)效果不受影響。
2)濺射沉積類金剛石膜層后的基片可以滿足膜面朝向輥道行走，其玻璃光學(xué)性能基本不變，并且表面無任何劃傷、輥道印等痕跡，仍具備膜面保護(hù)性能。
3)濺射沉積類金剛石膜層后的基片可以滿足鋼化、半鋼化及彎鋼化等熱加工，此時(shí)類金剛石薄膜經(jīng)過熱處理后自行揮發(fā)，基片原有膜層結(jié)構(gòu)不變，原來的物理化學(xué)性能保持不變，可進(jìn)行各種后續(xù)加工，如夾層，中空等。
在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式中，類金剛石薄膜可在普通鍍膜玻璃上使用，并在切片、磨邊等工藝后膜層狀況良好，光學(xué)性能和熱學(xué)性能基本保持不變。
在本發(fā)明中，鍍膜玻璃的光學(xué)性能均為美國Hunter Lab公司生產(chǎn)的ColorQuest XE光學(xué)儀器測定，顏色參數(shù)為按國際慣例對色度空間的定義。對于本發(fā)明中類金剛石膜層厚度的測定使用的儀器為中科院半導(dǎo)體所臺(tái)階測試儀。
下面將通過具體的實(shí)施例來說明本發(fā)明的膜面保護(hù)玻璃，需要說明的是，雖然在實(shí)施例中的膜層厚度和光學(xué)參數(shù)為一數(shù)值范圍，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解，該范圍僅僅是由于膜層不可避免的不均勻性和誤差而產(chǎn)生的。
實(shí)施例1 本發(fā)明采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級數(shù)保證為10-3mbar級的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過兩個(gè)月)建筑級浮法原片鍍制。
如圖2，在玻璃基片0上鍍制多層功能膜層1，該功能膜層的內(nèi)層可以包括TiO2層、NiCr層、Ag層、Cu層、SiO2層、ZnO層、SnZnO3層等常規(guī)的膜層材料，并在外層2鍍制Si3N4，形成Si3N4層，其濺射厚度可為10-120nm。
類金剛石膜層3在Si3N4層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表4 沉積C層顏色值的變化 表5 沉積C層研磨前后透過變化
表6 鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 表7 鋼化前后顏色值比較 實(shí)施例2 本發(fā)明采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級數(shù)保證為10-3mbar級的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過兩個(gè)月)建筑級浮法原片鍍制。
如圖3，在玻璃基片0上，鍍制一層或者多層功能膜層4，包括SnO2層、SiO2層、TiO2層，在外層5鍍制SiO2層，其濺射厚度可為20-110nm。
最外層保護(hù)膜層，即類金剛石膜層6在SiO2層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。鍍制類金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表8 沉積C層前后顏色值的變化 表9 沉積C層研磨前后透過變化
表10 鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 表11 鋼化前后顏色值比較 實(shí)施例3 本發(fā)明采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級數(shù)保證為10-3mbar級的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過兩個(gè)月)建筑級浮法原片鍍制。
如圖4，在玻璃基片0上，鍍制一層或者多層功能膜層7，包括Cr層、SnZnO3層，其玻璃功能膜層的外層8是TiO2層，其濺射厚度可為10-100nm。
最外層保護(hù)膜層，即類金剛石膜層9在TiO2層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表12 沉積C層前后顏色值的變化 表13 沉積C層研磨前后透過變化
表14 鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 實(shí)施例4 本發(fā)明采用常規(guī)真空磁控濺射設(shè)備制備，在通入工藝氣體后的真空級數(shù)保證為10-3mbar級的工作氣氛的條件下，使用新鮮的(生產(chǎn)日期不超過兩個(gè)月)建筑級浮法原片鍍制。
如圖5，在玻璃基片0上，鍍制一層或者多層功能膜層10，包括SnZnO3層、NiCr層、Ag層，其玻璃功能膜層外層鍍制SnZnO3，形成SnZnO3層11，其濺射厚度可為10-120nm。
最外層保護(hù)膜層，即類金剛石膜層12在SnZnO3層的外面，使用石墨靶材，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下，在8KW的濺射功率下，濺射厚度為15-20nm的氧化物層C。
鍍制類金剛石薄膜后，基片的耐磨性及抗氧化性能明顯提高。
表15 沉積C層前后顏色值的變化 表16 沉積C層研磨前后透過變化
表17 鍍C層前后鹽霧氧化時(shí)間 表18 鋼化前后顏色值比較 本發(fā)明的效果 本發(fā)明所提供的類金剛石鍍膜玻璃及其制備方法，該類金剛石薄膜鍍制在基片最外層，由于類金剛石薄膜具有高硬度且抗氧化性強(qiáng)，該薄膜對于低輻射鍍膜玻璃以及陽光控制型鍍膜玻璃等基片膜層起到很好的保護(hù)效果，具體表現(xiàn)在該類金剛石薄膜可提高基片的耐磨性，延緩氧化時(shí)間，在運(yùn)輸和儲(chǔ)藏的過程中，可以防止基片膜層劃傷、延緩銀層氧化速度。并且，鍍制該膜層的基片仍可進(jìn)行各種冷加工和熱處理，如切片、磨邊，夾層、合中空玻璃等，不影響基片原有的物化性能。另外，該薄膜可通過鋼化、半鋼化或彎鋼化等熱處理方式揮發(fā)去除，去除后基片恢復(fù)原有膜層結(jié)構(gòu)及性能。與常規(guī)的PE有機(jī)貼膜保護(hù)方式比較，該膜層具有良好的環(huán)保性，在鍍膜玻璃行業(yè)中有著廣泛的應(yīng)用前景。
當(dāng)然，本發(fā)明還可有其他多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1、一種類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，包括
玻璃基片；
功能膜層，鍍制于玻璃基片表面；以及
類金剛石膜層，鍍制于功能膜層表面。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽光控制膜層。
3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層或者該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該功能膜層最外層的厚度為10～120nm。
5、根據(jù)權(quán)利要求1所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類金剛石膜層的材料為C或CN4。
6、根據(jù)權(quán)利要求5所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類金剛石膜層的厚度為5～40nm。
7、根據(jù)權(quán)利要求6所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類金剛石膜層的厚度為10～30nm。
8、根據(jù)權(quán)利要求7所述的類金剛石鍍膜玻璃，其特征在于，該類金剛石膜層的厚度為15～20nm。
9、一種類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，包括以下步驟
步驟1提供一玻璃基片；
步驟2在玻璃基片表面沉積功能膜層；
步驟3在該功能膜層表面沉積一類金剛石膜層。
10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該步驟2及步驟3中的沉積方式為磁控濺射沉積。
11、根據(jù)權(quán)利要求10所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該磁控濺射沉積在真空級數(shù)為10-6～10-3mbar級的工作氣氛下，在氬氣氣體氣氛中，在氬氣流量為1200sccm的條件下以及在8KW的濺射功率下進(jìn)行。
12、根據(jù)權(quán)利要求9所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽光控制膜層。
13、根據(jù)權(quán)利要求9至12中任意一項(xiàng)所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該功能膜層或者該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。
14、根據(jù)權(quán)利要求13所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該功能膜層最外層的沉積厚度為10～120nm。
15、根據(jù)權(quán)利要求9所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該類金剛石膜層的材料為C或CN4。
16、根據(jù)權(quán)利要求15所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，該類金剛石膜層的沉積的厚度為5～40nm。
17、根據(jù)權(quán)利要求13所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，于步驟2中，沉積該功能膜層或者該功能薄膜最外層所使用的靶材為Si，SiAl，Ti，Zn，Sn，ZnAl，ZnSn。
18、根據(jù)權(quán)利要求15所述的類金剛石鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，于步驟3中，沉積該類金剛石膜層的靶材為石墨。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種類金剛石鍍膜玻璃及其制備方法，該類金剛石鍍膜玻璃包括玻璃基片；功能膜層，鍍制于玻璃基片表面；以及類金剛石膜層，鍍制于功能膜層表面，該功能膜層為可鋼化低輻射膜層、不可鋼化的低輻射膜層或陽光控制膜層，其中，該功能薄膜最外層的物質(zhì)為Si3N4、Ti3N4、TiO2、SnO2、SiO2、ZnO或SnZnO3。通過本發(fā)明鍍制出的類金剛石薄膜具有較高的穩(wěn)定性、耐磨性以及耐氧化性，在玻璃運(yùn)輸、儲(chǔ)藏的過程中起到防止劃傷、延緩氧化的作用，并且，該類金剛石膜層與功能膜層之間附著力好，并且其不與其它膜層相互侵蝕、反應(yīng)，經(jīng)過熱處理工藝可揮發(fā)。
文檔編號(hào)C23C14/35GK101602273SQ200910089738
公開日2009年12月16日 申請日期2009年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月22日
發(fā)明者爍 王, 徐伯永, 宇 宋, 彬 李, 陳可明, 鵬 李 申請人:天津南玻節(jié)能玻璃有限公司, 天津南玻工程玻璃有限公司