專利名稱：真空離子鍍膜機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空離子鍍膜設備，尤其涉及一種真空離子板材鍍膜設備。
背景技術：
現(xiàn)有的真空離子鍍膜機，在真空條件下利用鈦離子放射源可將金屬板材鍍制成單色彩板。但是現(xiàn)有的真空離子鍍膜機存在以下缺點1.無法對大面積板材進行鍍膜作業(yè)?，F(xiàn)有真空離子鍍膜機只能對小面積板材或小件物品進行鍍膜作業(yè)，無法滿足現(xiàn)代裝飾業(yè)對大面積板材表面色彩處理的需求。
2.鍍膜作業(yè)效率低。現(xiàn)有的真空離子鍍膜機的結構設計影響了被鍍件進出真空鍍膜室的時間，導致單位時間內的鍍膜效率低。
3.成品顏色一致性差?，F(xiàn)有的真空離子鍍膜機受結構及工藝的限制，只能在被鍍板材表面形成少數(shù)幾種顏色，且不同批次的成品的顏色一致性差。
實用新型內容本實用新型解決了背景技術中真空離子鍍膜機彩板尺寸小、作業(yè)效率低、成品顏色一致性差的技術問題。
本實用新型的技術解決方案是一種真空離子鍍膜機，包括真空鍍膜室6，傳動裝置1，密封門2，真空機組14，所述真空鍍膜室6設置有離子發(fā)射源5，其特殊之處是所述真空鍍膜室6包括第一鍍膜區(qū)7和設置在第一鍍膜區(qū)7左右兩端并與第一鍍膜區(qū)7相通的左傳動區(qū)8和右傳動區(qū)4，所述離子發(fā)射源5設置在第一鍍膜區(qū)7內，其數(shù)量為多個，所述密封門2設置在右傳動區(qū)4的外端部，所述傳動裝置1設置在左傳動區(qū)8和右傳動區(qū)4內。
上述真空離子鍍膜機還包括與右傳動區(qū)4相連接的過渡室3，所述過渡室3外端部設置有密封門2，所述過渡室3內設置有傳動裝置1。
上述真空離子鍍膜機還包括分別與右傳動區(qū)4、左傳動區(qū)8相連接的兩個過渡室3，所述左傳動區(qū)8與左側過渡室3之間設置有密封門2，所述兩個過渡室3外端部均設置有密封門2，所述兩個過渡室3內均設置有傳動裝置1。
上述傳動裝置1包括一排可調滾輪9和其回轉軸線與可調滾輪9回轉軸線相垂直的一排導向滾輪10，所述可調滾輪9與水平面之間的夾角為0～85°，所述導向滾輪10上設置有V型槽。
上述真空鍍膜室6包括第一鍍膜區(qū)7和第二鍍膜區(qū)13，所述第一鍍膜區(qū)7與第二鍍膜區(qū)13之間設置有中間傳動區(qū)12，所述中間傳動區(qū)12內設置有傳動裝置1。
上述真空鍍膜室6包括多個鍍膜區(qū)，所述兩兩相鄰的鍍膜區(qū)之間設置有中間傳動區(qū)12，所述中間傳動區(qū)12內設置有傳動裝置1。
上述每個鍍膜區(qū)內離子發(fā)射源5的數(shù)量為12個。
本實用新型具有如下優(yōu)點1.可對大面積板材進行鍍膜作業(yè)。由于真空鍍膜室采用多個離子發(fā)射源進行鍍膜作業(yè)，可對最大規(guī)格為4000mm×1300mm的板材進行鍍膜作業(yè)。
2.效率高。本實用新型采用獨特的傳動方式以及過渡區(qū)、傳動區(qū)的設計思路，使得一次抽真空可完成一次鍍膜作業(yè)，且作業(yè)時間縮短。
3.成品顏色豐富且一致性好。當真空鍍膜室內的多個離子發(fā)射源協(xié)調工作時，不但可以鍍出七種基本顏色，還能保證不同批次成品的顏色一致性好。
附圖圖面說明


圖1是本實用新型主視圖；圖2是
圖1的俯視圖；圖3是
圖1中A-A向剖視圖；圖4是本實用新型另一種結構示意圖。
具體實施方式
參見
圖1、圖2和圖3，本實用新型主要包括真空鍍膜室6，其包括第一鍍膜區(qū)7和設置在第一鍍膜區(qū)7左右兩端并與第一鍍膜區(qū)7相通的右傳動區(qū)4和左傳動區(qū)8，第一鍍膜區(qū)7內壁設置有12個離子發(fā)射源5，本實用新型還包括與右傳動區(qū)4相連接的過渡室3，過渡室3外端設置有密封門2，過渡室3與右傳動區(qū)4之間設置有密封門2，在左傳動區(qū)8、右傳動區(qū)4和過渡室3內均設置有傳動裝置1，傳動裝置1包括一排可調滾輪9和其回轉軸線與可調滾輪9回轉軸線相垂直的一排導向滾輪10，可調滾輪9與水平面之間的夾角為0～85°，導向滾輪10上設置有V型槽。本實用新型真空鍍膜室6的鍍膜區(qū)的數(shù)量也可以是兩個或兩個以上，當鍍膜區(qū)的數(shù)量為多個時，兩兩相鄰的鍍膜區(qū)之間設置有中間傳動區(qū)12，中間傳動區(qū)12內可設置有傳動裝置1，參見圖4，當鍍膜區(qū)為兩個時，即真空鍍膜室6包括第一鍍膜區(qū)7和第二鍍膜區(qū)13時，在第一鍍膜區(qū)7與第二鍍膜區(qū)13之間設置有中間傳動區(qū)12，中間傳動區(qū)12內設置有傳動裝置1，每個鍍膜區(qū)內離子發(fā)射源5的數(shù)量均為12個，本實用新型的過渡室3也可以是兩個，兩個過渡室3分別設置在左傳動區(qū)8及右傳動區(qū)4的外端并分別通過密封門2與左傳動區(qū)8及右傳動區(qū)4相連接，左右兩個過渡室3外端分別設置有密封門2。
本實用新型原理需鍍膜的板材5通過過渡室3外端的密封門2進入過渡室3內，斜靠在傳動裝置1的可調滾輪9上，板材5的下側邊則放置在傳動裝置1的導向滾輪10的V型槽內，此時板材5與水平面的夾角就是可調滾輪9與水平面的夾角即85°，當可調滾輪9與水平面之間的夾角為0°時，板材5為水平放置狀態(tài)，此時過渡室3與真空鍍膜室6之間的密封門2處于密閉狀態(tài)，關閉密封門2，開啟真空機組14，對過渡室3和真空鍍膜室6進行抽真空，然后打開過渡室3與真空鍍膜室6之間的密封門2，傳動裝置1將板材5傳送至真空鍍膜室6的右傳動區(qū)4并停下，此時對真空鍍膜室6再次抽真空使真空度至鍍膜工藝要求值，此時打開鈦離子發(fā)射源5，傳動裝置1將板材5傳送至第一鍍膜區(qū)7，鍍膜作業(yè)開始進行，由于第一鍍膜區(qū)7內沒有傳動裝置1，板材5依靠其自重支撐在右傳動區(qū)4的傳動裝置1上，板材5伸入第一鍍膜分區(qū)7的左端懸空，板材5按鍍膜工藝要求的速度前進，當板材5左端通過第一鍍膜區(qū)7進入左傳動區(qū)8或中間傳動區(qū)12時，其下側邊搭接到設置在傳動區(qū)內的傳動裝置1的導向滾輪10，并在其上繼續(xù)前進，當板材5的右端最后進入第一鍍膜區(qū)7時，同樣依靠板材5自重懸空，同理，板材依次通過中間傳動區(qū)12和第二鍍膜區(qū)13等。如果過渡室3為一個，鍍膜作業(yè)完成后，板材5從第一鍍膜區(qū)7的最左端沿原前進方向后退至最右端，打開密封門2，已鍍好的板材5進入過渡室3，并從過渡室3外端的密封門2退出。當過渡室為兩個，需鍍膜的板材5通過右端過渡室3外端的密封門2進入過渡室3內，則鍍膜作業(yè)完成后，板材5直接從第二鍍膜區(qū)13最左端的傳動區(qū)通過密封門2進入左端的過渡室3，從過渡室3外端的密封門2出板。
權利要求1.一種真空離子鍍膜機，包括真空鍍膜室(6)，傳動裝置(1)，密封門(2)，真空機組(14)，所述真空鍍膜室(6)設置有離子發(fā)射源(5)，其特征在于所述真空鍍膜室(6)包括第一鍍膜區(qū)(7)和設置在第一鍍膜區(qū)(7)左右兩端并與第一鍍膜區(qū)(7)相通的左傳動區(qū)(8)和右傳動區(qū)(4)，所述離子發(fā)射源(5)設置在第一鍍膜區(qū)(7)內，其數(shù)量為多個，所述密封門(2)設置在右傳動區(qū)(4)的外端部，所述傳動裝置(1)設置在左傳動區(qū)(8)和右傳動區(qū)(4)內。
2.如權利要求1所述的真空離子鍍膜機，其特征在于所述真空離子鍍膜機還包括與右傳動區(qū)(4)相連接的過渡室(3)，所述過渡室(3)外端部設置有密封門(2)，所述過渡室(3)內設置有傳動裝置(1)。
3.如權利要求1所述的真空離子鍍膜機，其特征在于所述真空離子鍍膜機還包括分別與右傳動區(qū)(4)、左傳動區(qū)(8)相連接的兩個過渡室(3)，所述左傳動區(qū)(8)與左側過渡室(3)之間設置有密封門(2)，所述兩個過渡室(3)外端部均設置有密封門(2)，所述兩個過渡室(3)內均設置有傳動裝置(1)。
4.如權利要求1或2或3所述的真空離子鍍膜機，其特征在于所述傳動裝置(1)包括一排可調滾輪(9)和其回轉軸線與可調滾輪(9)回轉軸線相垂直的一排導向滾輪(10)，所述可調滾輪(9)與水平面之間的夾角為0～85°，所述導向滾輪(10)上設置有V型槽。
5.如權利要求4所述的真空離子鍍膜機，其特征在于所述真空鍍膜室(6)包括第一鍍膜區(qū)(7)和第二鍍膜區(qū)(13)，所述第一鍍膜區(qū)(7)與第二鍍膜區(qū)(13)之間設置有中間傳動區(qū)(12)，所述中間傳動區(qū)(12)內設置有傳動裝置(1)。
6.如權利要求4所述的真空離子鍍膜機，其特征在于所述真空鍍膜室(6)包括多個鍍膜區(qū)，所述兩兩相鄰的鍍膜區(qū)之間設置有中間傳動區(qū)(12)，所述中間傳動區(qū)(12)內設置有傳動裝置(1)。
7.如權利要求1或2或3或5或6所述的真空離子鍍膜機，其特征在于所述每個鍍膜區(qū)內離子發(fā)射源(5)的數(shù)量為12個。
專利摘要本實用新型涉及一種可對大面積板材進行真空離子鍍膜的設備，包括真空鍍膜室，傳動裝置，密封門，真空機組，真空鍍膜室包括第一鍍膜區(qū)和設置在第一鍍膜區(qū)左右兩端并與第一鍍膜區(qū)相通的左傳動區(qū)和右傳動區(qū)，在第一鍍膜區(qū)內有多個離子發(fā)射源，傳動裝置設置在左傳動區(qū)和右傳動區(qū)內。本實用新型一次抽真空可完成一次鍍膜作業(yè)，且作業(yè)時間縮短，成品顏色豐富且一致性好，可對大面積板材進行鍍膜作業(yè)，解決了背景技術中真空離子鍍膜機彩板尺寸小、作業(yè)效率低、成品顏色一致性差的技術問題。
文檔編號C23C14/48GK2680683SQ20042004155
公開日2005年2月23日 申請日期2004年2月19日 優(yōu)先權日2004年2月19日
發(fā)明者李放, 苗彩霞, 張北鋒 申請人:李放