專利名稱：用于化學(xué)處理金屬帶表面的設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于化學(xué)處理金屬帶表面的設(shè)備，特別是用于浸蝕和/或清洗金屬帶，其包括至少一個處理階段以及用于金屬的引導(dǎo)和擠壓輥子。
背景技術(shù)：
此刻，通過運動浸蝕設(shè)備最后階段的端部處的雙擠壓輥子將金屬帶引導(dǎo)通過浸蝕設(shè)備，以便在足夠中間的位置將金屬帶運行離開清洗罐，并避免使得隨后的驅(qū)動輥子負擔(dān)過大。驅(qū)動輥子/雙擠壓輥子柱作為PI(比例積分)輥子運動。但是隨后的擠壓輥子影響了驅(qū)動作用，并且在由耐酸材料制成的保護管中需要更先進的感應(yīng)測量。這在驅(qū)動端和兩個擠壓輥子對中造成顯著的磨損。由于PI輥子的側(cè)向運動，擠壓輥子的側(cè)向密封的結(jié)構(gòu)設(shè)計很復(fù)雜，并且必須增加擠壓輥子的支承中心距離。這造成設(shè)備更寬(每側(cè)+200毫米)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于在盡可能靠近中間位置的情況下將金屬帶運行離開浸蝕(處理)設(shè)備，使得隨后的驅(qū)動輥子可在沒有任何困難的情況下操作。
為此，本發(fā)明設(shè)備的特征在于位于至少一個處理階段之后的至少兩個輥子或兩個輥子對，其中一個輥子在材料上方而一個輥子在材料下方，輥子在相對于設(shè)備的縱向軸線的至少一側(cè)上的可調(diào)整支承上運行，輥子相互同步并在與材料運行的方向相同的方向上相互平行。由于因此獲得的輥子的傾斜可以調(diào)整，在不需要加寬設(shè)備的情況下可以將驅(qū)動作用施加在金屬帶上。此外，可以更容易將擠壓輥子和罐密封，防止酸泄漏，以及消除推式浸蝕設(shè)備中的最大問題，即當離開設(shè)備時金屬帶突然偏向一側(cè)，造成停機。
在簡化的結(jié)構(gòu)中，有利的是所有同步調(diào)整的輥子或輥子對的支承安裝在通過驅(qū)動器可以在設(shè)備的縱向進行調(diào)整的支架上。
按照本發(fā)明的另一有利的實施例，位于至少一個處理階段之后的輥子的所有支承可相對于設(shè)備的縱向軸線安裝在通過驅(qū)動器可以在設(shè)備的縱向進行調(diào)整的支架的至少一側(cè)上。因此，可以在沒有相互干涉的情況下將輥子一起傾斜，并可以在將要處理的材料上實現(xiàn)更好的驅(qū)動作用。
本發(fā)明的另一實施例是為至少兩個輥子或兩個輥子對的輥子支承而設(shè)置的，輥子以一個輥子在材料上方而一個輥子在材料下方的形式形成，支承相對于設(shè)備的縱向軸線安裝在通過驅(qū)動器可以在設(shè)備的縱向進行調(diào)整的支架的每一側(cè)上。
有利的是如果采用流體操作工作缸作為驅(qū)動器，其結(jié)構(gòu)簡單，并且致動裝置簡單。


在以下說明中，本發(fā)明將使用附圖和附圖中所示的實施例進行更加詳細的描述。附圖中圖1表示具有可驅(qū)動的擠壓輥子對和位于其后的驅(qū)動輥子的浸蝕設(shè)備一部分的示意側(cè)視圖；以及圖2包括一組可調(diào)整擠壓輥子的示意透視圖。
具體實施例方式
圖1表示浸蝕設(shè)備的清洗區(qū)段S的側(cè)視圖，其中清洗區(qū)段在浸蝕區(qū)段(這里未示出，與附圖右手側(cè)相鄰)之后。在浸蝕罐(右側(cè))和清洗區(qū)段S之間具有雙擠壓輥子組1，其包括兩對擠壓輥子1a、1b。每對擠壓輥子1a、1b繼而包括一個位于帶材料B上方的輥子和一個位于帶材料下方的輥子，材料B已經(jīng)進行浸蝕并現(xiàn)在進入清洗區(qū)段S。
在清洗區(qū)段S內(nèi)，金屬帶B引導(dǎo)通過多個輥子對2，該輥子對也包括一個位于帶材料B上方的輥子和一個位于帶材料下方的輥子。在清洗區(qū)段S的端部，在金屬帶B輸送到進一步隨后處理階段之前設(shè)置驅(qū)動輥子3。采用此驅(qū)動輥子3，可以檢測金屬帶B與設(shè)備中心在縱向上的偏移，并且在連接其中的電路中產(chǎn)生與金屬帶運行時的偏移成正比的驅(qū)動信號。
雖然輥子對2在清洗區(qū)段S內(nèi)安裝在固定位置上，并且其位置很大程度不可變化，兩對擠壓輥子1a、1b可圍繞通常位于金屬帶高度上的軸線轉(zhuǎn)動，該轉(zhuǎn)動的程度取決于來自驅(qū)動輥子3的正比驅(qū)動信號。因此，可以在金屬帶B上作用驅(qū)動作用，來消除離開材料帶所需位置的偏移量。使用兩組擠壓輥子1a、1b作為驅(qū)動輥子，由于其位置傾斜，實際上它們確實在金屬帶上具有驅(qū)動作用。另一方面，分開的驅(qū)動輥子3通常只用來測量金屬帶偏移。
如圖2更大比例的透視圖所示，所有擠壓輥子對1a-1d(例如四對)的支承4a-4d相對于金屬帶B的縱向中心安裝在公用的縱向支架5的一側(cè)上，并最好通過液壓缸或氣動缸6或另一施加力的裝置在設(shè)備的縱向上運動，該運動將擠壓輥子1a-1d相對于設(shè)備軸線設(shè)置在傾斜位置上，并因此在金屬帶上具有驅(qū)動作用。
該作用一方面通過根據(jù)隨后驅(qū)動輥子3的偏移啟動用于一個或多個缸6運動的轉(zhuǎn)換點和方向控制閥或比例閥來進行控制，或者通過由位于清洗區(qū)段之后的金屬帶中心測量裝置啟動的金屬帶追蹤裝置來定位擠壓輥子對1a-1d。
在簡單的結(jié)構(gòu)中，金屬帶位置測量裝置設(shè)置在運行全程方向上，最好在可調(diào)整的輥子之后，并且產(chǎn)生帶側(cè)向偏移其正常位置成正比的信號，其中該信號啟動輥子支承支架的驅(qū)動器，如果需要，還可通過位于其中的信號處理單元。
作為選擇，還可在另一方面提供裝置來測量金屬帶的位置，該裝置產(chǎn)生限制金屬帶側(cè)向偏離其正常位置的大小的信號，其中該信號通過位于其中的信號處理單元啟動輥子支承支架的驅(qū)動器。
有利的是驅(qū)動輥子或任何驅(qū)動單元驅(qū)動方向控制閥或比例閥，以便啟動工作缸。
權(quán)利要求
1.一種用于化學(xué)處理金屬帶表面的設(shè)備，特別是用于浸蝕和/或清洗金屬帶，其包括至少一個處理階段以及用于金屬的引導(dǎo)和擠壓輥子，其特征在于，位于至少一個處理階段(S)之后的至少兩個輥子或兩個輥子對(1a-1d)，其中一個輥子在材料上方而一個輥子在材料下方，輥子在相對于設(shè)備的縱向軸向的至少一側(cè)上的可調(diào)整支承上運行，輥子相互同步并在與材料運行的方向相同的方向上相互平行。
2.如權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其特征在于，所有同步調(diào)整的輥子或輥子對(1a-1d)的支承(4a-4d)安裝在通過驅(qū)動器(6)可以在設(shè)備的縱向進行調(diào)整的支架(5)上
3.如權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其特征在于，位于至少一個處理階段(S)之后的輥子(1a-1d)的所有支承(4a-4d)可相對于設(shè)備的縱向軸線安裝在通過驅(qū)動器(6)可以在設(shè)備的縱向進行調(diào)整的支架(5)的至少一側(cè)上。
4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的設(shè)備，其特征在于，以一個輥子在材料上方而一個輥子在材料下方的形式形成的兩個輥子或兩個輥子對的輥子支承相對于設(shè)備的縱向軸線安裝在通過驅(qū)動器可以在設(shè)備的縱向進行調(diào)整的支架的每一側(cè)上。
5.如上述權(quán)利要求任一項所述的設(shè)備，其特征在于，通過流體操作的工作缸(6)來提供該驅(qū)動器。
全文摘要
一種用于化學(xué)處理金屬帶表面的設(shè)備，特別是用于浸蝕和/或清洗金屬帶，其包括至少一個處理階段以及用于材料(B)的引導(dǎo)輥子(2)和擠壓輥子(1a－1d)。為了使得金屬帶盡可能靠近中央位置運行離開浸蝕(處理)設(shè)備，以致于隨后驅(qū)動輥子沒有任何困難地操作，至少兩個輥子或兩個輥子對(1a－1d)位于至少一個處理階段(S)之后，其中一個輥子在材料上方而一個輥子在材料下方，輥子在相對于設(shè)備的縱向軸向的至少一側(cè)上的可調(diào)整支承上運行，輥子相互同步并在與材料運行的方向相同的方向上相互平行。
文檔編號C23G3/02GK1572906SQ20041004577
公開日2005年2月2日 申請日期2004年5月28日 優(yōu)先權(quán)日2003年5月30日
發(fā)明者W·科扎, H·克拉平格爾 申請人:安德里茨有限公司