專利名稱：磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的制造方法，更具體涉及一種制造方法，其能夠制造磁記錄介質(zhì)用玻璃基體，該方法在磁記錄層一側(cè)玻璃基體表面的周邊上，在相當(dāng)程度上不引起邊緣凹凸(edge-sagging)，該周邊光滑均勻，甚至在磁記錄層一側(cè)上玻璃基體表面的最外周邊區(qū)域也是如此，并且其含有相當(dāng)少量的表面疵點(diǎn)。
作為常規(guī)磁記錄介質(zhì)用基體，主要使用的是經(jīng)多步加工方法，以Ni-P鍍覆鋁合金板，然后拋光該板的鍍覆主表面而制備的各種基體。
但是，甚至在便攜式電腦例如筆記本個(gè)人電腦中，目前也已采用磁盤(pán)記錄裝置，而且該磁記錄介質(zhì)應(yīng)當(dāng)以不少于10000rpm級(jí)別的高速度旋轉(zhuǎn)，以便提高磁盤(pán)記錄裝置的反應(yīng)速度。為此，需要開(kāi)發(fā)一種磁盤(pán)記錄介質(zhì)用基體，該基體具有能耐受這類(lèi)嚴(yán)酷條件的高強(qiáng)度。作為能滿足前述要求的這類(lèi)基體，人們已采用了玻璃基體。
這類(lèi)被廣泛采用的磁記錄介質(zhì)用玻璃基體，包括例如，化學(xué)增強(qiáng)的玻璃基體，其強(qiáng)度靠化學(xué)增強(qiáng)處理得以改進(jìn)；或者結(jié)晶玻璃基體，其制備經(jīng)過(guò)熔化，以及為獲得玻璃基體而模制玻璃材料，并在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)將該玻璃基體保持在范圍600-800℃的高溫以便在該基體中或在玻璃基質(zhì)中部分分離出晶體相。
化學(xué)增強(qiáng)玻璃基體是，例如經(jīng)過(guò)熔化玻璃材料并將該熔體形成用于化學(xué)增強(qiáng)玻璃基體的玻璃基體，然后讓該玻璃基體經(jīng)受研磨和拋光處理，并將其浸入例如硝酸鈉或硝酸鉀的熔融鹽中，以便在其表面層中形成一壓縮的受壓層，從而獲得的一種基體。結(jié)晶玻璃是這樣一種玻璃，其包含40-80％的晶體相和20-60％的無(wú)定形玻璃相，并且晶體相的作用使它的強(qiáng)度提高。
磁盤(pán)記錄裝置的存儲(chǔ)容量已被大大提高，已經(jīng)觀察到一種傾向，即，甚至在該磁記錄層一側(cè)接近該基體周邊的區(qū)域內(nèi)，在磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面上形成磁記錄層，并且將這樣形成的周邊區(qū)域用作磁記錄層，以便改進(jìn)每一磁記錄介質(zhì)的記錄容量。為此，要求甚至在其周邊附近的區(qū)域內(nèi)確立磁記錄介質(zhì)的高光滑度。另外，磁記錄介質(zhì)用元件被顯著微型化，以便增加記錄密度，并因此還要求磁記錄介質(zhì)用玻璃基體上的疵點(diǎn)應(yīng)當(dāng)更小，并且其數(shù)量應(yīng)相當(dāng)?shù)販p少。
但是，在當(dāng)通過(guò)按照公知方法研磨和拋光這類(lèi)玻璃材料制備磁記錄介質(zhì)用玻璃基體時(shí)的拋光步驟中，很難穩(wěn)定地制造邊緣凹凸(edge-sagging)程度落在要求范圍內(nèi)的玻璃基體，該方法使用例如發(fā)泡聚氨酯型的硬磨耗布或例如麂皮型的軟磨耗布，并且磨耗液含約數(shù)個(gè)百分?jǐn)?shù)的含鈰磨料，該磨料的平均粒度范圍是約0.5-2μm。
當(dāng)拋光機(jī)生產(chǎn)商制造用于拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的雙側(cè)拋光裝置時(shí)，生產(chǎn)商一般通過(guò)在整個(gè)拋光過(guò)程中經(jīng)拋光而完成，將該裝置劃線臺(tái)表面的平整度調(diào)節(jié)到不多于50μm的水平。然而，在使上下劃線臺(tái)適合于實(shí)際使用的雙側(cè)拋光裝置時(shí)，不可能校正該劃線臺(tái)表面的平整度。為此，經(jīng)拋光機(jī)生產(chǎn)商調(diào)節(jié)過(guò)平整度的劃線臺(tái)被不做任何改動(dòng)或調(diào)節(jié)地使用。通常，該雙側(cè)拋光裝置中使用的磨耗布是一種彈性材料，從而某種程度上，由于磨耗布的彈性，可減輕劃線臺(tái)表面的變形。但是，在把磨耗布粘合在劃線臺(tái)表面時(shí)，如果繼續(xù)拋光步驟，由于劃線臺(tái)使用期間施加在劃線臺(tái)表面的壓力，以及拋光作業(yè)生成的熱，劃線臺(tái)表面會(huì)受到變形，并且該變形在其早期階段達(dá)到不少于100μm的水平。在這樣的條件下，劃線臺(tái)表面的變形量大于磨耗布的彈性量，因此，臺(tái)表面的變形不能因磨耗布的彈性而被減輕。結(jié)果，劃線臺(tái)表面條件(平整度)的改變或變形，以及在適配上劃線臺(tái)的磨耗布和適配下劃線臺(tái)的磨耗布之間的平行關(guān)系陷于混亂下繼續(xù)的拋光作業(yè)，都極大地影響磨耗布的表面狀況。這導(dǎo)致完成拋光所需的時(shí)間比要求的范圍延長(zhǎng)(這又導(dǎo)致每一塊磨耗布可拋光的玻璃基體的數(shù)量減少)。這還導(dǎo)致在玻璃基體上產(chǎn)生表面疵點(diǎn)，并且這成為邊緣凹凸的主要成因。
如果劃線臺(tái)的表面能被拋光到以致改進(jìn)該表面的平整度，同時(shí)，上下劃線臺(tái)與供拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的雙側(cè)拋光裝置適配，則前述問(wèn)題會(huì)容易地解決。
因此，本發(fā)明的目的是，提供磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的有效制造方法，該方法不在磁記錄層側(cè)玻璃基體表面周邊上引起任何可觀程度的邊緣凹凸，其甚至在接近磁記錄層一側(cè)表面的最外周邊也是光滑的，而且其在很大程度上沒(méi)有表面疵點(diǎn)。
本發(fā)明人為達(dá)成前述目的進(jìn)行了各種研究，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，通過(guò)改進(jìn)常規(guī)周知方法可完成上述發(fā)明目的，其步驟包括將磁記錄介質(zhì)用玻璃基體研磨到要求厚度，然后拋光該玻璃基體，這樣的改進(jìn)在使這些劃線臺(tái)與拋光該玻璃基體的雙側(cè)拋光裝置適配的同時(shí)上下劃線臺(tái)表面能被容易地拋光，通過(guò)把這些磨耗布分別粘合到相應(yīng)的上下劃線臺(tái)，能改進(jìn)磨耗布外表面平整度的精度，而且，通過(guò)將這些磨耗布在一起摩擦，可進(jìn)一步改進(jìn)磨耗布外表面的表面精度，這樣就完成了本發(fā)明。
按照本發(fā)明的第一方面，提供一種磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的制備方法，該方法包括如下步驟在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾有一塊供校正的磨耗板，同時(shí)，使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái)，以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別；然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上；此后，重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。
按照本發(fā)明的第二方面，提供一種用于磁記錄介質(zhì)玻璃基體的制備方法，該方法包括如下步驟在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾有一塊供校正的磨耗板，同時(shí)，使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái)，以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別；然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上，在上和下磨耗布之間夾有一塊供校正的磨耗板，不提供任何冷水地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，以此改進(jìn)這些磨耗布外表面的平整度精度；此后，重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。
按照本發(fā)明的第三方面，提供一種用于磁記錄介質(zhì)玻璃基體的制備方法，該方法包括如下步驟在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾有一塊供校正的磨耗板，同時(shí)，使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái)，以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別；然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上，在上和下磨耗布之間夾有一塊供校正的磨耗板，不提供任何冷水地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，以此改進(jìn)這些磨耗布外表面的平整度精度；然后，不使用任何校正磨耗板，通過(guò)使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，讓上和下磨耗布在一起摩擦，以此進(jìn)一步改進(jìn)該磨耗布外表面的平整度精度；此后，重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。
在根據(jù)本發(fā)明的磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的制造方法中，按照前述實(shí)施方案1、2或3重復(fù)地進(jìn)行玻璃基體拋光，接著除去磨耗布，然后，按照前述實(shí)施方案1、2或3，從開(kāi)始重復(fù)該制造方法。
以下更詳細(xì)地描述本發(fā)明。
在本發(fā)明的制造方法中，可使用的校正用磨耗板例如為，金屬粘合的砂輪、樹(shù)脂粘合的砂輪、玻璃狀材料粘合的砂輪，其含磨料顆粒，例如金剛石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅、氧化鋯和氧化鋁。
如上述，當(dāng)拋光機(jī)生產(chǎn)商制造供磁記錄介質(zhì)用玻璃基體拋光的雙側(cè)拋光裝置時(shí)，該生產(chǎn)商一般經(jīng)拋光而完成將該裝置劃線臺(tái)表面的平整度調(diào)節(jié)到不超過(guò)50μm的水平。在這一點(diǎn)上，本發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，需要將劃線臺(tái)表面的平整度控制到不超過(guò)30μm的水平，以便實(shí)現(xiàn)前述目的。臺(tái)表面的平整度可容易地調(diào)節(jié)到不超過(guò)30μm以及優(yōu)選的不超過(guò)10μm，方法是，使用如上述的校正用磨耗板，將磨耗板夾上和下劃線臺(tái)之間，同時(shí)，將這些劃線臺(tái)與供磁記錄介質(zhì)用玻璃基體拋光的雙側(cè)拋光裝置適配，提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上下劃線臺(tái)，以此拋光這些臺(tái)的表面。
按照本發(fā)明的制造方法，磨耗布可為用在拋光步驟的常規(guī)磨耗布，而且更具體地，它可以是例如發(fā)泡聚氨酯類(lèi)的硬磨耗布，或者例如麂皮類(lèi)的軟磨耗布，但是優(yōu)選使用硬磨耗布，因?yàn)樗氖褂檬谷魏芜吘壈纪谷菀追乐?，而且，允許以高拋光速度進(jìn)行拋光。
作為向劃線臺(tái)表面粘合磨耗布的手段，可使用粘合劑，但十分便利的是，事先將雙面膠帶粘合在磨耗布的背面，并在磨耗布實(shí)際使用前以雙面膠帶將磨耗布固定到拋光裝置的上下劃線臺(tái)上。
如以上已論述的，在將磨耗布粘合到臺(tái)表面上時(shí)，可反復(fù)拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體，但更加優(yōu)選的是，在用粘合到臺(tái)表面的磨耗布完成拋光步驟時(shí)，維持或監(jiān)控上磨耗布和下磨耗布之間的平行化程度以及這些磨耗布的平整度?？刂七@些物理性能的方法是，在校正劃線臺(tái)時(shí)，將用于校正的磨耗板夾在上和下磨耗布之間，通過(guò)不提供任何冷水地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)致使平行化程度提高，從而改進(jìn)磨耗布外表面的平整度精度。在此階段，控制夾在上下磨耗布之間的校正用磨耗板的旋轉(zhuǎn)方向會(huì)更加有效。此后，優(yōu)選通過(guò)不使用任何校正磨耗板地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，讓上和下磨耗布在一起摩擦，以便進(jìn)一步改進(jìn)該磨耗布外表面的平整度精度，并進(jìn)一步提高平行化程度。
如上述，如果以良好控制的劃線臺(tái)表面平整度以及磨耗布的平整度和其平行度拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體，和常規(guī)拋光獲得的玻璃基體相比，所得的玻璃基體顯示相當(dāng)?shù)偷倪吘壈纪苟取?br> 在這方面，如果反復(fù)拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體，通常是，在最初或經(jīng)過(guò)要求時(shí)間的重復(fù)拋光作業(yè)之后，一般把4塊用于校正的磨耗板夾在上下磨耗布之間，然后，按照相反方向旋轉(zhuǎn)上下劃線臺(tái)，從而拋光磨耗布的外表面，以此控制磨耗布表面。這在本發(fā)明制造方法中也是優(yōu)選的。
另外，本發(fā)明制造方法采用常規(guī)拋光作業(yè)中使用的拋光材料，例如平均粒度范圍為0.5-2μm的含鈰拋光材料，該材料以含固量為數(shù)個(gè)百分?jǐn)?shù)的拋光液形式使用。
參考以下實(shí)施例和對(duì)比例，更具體地描述本發(fā)明，但本發(fā)明絲毫不受這些特定實(shí)施例的限制。
在以下實(shí)施例和對(duì)比例中，用以下方法評(píng)價(jià)平整度和周邊凹凸平整度由裝配的3 Dial Gages(度盤(pán)式指示器)提供量具(最小刻度1μm；自MITSUTOYO K.K.購(gòu)得)，以便同時(shí)測(cè)定劃線臺(tái)上3個(gè)位置的平整度，這3個(gè)位置距離適配雙面拋光裝置的劃線臺(tái)的外周邊50毫米、200毫米和350毫米，該裝置用于拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體。在參考板上，將該度盤(pán)式指示器設(shè)定在零位置，然后，在圓周角為90度的4個(gè)位置上(總共12個(gè)位置)測(cè)定平整度，并且將最大值確定所期望的平整度。
周邊凹凸使用(自Tokyo Seimitsu有限公司購(gòu)得)Surf Com 590A(觸針式表面粗糙度試驗(yàn)儀)測(cè)定的，如IDEMA(國(guó)際磁盤(pán)驅(qū)動(dòng)器設(shè)備和材料)標(biāo)準(zhǔn)第D2-91號(hào)文獻(xiàn)中所定義的碾軋尺寸(為負(fù)時(shí))或“滑雪跳臺(tái)”(為正時(shí))尺寸，并且將相應(yīng)于從參考線起γ＝31.5mm位置的偏差量(μm)假定為要求的周邊凹凸。測(cè)定3個(gè)玻璃基體(每個(gè)基體一個(gè)位置)的周邊凹凸值，從而獲得3次測(cè)量的平均值。
實(shí)施例1和對(duì)比例1
按照常規(guī)磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的制造程序，使硅酸鋰結(jié)晶玻璃板(自K.K.OHARA購(gòu)得的TS-10SX；該玻璃含70-80％石英-方英石以及平衡量的非晶相)經(jīng)受內(nèi)外直徑加工和研磨步驟，以便形成大量油炸圈餅狀的基體，該基體外直徑為65毫米，內(nèi)直徑為20毫米，且厚0.68毫米。
使含粒徑40-60μm分散在鎳合金基質(zhì)中金剛石顆粒的小丸與直徑420毫米的雙面鋁合金板適配，密度為60丸/面，形成用于校正的磨耗板。將如此制造的校正用磨耗板(4片)夾心到16B雙面拋光裝置(自Hamai有限公司購(gòu)得)的上下劃線臺(tái)之間，同時(shí)，將這些上下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，然后在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)上下劃線臺(tái)，以便拋光這些臺(tái)的表面。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為20rpm；施加的載荷為1470N；并且拋光時(shí)間設(shè)定為20分鐘。
拋光前該臺(tái)表面的平整度為40微米，但是在拋光后觀察到平整度提高且其為10微米。
至于磨耗布，用雙面膠帶將MHC15A(發(fā)泡聚氨酯；自Rodel Nitta有限公司購(gòu)得)粘合到這些表面平整度已經(jīng)提高的劃線臺(tái)的表面上。在重復(fù)拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體之前，將前述校正用磨耗板(4片)夾在上下磨耗布之間，并以相反方向旋轉(zhuǎn)上下劃線臺(tái)，同時(shí)供給冷水，從而拋光磨耗布的外表面，并控制磨耗布的表面。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為60rpm；施加的載荷為980N；并且拋光時(shí)間設(shè)定為20分鐘。
然后，使用Mirek 801(自Mitsui Mining and Smelting有限公司購(gòu)得的含CeO2磨料；D50＝1.5μm)作為拋光材料，拋光前述油炸圈餅狀基體。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為40rpm；施加的載荷為980Pa；并且發(fā)現(xiàn)拋光量為15μm每面。該拋光作業(yè)重復(fù)5次，并且測(cè)定每次拋光作業(yè)的周邊凹凸。所得結(jié)果列于下表1
表1
分開(kāi)地，按照和上述相同的步驟拋光前述油炸圈餅狀基體，所不同的是，在改進(jìn)其表面平整度之前，使用雙面膠帶將MHC15A(從Rodel Nitta有限公司購(gòu)得的發(fā)泡聚氨酯)粘合到劃線臺(tái)的表面。重復(fù)5次拋光作業(yè)，并且測(cè)定每次拋光作業(yè)的周邊凹凸。這樣獲得的結(jié)果列于下表2表2
實(shí)施例2在和實(shí)施例1中所用條件相同的情況下，拋光16B雙面拋光裝置(自Hamai有限公司購(gòu)得)的上下劃線臺(tái)。在此階段，沿其半徑方向測(cè)定的劃線臺(tái)表面平整度為10μm。
至于磨耗布，用雙面膠帶將MHC15A(發(fā)泡聚氨酯；自Rodel Nitta有限公司購(gòu)得)粘合到這些表面平整度已經(jīng)提高的劃線臺(tái)的表面上。然后，將實(shí)施例1中使用的校正用磨耗板(4片)夾在上下磨耗布之間，并以相反方向旋轉(zhuǎn)上下劃線臺(tái)，同時(shí)不提供任何冷水，從而拋光磨耗布的外表面，并改進(jìn)該磨耗布的表面平整度。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為20rpm；施加的載荷為1470N；并且拋光時(shí)間設(shè)定為30分鐘。
在重復(fù)拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體之前，將前述校正用磨耗板(4片)夾在上下磨耗布之間，并以相反方向旋轉(zhuǎn)上下劃線臺(tái)，同時(shí)供給冷水，從而拋光磨耗布的外表面，并控制磨耗布的表面。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為60rpm；施加的載荷為980N；并且拋光時(shí)間設(shè)定為20分鐘。
然后，使用Mirek 801(從Mitsui Mining and Smelting有限公司購(gòu)得的含CeO2磨料；D50＝1.5μm)作為拋光材料，拋光前述油炸圈餅狀基體。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為40rpm；施加的載荷為980Pa；并且發(fā)現(xiàn)拋光量為15μm每面。該拋光作業(yè)重復(fù)5次，并且測(cè)定每次拋光作業(yè)的周邊凹凸。所得結(jié)果列于下表3表3
實(shí)施例3在和實(shí)施例1中所用條件相同的情況下，拋光16B雙面拋光裝置(自Hamai有限公司購(gòu)得)的上下劃線臺(tái)，并按實(shí)施例2同樣的條件拋光磨耗布的外表面，從而改進(jìn)其表面平整度。然后，通過(guò)不使用任何校正磨耗板地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，讓上和下磨耗布在一起摩擦，以便改進(jìn)該磨耗布外表面的平整度精度。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為30rpm；施加的載荷為980N；并且拋光時(shí)間設(shè)定為10分鐘。
在重復(fù)拋光磁記錄介質(zhì)用玻璃基體之前，將前述校正用磨耗板(4片)夾在上下磨耗布之間，并以相反方向旋轉(zhuǎn)上下劃線臺(tái)，同時(shí)供給冷水，從而拋光磨耗布的外表面，并控制磨耗布的表面。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為60rpm；施加的載荷為980N；并且拋光時(shí)間設(shè)定為20分鐘。
然后，使用Mirek 801(自Mitsui Mining and Smelting有限公司購(gòu)得的含CeO2磨料；D50＝1.5μm)作為拋光材料，拋光前述油炸圈餅狀基體。在這一點(diǎn)上，在以下條件下進(jìn)行拋光作業(yè)上下劃線臺(tái)的旋轉(zhuǎn)數(shù)分別設(shè)定為40rpm；施加的載荷為980Pa；并且發(fā)現(xiàn)拋光量為15μm每面。該拋光作業(yè)重復(fù)5次，并且測(cè)定每次拋光作業(yè)的周邊凹凸。所得結(jié)果列于下表4表4
如以上已詳細(xì)描述的，本發(fā)明的制造方法可有效制造一種極好的磁記錄介質(zhì)用玻璃基體。所得的磁記錄介質(zhì)用玻璃基體沒(méi)有任何顯著程度的周邊凹凸，甚至在磁記錄層一側(cè)上玻璃基體表面的周邊區(qū)域也是如此，甚至在磁記錄層一側(cè)上最外周邊附近的區(qū)域，該玻璃基體表面的光滑度或平整度以及一致性也很出色，而且該玻璃基體沒(méi)有任何明顯量的表面疵點(diǎn)。
權(quán)利要求
1.磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的一種制備方法，該方法包括如下步驟在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾心一塊供校正的磨耗板，同時(shí)，使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái)，以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別；然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上；此后，重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。
2.磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的一種制備方法，該方法包括如下步驟在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾有一塊供校正的磨耗板，同時(shí)，使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái)，以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別；然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上，在上和下磨耗布之間夾有一塊供校正的磨耗板，不提供任何冷水地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，以此改進(jìn)這些磨耗布外表面的平整度精度；此后，重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。
3.磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的一種制備方法，該方法包括如下步驟在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾心一塊供校正的磨耗板，同時(shí)，使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配，在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái)，以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別；然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上，在上和下磨耗布之間夾有一塊供校正的磨耗板，不提供任何冷水地使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，以此改進(jìn)這些磨耗布外表面的平整度精度；然后，不使用任何校正磨耗板，通過(guò)使這些磨耗布與該上和下劃線臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)，讓上和下磨耗布在一起摩擦，以此進(jìn)一步改進(jìn)該磨耗布外表面的平整度精度；此后，重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。
4.如權(quán)利要求1、2或3所提出的磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的制造方法，其中按照如前述權(quán)利要求1、2或3所提出的方法，重復(fù)地進(jìn)行玻璃基體的拋光，接著除去磨耗布，然后，從開(kāi)始重復(fù)如權(quán)利要求1、2或3所提出的制造方法。
5.如權(quán)利要求1至3任何一項(xiàng)所述的方法，其中磨耗板是金屬粘合的砂輪或樹(shù)脂粘合的砂輪，其含金剛石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅、氧化鋯和氧化鋁的磨料顆粒。
6.如權(quán)利要求4所述的方法，其中磨耗板是金屬粘合的砂輪或樹(shù)脂粘合的砂輪，其含金剛石、立方氮化硼、碳化硼、碳化硅、氧化鋯和氧化鋁的磨料顆粒。
全文摘要
磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的一種制備方法,該方法包括如下步驟:在拋光玻璃基體所用的雙側(cè)拋光裝置的上和下兩劃線臺(tái)之間夾心一塊供校正的磨耗板,同時(shí),使該上和下劃線臺(tái)與該拋光裝置適配,在提供冷水的同時(shí)以相反方向旋轉(zhuǎn)該上和下劃線臺(tái),以此將這些劃線臺(tái)的表面拋光到臺(tái)表面的平整度不超過(guò)30μm的級(jí)別;然后將磨耗布分別粘在該上下劃線臺(tái)上;此后,重復(fù)地拋光該磁記錄介質(zhì)用玻璃基體的表面。本發(fā)明方法可有效制造一種極好的磁記錄介質(zhì)用玻璃基體。甚至在磁記錄層一側(cè)上玻璃基體表面的周邊區(qū)域,該玻璃基體也沒(méi)有任何顯著程度的周邊凹凸,甚至在磁記錄層一側(cè)上最外周邊附近的區(qū)域,該玻璃基體表面的光滑度或平整度以及一致性也很出色,而且該玻璃基體沒(méi)有任何明顯量的表面疵點(diǎn)。
文檔編號(hào)B24B53/017GK1336637SQ0112430
公開(kāi)日2002年2月20日 申請(qǐng)日期2001年6月9日 優(yōu)先權(quán)日2000年6月9日
發(fā)明者藤村明男, 保坂俊雄, 益永純次 申請(qǐng)人:三井金屬礦業(yè)株式會(huì)社