本發(fā)明涉及一種液晶面板制造技術(shù)，特別是一種用于陣列制程涂膠、曝光后進(jìn)行顯影制程的用于顯影設(shè)備的排氣箱及黃光制程顯影設(shè)備。

背景技術(shù)：

薄膜晶體管液晶顯示器制程中，陣列制程的黃光制程涂膠、曝光后進(jìn)行的顯影制程，多采用浸漬處理方式(Puddle方式)，主要作用是：當(dāng)是正性光阻時，與曝光后的光阻進(jìn)行反應(yīng)使其溶解在顯影液中，當(dāng)是負(fù)性光阻時，與沒有曝光的光阻進(jìn)行反應(yīng)使其溶解在顯影液中，經(jīng)過顯影制程后，基板光阻可以定義出曝光膜(Mask)的圖形，對底層須定義的電路圖形進(jìn)行保護(hù)，再進(jìn)行后續(xù)蝕刻與光阻剝離制程，最終在基板上制作出電路圖形。目前，經(jīng)過涂布曝光制程后的基板執(zhí)行Puddle方式顯影時，可能因為廠務(wù)排氣流量不穩(wěn)定，導(dǎo)致顯影腔體排氣出現(xiàn)氣流紊亂，將可能導(dǎo)致在顯影液未涂布前，顯影蒸汽提前轟擊至基板的光阻上，由于陣列制成中光阻對顯影液異常敏感，將導(dǎo)致基板上部分光阻提前顯影，造成本該有光阻保護(hù)的區(qū)域裸露，出現(xiàn)光阻斷線問題，進(jìn)而后續(xù)蝕刻制程時，造成電路圖形斷路。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種用于顯影設(shè)備的排氣箱及黃光制程顯影設(shè)備，從而使顯影腔室內(nèi)的排氣均勻。

本發(fā)明提供了一種用于顯影設(shè)備的排氣箱，包括箱體，所述箱體的其中一側(cè)表面上設(shè)有均勻分布的排氣孔，在箱體上設(shè)有與箱體內(nèi)腔連通的連接管。

進(jìn)一步地，所述排氣孔呈蜂窩狀排布。

進(jìn)一步地，所述排氣孔的孔徑為10～20mm。

進(jìn)一步地，所述箱體為長方體。

本發(fā)明還提供了一種黃光制程顯影設(shè)備，包括多個相互拼接而成的顯影腔室，在顯影腔室中設(shè)有用于將待顯影基板依次輸送至每個顯影腔室中的傳送機構(gòu)，在每個顯影腔室的同一位置上分別設(shè)有與顯影腔室連通的排氣管，所述排氣管上設(shè)有風(fēng)量調(diào)節(jié)閥，還包括所述的用于顯影設(shè)備的排氣箱，每個顯影腔室內(nèi)分別設(shè)有一個與排氣管連接的排氣箱，所述排氣孔與顯影腔室的頂部相對，連接管與排氣管相連。

進(jìn)一步地，每個排氣管的排氣量按照顯影腔室的排列順序從頭到尾排氣量依次增大。

進(jìn)一步地，所述排氣孔呈蜂窩狀排布。

進(jìn)一步地，所述排氣孔的孔徑為10～20mm。

進(jìn)一步地，所述箱體為長方體。

進(jìn)一步地，所述箱體的長度為300～800mm，寬度為100～200mm，高度為100～200mm。

本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過設(shè)置排氣箱，在排氣箱上均勻設(shè)置排氣孔并且排氣孔朝上，使得顯影腔室內(nèi)的排氣均勻，避免單一排氣孔排氣造成顯影蒸汽流向紊亂現(xiàn)象，改善黃光制成后因顯影排氣設(shè)計不合理造成的光阻破孔及光阻線路斷線現(xiàn)象。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的排氣箱的外部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明的排氣箱的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明的黃光制程顯影設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4是本發(fā)明的黃光制程顯影設(shè)備的局部示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)說明。

如圖1和圖2所示，本發(fā)明的用于顯影設(shè)備的排氣箱包括箱體1，箱體1所述箱體1的其中一側(cè)表面上設(shè)有均勻分布的排氣孔2，在箱體1上設(shè)有與箱體1內(nèi)腔連通的連接管3；所述排氣孔2設(shè)置在箱體1面積最大的一側(cè)表面上。

作為箱體1的一種較佳實施方式，箱體1為長方體，具有四個上、下、左右四個端面以及兩個側(cè)面，排氣孔2設(shè)置在其中一個端面上；箱體1優(yōu)選為：長度為300～800mm，寬度為100～200mm，高度為100～200mm；本發(fā)明箱體1的尺寸不限于此，還可根據(jù)顯影設(shè)備的顯影腔室的大小進(jìn)行調(diào)整。

所述排氣孔2呈蜂窩狀排布，排氣孔2的孔徑為10～20mm，排氣孔2的密度可根據(jù)實際要求進(jìn)行設(shè)置。

如圖3和圖4所示，本發(fā)明的一種黃光制程顯影設(shè)備，其主要改進(jìn)部分為增加了如圖1和圖2所示的排氣箱，其余部件與現(xiàn)有技術(shù)相同，并未做改進(jìn)，黃光制成顯影設(shè)備主要包括多個相互拼接而成的顯影腔室5，在顯影腔室5中設(shè)有用于將待顯影基板依次輸送至每個顯影腔室5中的傳送機構(gòu)6，位于傳送機構(gòu)6上方、顯影腔室5中的顯影液涂布裝置；在每個顯影腔室5的同一位置上分別設(shè)有與顯影腔室5連通的排氣管7，使顯影腔室5的腔室壁上形成一個排氣口，排氣管7與廠務(wù)排氣連接，所述排氣管7上設(shè)有風(fēng)量調(diào)節(jié)閥4，每個顯影腔室5內(nèi)分別設(shè)有一個與排氣管7連接的排氣箱，所述排氣孔2與顯影腔室5的頂部相對，即排氣孔2朝上設(shè)置，連接管3從排氣口插入與排氣管7相連。在每個排氣管7上設(shè)置排氣箱，使得各排氣管均勻排氣，避免氣流發(fā)生紊亂現(xiàn)象。

本發(fā)明中將排氣孔2朝上設(shè)置，可以最大限度的引導(dǎo)排氣箱上，避免對基板造成影響。

具體地，如圖4所示，由于一般情況下，排氣管7設(shè)于設(shè)置在基板前進(jìn)方向的一側(cè)腔室壁上，因此，連接管3設(shè)于與排氣孔2相鄰的一端面上，從而使連接管3能夠與排氣管7連接后排氣孔2始終朝上，但連接管3的設(shè)置不限于此，具體可根據(jù)黃光制成顯影設(shè)備中與顯影腔室5連接的排氣管7的具體位置進(jìn)行設(shè)置，在此不做具體限定。

本發(fā)明中，每個排氣管7的排氣量按照顯影腔室5的排列順序從頭到尾排氣量依次增大，其風(fēng)壓在-50～-300帕之間從小到大進(jìn)行設(shè)置，具體地，一般情況下，顯影腔室5設(shè)有3個，根據(jù)基板的移動方向每個顯影腔室5中排氣管7的排氣量(吸力，負(fù)風(fēng)壓)分別為-100～-50帕、-200～-100帕、-300～-200帕，由于排風(fēng)其是指為將顯影腔室5內(nèi)的氣流吸走，因此負(fù)值表示為排風(fēng)的吸力，為負(fù)風(fēng)壓。

所述黃光制成顯影設(shè)備中排氣箱上排氣孔2呈蜂窩狀排布；排氣孔2的孔徑為10～20mm；所述箱體1為長方體箱體1優(yōu)選為：長度為300～800mm，寬度為100～200mm，高度為100～200mm；本發(fā)明箱體1的尺寸不限于此，還可根據(jù)顯影設(shè)備的顯影腔室的大小進(jìn)行調(diào)整。

雖然已經(jīng)參照特定實施例示出并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員將理解：在不脫離由權(quán)利要求及其等同物限定的本發(fā)明的精神和范圍的情況下，可在此進(jìn)行形式和細(xì)節(jié)上的各種變化。