1.一種用于半導體無掩膜直寫曝光設備的吸盤定位裝置，其特征在于：包括沿吸盤組件的徑向開設的第一滑槽和第二滑槽，所述第一滑槽至吸盤組件圓心的延長線與第二滑槽至吸盤組件圓心的延長線相互垂直，所述第一滑槽和第二滑槽上均安裝有自動定位組件，所述自動定位組件包括電動位移滑臺以及安裝在電動位移滑臺上的定位塊，所述定位塊的上表面高于吸盤組件的上表面。
2.根據(jù)權利要求1所述的用于半導體無掩膜直寫曝光設備的吸盤定位裝置，其特征在于：所述定位塊通過第一內(nèi)六角螺栓安裝在電動位移滑臺上；所述第一滑槽和第二滑槽的底部均開設有用于放置電動位移滑臺的凹槽，所述電動位移滑臺通過第二內(nèi)六角螺栓安裝在凹槽內(nèi)。
3.根據(jù)權利要求1所述的用于半導體無掩膜直寫曝光設備的吸盤定位裝置，其特征在于：所述定位塊的上表面比吸盤組件的上表面高0.7～1mm。