本實(shí)用新型涉及激光直寫(xiě)曝光機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種用于半導(dǎo)體無(wú)掩膜直寫(xiě)曝光設(shè)備的吸盤(pán)定位裝置。

背景技術(shù)：

在半導(dǎo)體光刻機(jī)領(lǐng)域中，襯底定位是光刻設(shè)備曝光前的重要工序，在設(shè)備曝光工序前，需要將襯底放置于吸盤(pán)上并定位襯底在吸盤(pán)上的位置。如果吸盤(pán)上不加定位裝置，襯底在吸盤(pán)上隨意放置，由于曝光設(shè)備的技術(shù)限制會(huì)極大增加機(jī)臺(tái)尋找MARK的時(shí)間甚至出現(xiàn)無(wú)法找到MARK進(jìn)行曝光的情況，因此吸盤(pán)上需設(shè)計(jì)有定位裝置。傳統(tǒng)的吸盤(pán)定位裝置是按照不同的襯底尺寸在吸盤(pán)上加工銷(xiāo)釘孔（銷(xiāo)釘孔用于插銷(xiāo)釘進(jìn)行定位），每種規(guī)格至少要有三個(gè)定位孔定位，因此加工襯底前，按照所要加工襯底尺寸在相應(yīng)的銷(xiāo)釘孔內(nèi)插上銷(xiāo)釘做定位。由于設(shè)備曝光焦距很小，銷(xiāo)釘一般最多只能高于吸盤(pán)面1mm，且由于襯底規(guī)格較多，導(dǎo)致吸盤(pán)面上密布銷(xiāo)釘孔以適用于不同的襯底（晶元、掩膜版）尺寸，這又帶來(lái)問(wèn)題就是銷(xiāo)釘?shù)倪x擇中無(wú)法選用直徑較大的銷(xiāo)釘，造成了更換、定位銷(xiāo)釘時(shí)很困難，僅高出吸盤(pán)面1mm且直徑很小的銷(xiāo)釘很難取出。若遇到特殊規(guī)格的襯底時(shí)，則更加無(wú)法加工。如何設(shè)計(jì)出一種使用方便、規(guī)格可調(diào)的吸盤(pán)定位裝置已經(jīng)成為急需解決的技術(shù)問(wèn)題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于半導(dǎo)體無(wú)掩膜直寫(xiě)曝光設(shè)備的吸盤(pán)定位裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中吸盤(pán)定位銷(xiāo)釘更換困難、定位襯底尺寸兼容性差的缺陷。

本實(shí)用新型的技術(shù)方案為：

一種用于半導(dǎo)體無(wú)掩膜直寫(xiě)曝光設(shè)備的吸盤(pán)定位裝置，包括沿吸盤(pán)組件的徑向開(kāi)設(shè)的第一滑槽和第二滑槽，所述第一滑槽至吸盤(pán)組件圓心的延長(zhǎng)線(xiàn)與第二滑槽至吸盤(pán)組件圓心的延長(zhǎng)線(xiàn)相互垂直，所述第一滑槽和第二滑槽上均安裝有自動(dòng)定位組件，所述自動(dòng)定位組件包括電動(dòng)位移滑臺(tái)以及安裝在電動(dòng)位移滑臺(tái)上的定位塊，所述定位塊的上表面高于吸盤(pán)組件的上表面。

所述的用于半導(dǎo)體無(wú)掩膜直寫(xiě)曝光設(shè)備的吸盤(pán)定位裝置，所述定位塊通過(guò)第一內(nèi)六角螺栓安裝在電動(dòng)位移滑臺(tái)上；所述第一滑槽和第二滑槽的底部均開(kāi)設(shè)有用于放置電動(dòng)位移滑臺(tái)的凹槽，所述電動(dòng)位移滑臺(tái)通過(guò)第二內(nèi)六角螺栓安裝在凹槽內(nèi)。

所述的用于半導(dǎo)體無(wú)掩膜直寫(xiě)曝光設(shè)備的吸盤(pán)定位裝置，所述定位塊的上表面比吸盤(pán)組件的上表面高0.7～1mm。

本實(shí)用新型的有益效果為：

由上述技術(shù)方案可知，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型適用于所有標(biāo)準(zhǔn)尺寸襯底及非標(biāo)準(zhǔn)尺寸襯底的吸盤(pán)定位，且定位調(diào)節(jié)能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)控制，具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、調(diào)節(jié)簡(jiǎn)便、定位精確、兼容性強(qiáng)的特點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型的自動(dòng)定位組件的橫向剖面圖；

圖3是本實(shí)用新型定位掩膜版時(shí)的應(yīng)用示意圖；

圖4是本實(shí)用新型定位晶元時(shí)的應(yīng)用示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例進(jìn)一步說(shuō)明本實(shí)用新型。

如圖1所示，一種用于半導(dǎo)體無(wú)掩膜直寫(xiě)曝光設(shè)備的吸盤(pán)定位裝置，包括吸盤(pán)組件0，吸盤(pán)組件0上設(shè)有用于吸附襯底的氣道，在現(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)需要進(jìn)行定位時(shí)，在吸盤(pán)組件0成90度布置的兩個(gè)半徑方向設(shè)置兩個(gè)定位螺釘，通過(guò)這兩個(gè)定位螺釘進(jìn)行定位，但定位螺釘?shù)娜〕龇浅２槐?，更無(wú)法進(jìn)行定位螺釘?shù)奈⒄{(diào)，因此，本實(shí)用新型中吸盤(pán)組件0上設(shè)置第一滑槽1和第二滑槽2，第一滑槽1和第二滑槽2同樣均位于吸盤(pán)組件0的半徑上，第一滑槽1至吸盤(pán)組件0圓心的延長(zhǎng)線(xiàn)與第二滑槽2至吸盤(pán)組件0圓心的延長(zhǎng)線(xiàn)所形成的的夾角為90度，即第一滑槽1和第二滑槽2兩者以吸盤(pán)組件0圓心為基準(zhǔn)呈90度布置。

第一滑槽1和第二滑槽2上均安裝有自動(dòng)定位組件，自動(dòng)定位組件包括電動(dòng)位移滑臺(tái)4以及通過(guò)兩個(gè)第一內(nèi)六角螺栓6安裝在電動(dòng)位移滑臺(tái)4上的定位塊5，電動(dòng)位移滑臺(tái)4帶動(dòng)定位塊5能夠在第一滑槽1和第二滑槽2內(nèi)滑動(dòng)定位，以吸盤(pán)組件0的面為平臺(tái)，安裝在第一滑槽1上的自動(dòng)定位組件用于進(jìn)行左右（橫向）方向的定位，安裝在第二滑槽2上的自動(dòng)定位組件用于進(jìn)行上下（縱向）方向的定位。

電動(dòng)位移滑臺(tái)4帶動(dòng)定位塊5在第一滑槽1和第二滑槽2內(nèi)滑動(dòng)，可以使用現(xiàn)有技術(shù)中的多種方式，如圖2所示，可以在第一滑槽1和第二滑槽2的底部設(shè)有凹槽3，電動(dòng)位移滑臺(tái)4通過(guò)四個(gè)第二內(nèi)六角螺栓7安裝在凹槽3內(nèi)。定位塊5的上表面高于吸盤(pán)組件0的上表面，從而能夠?qū)崿F(xiàn)定位作用，最好可以將定位塊5的上表面設(shè)計(jì)比吸盤(pán)組件0的上表面高0.7～1mm，即當(dāng)定位塊5安裝在電動(dòng)位移滑臺(tái)4上時(shí)，定位塊5的上表面比吸盤(pán)組件0的上表面高0.7～1mm。

實(shí)際使用時(shí)，如圖3和圖4所示，當(dāng)需要進(jìn)行掩膜版8或晶元9（襯底）定位時(shí)，在計(jì)算機(jī)上輸入所需襯底規(guī)格，計(jì)算機(jī)控制電動(dòng)位移滑臺(tái)4進(jìn)行調(diào)整，電動(dòng)位移滑臺(tái)4帶動(dòng)定位塊5運(yùn)動(dòng)，調(diào)整完畢后，即可進(jìn)行掩膜版8或晶元9的定位工作。

以上所述實(shí)施方式僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式進(jìn)行描述，并非對(duì)本實(shí)用新型的范圍進(jìn)行限定，在不脫離本實(shí)用新型設(shè)計(jì)精神的前提下，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案作出的各種變形和改進(jìn)，均應(yīng)落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求書(shū)確定的保護(hù)范圍內(nèi)。